显示装置
    21.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113287368A

    公开(公告)日:2021-08-20

    申请号:CN201980088682.7

    申请日:2019-01-17

    Abstract: 包括;第一树脂层(8),在构成TFT层的至少一层的无机绝缘膜(17)中,以将沿着弯曲部(B)的延伸方向形成的狭缝(S)填埋的方式设置;以及多个第一引绕配线(18h),设置在第一树脂层(8)上,与弯曲部(B)的延伸方向正交的方向互相平行地延伸,在第一树脂层(8)和各第一引绕配线(18h)之间,与第一树脂层(8)和各第一引绕配线(18h)接触,并且以与各第一引绕配线(18h)的至少一部分重叠的方式设置有第一保护层(7a)。

    显示装置
    22.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112997236A

    公开(公告)日:2021-06-18

    申请号:CN201880099376.9

    申请日:2018-11-16

    Abstract: 由于设置于边框区域的外缘附近的TEG设置于显示区域,且实际上配置于远离用于显示画面的TFT的位置,从而存在与显示区域内的TFT的特性的变化的方式不同的风险。因此,提供一种显示装置,所述显示装置的特征在于:TEG图案设置于显示区域与沟槽之间,虚设像素电路设置于显示区域与堰堤壁之间,TEG图案设置于显示区域的外侧,并且至少虚设电路相邻地设置。

    显示基板以及显示装置
    23.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108352138B

    公开(公告)日:2020-09-29

    申请号:CN201680061839.3

    申请日:2016-11-01

    Abstract: 阵列基板11b包括:多个输入端子部28;第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20,使第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a配设于多个输入端子部28与显示区域AA之间;多个端子布线部29,配设于第一层间绝缘膜19以及第一平坦化膜20的上层侧而跨越第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a并且与多个输入端子部28连接;第二平坦化膜22,其配设于多个端子布线部29的上层侧且第二平坦化膜端部22a配设于比第一层间绝缘膜端部19a以及第一平坦化膜端部20a靠输入端子部28侧;以及多个保护部30,配设于第二平坦化膜22的上层侧而分别覆盖多个端子布线部29中的与第二平坦化膜22非重叠的部分。

    半导体装置及其制造方法
    26.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103545318B

    公开(公告)日:2017-12-15

    申请号:CN201310302897.9

    申请日:2013-07-17

    CPC classification number: H01L29/7869 H01L29/201

    Abstract: 本发明的一个方式提供如下半导体装置:使用氧化物半导体膜,将含有铜的金属膜用于布线或信号线等,具有稳定的电特性且高可靠性。本发明的一个方式是一种半导体装置,该半导体装置包括:栅电极;形成在该栅电极上的栅极绝缘膜;与该栅极绝缘膜接触且包含与该栅电极重叠的沟道形成区域的氧化物半导体膜:形成在该氧化物半导体膜上的源电极及漏电极;形成在该氧化物半导体膜、该源电极以及该漏电极上的氧化物绝缘膜,该源电极及该漏电极都包括:在该沟道形成区域的两端具有其一个端部的第一金属膜;形成在该第一金属膜上的含有铜的第二金属膜;形成在该第二金属膜上的第三金属膜,该第二金属膜形成在该第一金属膜的一个端部的内侧。

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