公开(公告)号：CN102033420B

公开(公告)日：2013-05-01

申请号：CN201010295533.9

申请日：2010-09-27

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 吉田光一郎

IPC: G03F1/32 ,  G03F7/00 ,  G02F1/1343

Abstract: 本发明涉及光掩模及其制造方法、图案转印方法及液晶显示装置制作方法。一种光掩模，该光掩模对形成在待蚀刻加工的被加工体上的抗蚀剂膜转印包含线与间隙图案的预定转印图案，使抗蚀剂膜成为在所述蚀刻加工中作为掩模的抗蚀剂图案，其中，利用半透光部设置形成在透明基板上的线与间隙图案的线图案，利用透光部设置间隙图案。

公开(公告)号：CN101201537B

公开(公告)日：2012-09-12

申请号：CN200710196456.X

申请日：2007-12-05

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 吉田光一郎 ,  平野照雅

IPC: G03F1/84 ,  G03F1/32 ,  G03F7/20 ,  G03F7/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/66

Abstract: 在本发明的灰色调掩模的检查方法中，经由照明光学系统(2)向灰色调掩模(3)照射从光源(1)发出的规定波长的光束，经由物镜系统(4)，由摄像部件(5)摄像经过灰色调掩模(3)的光束，求出摄像图像数据，根据该摄像图像数据，取得灰色调掩模的包含半透光部的区域的透过光强度分布数据。

公开(公告)号：CN102207675A

公开(公告)日：2011-10-05

申请号：CN201110080340.6

申请日：2011-03-31

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 吉田光一郎

IPC: G03F1/14 ,  G03F7/00 ,  G02F1/1343

Abstract: 本发明涉及光掩模及其制造方法。一种光掩模，其以如下方式形成：针对形成于待蚀刻加工的被加工体上的抗蚀剂膜，进行转印图案部的图案的转印，使抗蚀剂膜成为作为所述蚀刻加工中的掩模的抗蚀剂图案。在所述转印图案部中，设置有通过对形成在透明基板上的半透光膜进行构图而形成的透光部和半透光部。在透明基板的与所述转印图案部不同的区域中，设置由遮光膜形成的标记图案形成部。

公开(公告)号：CN101819377A

公开(公告)日：2010-09-01

申请号：CN201010126137.3

申请日：2010-02-26

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 吉田光一郎 ,  田中淳一

IPC: G03F1/08

Abstract: 本发明提供一种多色调光掩模评价方法。针对多色调光掩模的转印图案，取得在曝光条件下的空间图像数据，针对该空间图像数据，确定预定的实效透射率的阈值。然后，使用所述阈值对所述空间图像数据进行二值化，使用该二值化后的空间图像数据来评价所述转印图案。

公开(公告)号：CN101373324A

公开(公告)日：2009-02-25

申请号：CN200810134031.0

申请日：2008-07-22

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 吉田光一郎 ,  井村和久

IPC: G03F1/00

Abstract: 本发明提供光掩模信息的获取方法、光掩模的品质表示方法、电子器件的制造支援方法、电子器件的制造方法及光掩模制品，用与规定的曝光条件近似的曝光条件对光掩模进行曝光，通过拍摄装置获取该光掩模的透过光图形，并基于获取的透过光图形得到透过光图形数据。

公开(公告)号：CN101315518A

公开(公告)日：2008-12-03

申请号：CN200810099966.X

申请日：2008-05-29

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 中西胜彦 ,  吉田光一郎

IPC: G03F1/14 ,  G03F1/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及光掩模的检查方法、光掩模的制造方法、电子部件的制造方法、测试掩模及测试掩模组。其中，使用测试掩模进行曝光、显影而得到测试用抗蚀图形，对其进行测量得到实际曝光测试图形数据。另外，在规定的光学条件下对测试掩模进行光照射通过摄像装置取得光透射图形，再基于得到的光透射图形得到光透射测试图形数据。对实际曝光测试图形数据和光透射测试图形数据进行比较，基于这一比较结果设定光学条件，再基于对作为检查对象的光掩模进行光照射而得到的光透射图形进行光掩模的检查。

公开(公告)号：CN110632823B

公开(公告)日：2023-05-12

申请号：CN201910880536.X

申请日：2014-11-17

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 吉田光一郎

IPC: G03F1/32 ,  G02F1/1335

Abstract: 本发明提供一种光掩模及其制造方法、图案转印方法、显示装置的制造方法。所述光掩模具有用于在被转印体上形成线宽Wp的器件图案的转印用图案，器件图案的线宽Wp与构成转印用图案的第1空白图案的线宽Wm之间的关系满足下述式(1)和式(2)：Wp＜10μm…(1)1≤(Wm－Wp)/2≤4(μm)…(2)。

公开(公告)号：CN106814534B

公开(公告)日：2021-06-01

申请号：CN201610851465.7

申请日：2016-09-26

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 吉田光一郎 ,  金台勋 ,  李锡薰

IPC: G03F1/68 ,  G03F1/80 ,  G03F1/62 ,  G03F1/76

Abstract: 本发明的课题在于提供兼具更微细、更高的CD精度和透射率精度的光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法。本发明的解决手段为一种光掩模的制造方法，该光掩模在透明基板上具备包含透光部、第1透射控制部和第2透射控制部的转印用图案。该制造方法该制造方法包括：准备在透明基板上形成有具有规定的曝光光透射率的第1薄膜的光掩模坯的工序；对第1薄膜进行蚀刻，由此形成第1薄膜图案的第1图案化工序；在形成有第1薄膜图案的透明基板上形成第2薄膜，对第2薄膜进行蚀刻，由此形成第2薄膜图案的第2图案化工序。在上述第2图案化工序中，仅对上述第2薄膜进行蚀刻。

公开(公告)号：CN104656369B

公开(公告)日：2019-08-02

申请号：CN201410658927.4

申请日：2014-11-18

Applicant: HOYA株式会社 ,  东京应化工业株式会社

Inventor： 吉田光一郎 ,  阿部明生

IPC: G03F1/32

Abstract: 本发明提供光掩模和使用了该光掩模的基板的制造方法，该光掩模能够在抑制设备投资的增加和生产效率的降低的同时，利用照相平版印刷形成具有线宽2μm～10μm的精细部分的线图案。一种光掩模，其用于形成具有线宽2μm～10μm的精细部分的线图案和围绕该线图案的周边区域，其中，该光掩模具有遮光部、对应于上述线图案的半透光部、以及围绕上述遮光部和上述半透光部围绕并对应于上述周边区域的透光部，上述半透光部的宽度比上述线图案的上述精细部分的宽度宽。

公开(公告)号：CN103383523B

公开(公告)日：2016-09-21

申请号：CN201310153490.4

申请日：2013-04-27

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 吉川裕 ,  吉田光一郎

IPC: G03F1/32 ,  G03F7/20 ,  G02F1/1333

Abstract: 本发明提供光掩模、图案转印方法以及平板显示器的制造方法，能够形成微细且高精度的孔图案。光掩模具有通过对形成在透明基板上的至少半透光膜进行图案化而形成的包含透光部和半透光部的转印用图案，其中，透光部通过透明基板以5μm以下的宽度露出而形成，半透光部包围透光部，且由形成在透明基板上的半透光膜形成，半透光膜的相对于曝光光的代表波长的透射率为2%～60%、且相移量在90°以下。