公开(公告)号：CN111883473B

公开(公告)日：2024-06-14

申请号：CN202010630896.7

申请日：2015-12-10

Applicant: TOTO株式会社

Inventor： 穴田和辉 ,  吉井雄一

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，具备：多结晶陶瓷烧结体即陶瓷电介体基板，具有放置处理对象物的第1主面与第1主面相反侧的第2主面；电极层，设置于陶瓷电介体基板；基座板，设置在第2主面侧而支撑陶瓷电介体基板；及加热器，设置在电极层与基座板之间，其特征为，基座板具有：通孔，贯通基座板；及连通路，使调整处理对象物温度的介质通过，在垂直于第1主面的方向上观察时，加热器中的至少一部分存在于在从最接近通孔的连通路的第1部分观察时的通孔侧。

公开(公告)号：CN110767596B

公开(公告)日：2023-07-25

申请号：CN201911099608.3

申请日：2015-03-11

Applicant: TOTO株式会社

Inventor： 山口康介 ,  穴田和辉 ,  古贺达也 ,  松井宏树

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，其能够降低等离子对粘接剂的损伤。具体而言，其特征为，具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、第1主面相反侧的第2主面、从第2主面设置到第1主面的穿通孔；金属制基座板，支撑陶瓷电介体基板且具有与穿通孔连通的气体导入路；及接合层，设置在陶瓷电介体基板与基座板之间且包含树脂材料，接合层具有设置在第2主面上的穿通孔的开口部与气体导入路之间的与开口部相比水平方向上更大的空间，空间侧的接合层的端面与第2主面相交的第1区域比不同于第1区域的端面的另外的第2区域还要从开口部后退。

公开(公告)号：CN111883473A

公开(公告)日：2020-11-03

申请号：CN202010630896.7

申请日：2015-12-10

Applicant: TOTO株式会社

Inventor： 穴田和辉 ,  吉井雄一

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，具备：多结晶陶瓷烧结体即陶瓷电介体基板，具有放置处理对象物的第1主面与第1主面相反侧的第2主面；电极层，设置于陶瓷电介体基板；基座板，设置在第2主面侧而支撑陶瓷电介体基板；及加热器，设置在电极层与基座板之间，其特征为，基座板具有：通孔，贯通基座板；及连通路，使调整处理对象物温度的介质通过，在垂直于第1主面的方向上观察时，加热器中的至少一部分存在于在从最接近通孔的连通路的第1部分观察时的通孔侧。

公开(公告)号：CN110767596A

公开(公告)日：2020-02-07

申请号：CN201911099608.3

申请日：2015-03-11

Applicant: TOTO株式会社

Inventor： 山口康介 ,  穴田和辉 ,  古贺达也 ,  松井宏树

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，其能够降低等离子对粘接剂的损伤。具体而言，其特征为，具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、第1主面相反侧的第2主面、从第2主面设置到第1主面的穿通孔；金属制基座板，支撑陶瓷电介体基板且具有与穿通孔连通的气体导入路；及接合层，设置在陶瓷电介体基板与基座板之间且包含树脂材料，接合层具有设置在第2主面上的穿通孔的开口部与气体导入路之间的与开口部相比水平方向上更大的空间，空间侧的接合层的端面与第2主面相交的第1区域比不同于第1区域的端面的另外的第2区域还要从开口部后退。

公开(公告)号：CN103681433B

公开(公告)日：2018-01-30

申请号：CN201310379178.7

申请日：2013-08-27

Applicant: TOTO株式会社

Inventor： 穴田和辉 ,  和田琢真

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/6833 ,  H01L21/68757

Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，其能够将吸附保持的处理对象物维持在所希望的温度。具体而言，其特征为，具备：陶瓷电介体基板，其为多结晶陶瓷烧结体，具有放置处理对象物的第1主面和所述第1主面相反侧的第2主面；及电极层，内设于所述陶瓷电介体基板的所述第1主面与所述第2主面之间，一体烧结于所述陶瓷电介体基板，所述陶瓷电介体基板具有：第1电介层，位于所述电极层与所述第1主面之间；及第2电介层，位于所述电极层与所述第2主面之间，所述陶瓷电介体基板中至少所述第1电介层的红外线分光透过率为，按1mm厚度换算时为20%以上。

公开(公告)号：CN103907181A

公开(公告)日：2014-07-02

申请号：CN201280046774.7

申请日：2012-09-27

Applicant: TOTO株式会社

Inventor： 和田琢真 ,  穴田和辉

IPC: H01L21/683 ,  B23Q3/15 ,  H02N13/00

CPC classification number: H01L21/6831 ,  B23Q3/1543 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/6833 ,  H01L21/6875

Abstract: 本发明公开了一种静电吸盘。基于本发明的静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，具有放置被吸附物的第1主面和所述第1主面相反侧的第2主面；电极，设置在所述陶瓷电介体基板的所述第1主面与所述第2主面之间；以及连接部，在所述陶瓷电介体基板的比所述电极更靠所述第2主面侧与所述电极连接，且具有与所述电极接触的第1区域，其中，在将从所述第1主面朝向所述第2主面的方向作为第1方向，将与所述第1方向正交的方向作为第2方向时，所述第1区域在所述电极及所述连接部的所述第2方向上观察的截面上，沿所述电极的所述第2主面侧外形的延长线与所述连接部外形的切线所形成的角度当中所述连接部侧的角度在所述第1方向上逐渐增大。

公开(公告)号：CN102782831A

公开(公告)日：2012-11-14

申请号：CN201180012562.2

申请日：2011-03-23

Applicant: TOTO株式会社

Inventor： 堀裕明 ,  板仓郁夫 ,  穴田和辉

IPC: H01L21/683

CPC classification number: H01L21/6833 ,  H01L21/6831 ,  Y10T279/23

Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，具备：陶瓷基板；陶瓷电介体，设置在所述陶瓷基板的上侧且具有放置被处理基板的第1主面；及电极，设置在所述陶瓷基板与所述陶瓷电介体之间，其特征为，所述陶瓷电介体的材质为陶瓷烧结体，在所述陶瓷电介体的所述第1主面上设有多个突起部与供气的槽，在所述槽的底面设有贯穿到所述第1主面相反侧的所述陶瓷基板的第2主面的通孔，所述电极和所述槽之间的距离或者与所述电极和所述第1主面之间的距离相同或者更大。