公开(公告)号：CN101071266A

公开(公告)日：2007-11-14

申请号：CN200710096933.5

申请日：2007-04-19

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 金东敏 ,  金柄郁 ,  朴大然 ,  金周赫 ,  崔基植 ,  金贞元 ,  李起范 ,  卞哲基 ,  金纹秀 ,  金炳厚 ,  边滋勋 ,  申在浩

IPC分类号： G03F7/016 ,  G03F7/004

摘要： 本发明涉及一种适于制造液晶显示装置的电路、半导体集成电路等微细电路的光致抗蚀剂组合物，具体涉及一种包含由下述化学式1表示的酚醛清漆树脂、重氮类感光性化合物、有机溶剂的光致抗蚀剂组合物。上述化学式1中，R表示氢、羟基或甲基，n是3至20的整数。本发明的光致抗蚀剂组合物，由于加入了酚醛清漆树脂，具有优异的耐热性及分辨率，且可提高图案均匀性。所述酚醛清漆树脂由芳香族醇聚合而成，所述芳香族醇包含间甲酚、对甲酚、间苯二酚。

公开(公告)号：CN100335970C

公开(公告)日：2007-09-05

申请号：CN01811836.4

申请日：2001-06-22

申请人： 爱克发-格法特公司

发明人： J·拉莫特 ,  F·罗维特 ,  M·范达梅 ,  J·维尔默施 ,  H·范埃特 ,  L·格雷宁达尔

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/09 ,  G03F7/016 ,  G03F7/022 ,  H01B1/12

CPC分类号： G03F7/0166 ,  G03F7/0163 ,  G03F7/093 ,  H05K3/105

摘要： 制造导电图案用的材料，该材料包含支持体和可差示曝光的元件，其特征在于该可差示曝光元件包含最外层，其含有聚阴离子以及取代或未取代噻吩的聚合物或共聚物，以及与最外层相邻的任选第二层；并且其中最外层和/或任选第二层含有光敏部件，其能够在曝光过程中相对于最外层未曝光部分而改变最外层已曝光部分的去除性；以及采用制造导电图案用的材料在支持体上制造导电图案的方法。

公开(公告)号：CN1945433A

公开(公告)日：2007-04-11

申请号：CN200610124917.8

申请日：2006-11-02

申请人： 武汉瑞阳化工有限公司

发明人： 万洪

IPC分类号： G03F7/016

摘要： 本发明涉及一种感光材料，具体说是一种用于制备重氮正像感光纸的新重氮盐感光材料，其结构通式如右式。本发明重氮盐感光材料具有以下优点和用途：1.与特定偶合剂配合使用，能生成纯正的黑色图像；2.使用方便，无需采用其它重氮盐及偶合剂混合使用；3.本发明感光速度快、稳定性好。

公开(公告)号：CN1740911A

公开(公告)日：2006-03-01

申请号：CN200510106370.4

申请日：2002-06-28

申请人： 东京应化工业株式会社

发明人： 新田和行 ,  三村岳由 ,  嵨谷聪 ,  大久保和喜 ,  松海达也

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/016 ,  G03F7/029 ,  G03F7/00

摘要： 本发明提供一种光刻胶组合物，其包括(A)多羟基苯乙烯，其中至少一部分羟基氢原子被可酸离解的溶解抑制基团取代，并且当可酸离解的溶解抑制基团被酸的作用消除时，多羟基苯乙烯在碱性溶液中的溶解度增大，和(B)通过使用放射线照射能够产生酸的组分，其中在使用盐酸的离解试验后，组分(A)的可酸离解的溶解抑制基团的保留率为40％或更小，还提供一种含有多羟基苯乙烯的化学放大型阳性光刻胶组合物，所述代替组分(A)的多羟基苯乙烯中至少一部分羟基氢原子被含有直链或支链烷氧基的低级烷氧基－烷基取代，并且当所述低级烷氧基－烷基被酸的作用消除时，多羟基苯乙烯在碱性溶液中的溶解度增大。

公开(公告)号：CN1439117A

公开(公告)日：2003-08-27

申请号：CN01811836.4

申请日：2001-06-22

申请人： 爱克发-格法特公司

发明人： J·拉莫特 ,  F·罗维特 ,  M·范达梅 ,  J·维尔默施 ,  H·范埃特 ,  L·格雷宁达尔

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/09 ,  G03F7/016 ,  G03F7/022 ,  H01B1/12

CPC分类号： G03F7/0166 ,  G03F7/0163 ,  G03F7/093 ,  H05K3/105

摘要： 制造导电图案用的材料，该材料包含支持体和可差示曝光的元件，其特征在于该可差示曝光元件包含最外层，其含有聚阴离子以及取代或未取代噻吩的聚合物或共聚物，以及与最外层相邻的任选第二层；并且其中最外层和/或任选第二层含有光敏部件，其能够在曝光过程中相对于最外层未曝光部分而改变最外层已曝光部分的去除性；以及采用制造导电图案用的材料在支持体上制造导电图案的方法。

公开(公告)号：CN1089951C

公开(公告)日：2002-08-28

申请号：CN94101238.7

申请日：1994-01-28

申请人： 松下电器产业株式会社

发明人： 下村幸司 ,  佐野义和

IPC分类号： H01L27/148 ,  G03F7/016 ,  G03F7/027

摘要： 在形成CCD的基片上的保护膜上面形成有透明填塞层和透明平坦膜层，使该保护膜表面平坦。在透明平坦膜层上面形成红、蓝、黄色的彩色滤光片。该彩色滤光片由合成感光性材料形成。由此可高精度地形成形状良好的彩色滤光片，又在分光特性上，可实现所有的彩色滤光片均匀。由此可得到优异特性的图像，而无因闪光性能、遮蔽性能及粉尘等不良情况引起的图像不良。

公开(公告)号：CN1232549A

公开(公告)日：1999-10-20

申请号：CN97198548.0

申请日：1997-10-02

申请人： 三洋化成工业株式会社

发明人： 小木曾直人 ,  渡边哲也 ,  山田哲也

IPC分类号： G03F7/033 ,  G03F7/008 ,  G03F7/016 ,  G03F7/004 ,  G02B5/00 ,  H01J9/227 ,  C09D5/00

CPC分类号： H01J29/327 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0125 ,  G03F7/0212 ,  G03F7/0233 ,  H01J9/2271 ,  H01J9/2278

摘要： 本发明涉及一种光敏组合物,适用于形成彩色阴极射线管的黑色基质屏幕和荧光屏,它具有高的光敏度使之显著地缩短辐照时间并即使在失效时间后也具有高的稳定性。该组合物包括70—99重量%含由通式(1)表示的单体(a)形成的重复单元的乙烯基聚合物(A)和1—30重量%至少一种选自叠氮化合物和重叠化合物的光敏化合物(B);(1)H2C=CH－X－Q,式中官能团Q由下式限定的前沿电子密度至少为0.067:前沿电子密度=2×(最低未占据分子轨道中原子轨道系数)2。

公开(公告)号：CN112684661B

公开(公告)日：2023-06-27

申请号：CN202011537032.7

申请日：2020-12-23

申请人： 江苏穿越光电科技有限公司

发明人： 徐娟 ,  王猛 ,  周建

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/016

摘要： 本发明提出了一种光刻胶组合物及其制备方法，包括：酚醛树脂、重氮类感光化合物和有机溶剂；其中，所述酚醛树脂包括线性酚醛树脂和二氧化硅改性酚醛树脂。本发明所述光刻胶组合物中通过提高成膜树脂的耐热性和粘附性，使所得光刻胶膜的光刻精度得到有效提高。

公开(公告)号：CN113064324B

公开(公告)日：2023-04-07

申请号：CN202010001754.4

申请日：2020-01-02

申请人： 京东方科技集团股份有限公司

发明人： 申晓斌

IPC分类号： G03F7/016 ,  G03F7/004 ,  H10K59/12 ,  H10K50/86

摘要： 本申请公开了一种硅量子点光刻胶、彩膜层、OLED显示结构及显示器，包括光引发剂、酚醛树脂衍生物和重氮萘酚衍生物，还包括单色硅量子点；所述单色硅量子点占所述光引发剂、酚醛树脂衍生物和重氮萘酚衍生物总质量的2％‑7％。根据本申请实施例提供的技术方案，通过利用无重金属元素、光学性质佳、化学稳定性较好的硅量子点作为量子点发光单元，引入光刻胶中，在制备过程中，避免了重金属量子点的使用，更为绿色环保。可将其应用于包括但不限于液晶LCD、OLED等显示器件中，通过光刻工艺图案化后，达到彩色显示目的。制作出的基于硅量子点彩膜的显示器件能具备更高的亮度、更广的色域和更优的色纯度。

公开(公告)号：CN108107676B

公开(公告)日：2023-02-21

申请号：CN201711186205.3

申请日：2017-11-24

申请人： 信越化学工业株式会社

发明人： 平野祯典 ,  浅井聪 ,  近藤和纪

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/016 ,  G03F7/039

摘要： 本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂膜层叠体和图案形成方法。提供层叠体，其包括热塑性膜和其上的化学增幅正型抗蚀剂膜，该抗蚀剂膜包含：(A)具有羟基苯基和保护基团的基础聚合物，该聚合物由于在酸的作用下保护基团被除去而变为碱可溶，(B)光致产酸剂，(C)有机溶剂，和(D)在其主链中具有酯键的聚合物。该抗蚀剂膜可被转印至台阶形支承体而不形成空隙。