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公开(公告)号：CN115894090B
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202211439213.5
申请日：2022-11-17
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B81C1/00 , B81C3/00 , B23K26/362 , B23K26/364 , B23K26/00 , C04B41/91
Abstract: 本发明公开了一种在脆硬材料表面制备高增透亚波长结构的方法，包括：制备待加工脆硬材料样品；对硬脆材料样品表面进行辐照改性，对硬脆材料样品表面进行扫描，对目标改性区域进行活化；在无掩模情况下，利用离子刻蚀技术对活化区域进行精准去除，获得亚波长增透结构；超声清洗，洁净空气吹干。本发明使用飞秒激光对硬脆材料表面进行精确辐照，使材料内部的结晶态发生转变，赋予材料表面一定的活性，在无掩模情况下利用离子刻蚀技术对改性区域进行精准去除，在硬脆材料表面获得亚波长增透结构，不但消除了飞秒激光加工过程中碎屑飞溅的影响，同时解决了离子刻蚀手段在面临超高硬度、低化学活性晶体材料时普遍存在的刻蚀效率低下的问题。
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公开(公告)号：CN107247037B
公开(公告)日：2023-06-02
申请号：CN201710631796.4
申请日：2017-07-28
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/45
Abstract: 本发明公开了一种基于单模‑多模‑无芯光纤结构的分子态有机污染物监测传感器，包括：单模光纤；多模光纤，其与单模光纤的熔接；表面包覆溶胶‑凝胶二氧化硅薄膜的无芯光纤，其一端与多模光纤的输入端偏心熔接；无芯光纤与多模光纤偏心熔接后的不重叠位置处包覆第一金属膜层，其另一端面附着第二金属膜层。将在线监测传感器置于被监测环境中，当分子态有机污染物浓度发生变化，会导致表面薄膜折射率发生变化，从而引起整个波导结构有效折射率发生变化导致谐振条件发生变化，使马赫‑泽德混合干涉中一干涉臂光程发生变化导致整个波导干涉条件发生变化，最后光谱仪监测输出信号波长，通过对输出信号进行处理即可反推外部环境分子态有机污染物浓度。
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公开(公告)号：CN105510005B
公开(公告)日：2019-01-15
申请号：CN201610019864.7
申请日：2016-01-13
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明提供了一种光学元件透射反射率测量仪，本发明采用斩光器对激光信号进行调制后经分光棱镜分为参考光和入射光，入射光照射光学元件产生透射光和反射光，光电二极管采集参考光、透射光和反射光信号并转换为电信号，电信号经过前置放大器放大后进入锁相放大器，锁相放大器输出与光强成正比的直流电压，透射光和反射光对应的直流电压与参考光对应的直流电压比对，得到光学元件的透射率和反射率。本发明通过设置光学标准片，对测量仪信号放大单元的放大倍数进行校正。本发明结构简单，使用方便，尤其适合在线测量较大尺寸光学元件的透射率和反射率。
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公开(公告)号：CN109092730A
公开(公告)日：2018-12-28
申请号：CN201811243262.5
申请日：2018-10-24
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种用于光学元件在线表面洁净监测和处理的装置及方法，包括：光学元件表面颗粒物在线检测系统，其暗场成像系统位于光学元件的上方且垂直与光学元件；用于对光学元件进行洁净处理的洁净处理装置，其通过水平运动机构和竖直伸缩机构实现对擦拭机构的位置移动，进而可实现对光学元件的表面擦拭；上位机，其与光学元件表面颗粒物在线检测系统和洁净处理机构通信连接。本发明的装置及方法可用于对光学元件的表面进行实时在线监测，同时根据暗场监测的结果来进行非常及时的洁净处理，操作简单便捷，也避免了人工作业带来二次污染的风险，从而减少了光学元件的损伤，有效保障了高功率固体激光装置的稳定运行。
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公开(公告)号：CN105921454B
公开(公告)日：2018-10-09
申请号：CN201610306612.2
申请日：2016-05-11
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供了一种高功率激光装置的不锈钢元件表面的洁净处理方法。该方法首先采用普通清洗方法以去除元件表面的大粒径和大面积污染物，其后经脱水处理，再将元件浸泡于清洗剂溶液中浸润，经脱水处理后再去除表面氧化物；利用清洗剂溶液进行二次浸润，最后对元件进行超声波或高压喷淋精密清洗。本发明的高功率激光装置的不锈钢元件表面的洁净处理方法，适用于高功率激光装置中不同尺寸的不锈钢元件的清洁，污染物去除效果好，不锈钢元件的表面洁净度等级高，具有可靠、经济、高效优点，清洗后不锈钢元件的表面洁净度等级优于BJD 100级‑A/10A。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105903710B
公开(公告)日：2018-07-03
申请号：CN201610306674.3
申请日：2016-05-11
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供了一种高功率激光装置的铜、铝元件表面的洁净处理方法。所述的方法首先采用普通清洗方法以去除元件表面的大粒径和大面积污染物，其后经脱水处理，再将元件浸泡于清洗剂溶液中浸润，经脱水处理后再去除表面氧化物；利用清洗剂溶液和清水分别对元件进行两次高压喷淋精密清洗，最后进行脱水处理。本发明的高功率激光装置的铜、铝元件表面的洁净处理方法，适用于高功率激光装置的铜、铝元件清洁，污染物去除效果好，元件表面洁净度等级高，具有可靠、经济、高效的特点。清洗后铜、铝元件的表面洁净度等级优于BJD 100级‑A/10A。
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公开(公告)号：CN107179516A
公开(公告)日：2017-09-19
申请号：CN201710631839.9
申请日：2017-07-28
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01R33/032
CPC classification number: G01R33/032
Abstract: 本发明公开了一种基于单模‑多模‑无芯光纤结构的磁场强度检测传感器，包括：单模光纤；多模光纤，其输入端与单模光纤的输出端熔接；无芯光纤，其一端与多模光纤的输出端偏心熔接；无芯光纤与多模光纤偏心熔接后的不重叠位置处包覆第一金属膜层；无芯光纤的另一端面附着第二金属膜层；无芯光纤的表面包覆超磁致伸缩材料层。将磁场强度检测传感器置于磁场中，磁场强度发生变化，会导致有超磁致伸缩材料薄膜发生形变及波导折射率发生变化，从而引起无芯光纤纵向长度产生微小形变及谐振条件发生变化，使马赫‑泽德混合干涉中一干涉臂光程发生变化导致整个波导干涉条件发生变化，通过光电探测器接收信号，并进行处理即可反推外部环境磁场强度。
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公开(公告)号：CN106442717A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201610932238.7
申请日：2016-10-25
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N29/02
CPC classification number: G01N29/022 , G01N2291/02408 , G01N2291/02809
Abstract: 本发明提供了一种用于可挥发有机污染物探测的声表面波传感器，所述的声表面波传感器的中心工作频率为200MHz，采用铌酸锂材料作为基底、金做为插指换能器材料，溶胶凝胶氧化硅作为敏感膜材料；敏感膜的有效面积大于6mm2，敏感膜对常见的可挥发有机污染物有很好的吸附作用，敏感膜饱和后，可采用酒精冲洗解除表面吸附，敏感膜能够重复使用。本发明的用于可挥发有机污染物探测的声表面波传感器的测量精度高，使用方便。
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公开(公告)号：CN105903710A
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201610306674.3
申请日：2016-05-11
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供了一种高功率激光装置的铜、铝元件表面的洁净处理方法。所述的方法首先采用普通清洗方法以去除元件表面的大粒径和大面积污染物，其后经脱水处理，再将元件浸泡于清洗剂溶液中浸润，经脱水处理后再去除表面氧化物；利用清洗剂溶液和清水分别对元件进行两次高压喷淋精密清洗，最后进行脱水处理。本发明的高功率激光装置的铜、铝元件表面的洁净处理方法，适用于高功率激光装置的铜、铝元件清洁，污染物去除效果好，元件表面洁净度等级高，具有可靠、经济、高效的特点。清洗后铜、铝元件的表面洁净度等级优于BJD 100级?A/10A。
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公开(公告)号：CN105510005A
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201610019864.7
申请日：2016-01-13
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01M11/02
CPC classification number: G01M11/02
Abstract: 本发明提供了一种光学元件透射反射率测量仪，本发明采用斩光器对激光信号进行调制后经分光棱镜分为参考光和入射光，入射光照射光学元件产生透射光和反射光，光电二极管采集参考光、透射光和反射光信号并转换为电信号，电信号经过前置放大器放大后进入锁相放大器，锁相放大器输出与光强成正比的直流电压，透射光和反射光对应的直流电压与参考光对应的直流电压比对，得到光学元件的透射率和反射率。本发明通过设置光学标准片，对测量仪信号放大单元的放大倍数进行校正。本发明结构简单，使用方便，尤其适合在线测量较大尺寸光学元件的透射率和反射率。
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