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公开(公告)号:CN103838047A
公开(公告)日:2014-06-04
申请号:CN201410069289.2
申请日:2014-02-27
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: G02F1/1362 , H01L21/77 , H01L27/12
摘要: 本发明实施例提供了一种阵列基板及其制备方法、显示装置,涉及显示技术领域,可以解决数据线发生断路后数据信号无法导通的问题,提高了阵列基板的良品率。该制备方法包括在衬底基板上形成沿第一方向平行排布的多根修复导线;在形成有所述修复导线的基板上形成包括源极、漏极、以及与所述源极电连接的数据线的源漏金属层;所述数据线沿所述第一方向平行排布;其中,任一根所述修复导线与一根所述数据线垂直对应,且直接接触。用于阵列基板及包括该阵列基板的显示装置的制造。
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公开(公告)号:CN103779375A
公开(公告)日:2014-05-07
申请号:CN201410056581.0
申请日:2014-02-19
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
CPC分类号: H01L25/0753 , H01L27/14621 , H01L27/153 , H01L27/156 , H01L27/3241 , H01L33/50 , H01L33/502 , H01L33/56
摘要: 本发明涉及LED显示技术领域,公开了一种全彩LED显示面板及其制造方法、显示器。全彩LED显示面板包括多个亚像素单元,亚像素单元包括LED单元和透射特定颜色的滤光层,LED单元包括射出特定颜色光线的LED半导体芯片。其中,多个亚像素单元的LED半导体芯片为射出相同颜色光线的同色LED半导体芯片。每个亚像素单元中,滤光层和LED半导体芯片的位置对应,并位于LED半导体芯片射出光线的一侧。本发明的技术方案在实现全彩显示的同时,缩短了LED显示器的工艺周期,降低了生产成本和产品的不良率,减小显示面板的盒厚。
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公开(公告)号:CN103560114A
公开(公告)日:2014-02-05
申请号:CN201310573218.1
申请日:2013-11-15
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: H01L21/84 , H01L21/28 , H01L21/336 , H01L27/12 , H01L29/417 , H01L29/786 , G02F1/1362 , G02F1/1368
CPC分类号: H01L29/78642 , H01L27/1288 , H01L29/7869 , H01L27/12 , G02F1/1362 , G02F1/1368 , H01L29/42384 , H01L29/66969 , H01L29/78681
摘要: 本发明实施例提供一种TFT阵列基板及其制造方法、显示装置,涉及显示技术领域。可以简化垂直结构TFT的制作工序,减少构图工艺使用次数。阵列基板包括在基板表面形成的漏电极的图案,在漏电极的图案的表面通过半导体化处理形成有半导体有源层的图案,在该半导体有源层的图案的表面形成有源电极的图案,其中漏电极、半导体有源层、源电极的图案通过一次构图工艺形成。
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公开(公告)号:CN103474471A
公开(公告)日:2013-12-25
申请号:CN201310385416.5
申请日:2013-08-29
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: H01L29/786 , H01L21/336 , H01L29/41 , H01L27/12
CPC分类号: H01L29/42364 , G02F1/1368 , H01L27/1225 , H01L27/124 , H01L29/4908 , H01L29/517 , H01L29/78606 , H01L29/7869 , H01L2029/42388
摘要: 本发明提供一种薄膜晶体管及制备方法、阵列基板及制备方法和显示装置。该薄膜晶体管包括基板以及设置在基板上的栅极、绝缘层、有源层、源极和漏极,在栅极和有源层之间还设置有隔离层,隔离层至少在正投影方向上与面积较小的栅极和有源层中的一个重合,隔离层能有效防止形成栅极的材料扩散到有源层中,进而保证薄膜晶体管的性能的稳定性。该阵列基板在采用该薄膜晶体管的基础上,使隔离层进一步延伸到对应着栅线的区域,从而能够有效防止形成栅极和栅线的材料扩散到有源层中,进而保证阵列基板的性能的稳定性。
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公开(公告)号:CN102683341A
公开(公告)日:2012-09-19
申请号:CN201210122560.5
申请日:2012-04-24
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: H01L27/02 , H01L29/786 , G02F1/1368 , H01L21/77
CPC分类号: H01L27/1288 , G02F2001/136222
摘要: 本发明实施例提供的一种TFT阵列基板及其制造方法和液晶显示器,涉及液晶面板制造领域,能够减少TFT-LCD的制造步骤,降低生产成本。该TFT阵列基板包括:基板;所述基板上形成有栅极、栅线和遮光条;所述栅极上依次形成有栅绝缘层、半导体有源层、源极、漏极及沟道结构;所述栅绝缘层与所述半导体有源层相接触;所述源极、所述漏极和所述栅极上方形成有钝化层;所述栅绝缘层上方形成有像素电极及位于所述像素电极上方的至少一种原色滤光层;所述像素电极与所述漏极电连接。本发明实施例用于TFT阵列基板的制造。
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公开(公告)号:CN104716152B
公开(公告)日:2018-09-14
申请号:CN201510152077.5
申请日:2015-04-01
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: H01L27/146
摘要: 本发明公开了一种X射线平板探测器及其制备方法与白色绝缘材料。X射线平板探测器,包括:薄膜晶体管基板;设置于该薄膜晶体管基板上具有反射作用的绝缘层,该绝缘层上设有暴露该薄膜晶体管基板的源极的接触孔;设置在该绝缘层上的像素电极,该像素电极通过该接触孔与该薄膜晶体管基板的源极导通;覆盖该像素电极的光电二极管;设置在该光电二极管上的电极;和设置在该电极上的X射线转换层。本发明的X射线平板探测器具有高量子探测效率和灵敏度。
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公开(公告)号:CN104951136B
公开(公告)日:2018-01-19
申请号:CN201510391666.9
申请日:2015-07-06
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: G06F3/041
摘要: 本发明涉及一种触控基板及其制作方法以及显示装置,该触控基板包括:第一基底;触控电极,设置在第一基底之上;第二基底,设置在触控电极之上,其中,触控电极包括第一电极层和第二电极层,第二电极设置在第一电极层之上,第一电极层的宽度与第二电极层的宽度不同。通过本发明的技术方案,能够使得第二电极层与第一基底之间存在空隙的区域对应的触控电极不易被观察到,在保证触控电极具有足够传输信号能力的前提下,减少了被观察到的触控电极的线宽,降低了触控电极的可视性,实现对触控电极的消影。
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公开(公告)号:CN104300008B
公开(公告)日:2017-06-30
申请号:CN201410601597.5
申请日:2014-10-30
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: H01L29/786 , H01L29/41
摘要: 本发明公开了一种电极结构、薄膜晶体管、阵列基板及显示面板,电极结构中至少包括层叠设置的第一金属层和第一石墨烯层,第一金属层的材料为铜或铜合金。由于石墨烯是由碳原子构成的单层六边形结构,结构稳定,具有较高的电荷迁移率,并且与铜原子之间的结合力强,对铜原子有很好的吸附作用。因此,利用第一石墨烯层对第一金属层中的铜原子的吸附和阻挡作用,可以有效防止电极结构中铜原子的扩散,同时由于石墨烯具有极高的电导率,与金属层形成的复合结构,可以进一步提高电极结构的导电性能。
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公开(公告)号:CN104774590B
公开(公告)日:2017-05-24
申请号:CN201510197778.0
申请日:2015-04-23
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: C09K3/00
CPC分类号: C08K3/00 , C04B35/00 , C08K3/22 , C08K3/24 , C08K2003/2241 , G21F1/06 , G21F5/00 , H01F1/00 , H01F1/348 , H05K9/0083
摘要: 本发明公开了一种复合材料及其制备方法。该复合材料由TiO2和BaZn1.2Co0.8Fe16O27构成。本发明的复合材料具有吸收频段高、兼容性优良和频带宽的优点,有望应用在手机和电视外壳保护材料,吸收对人体伤害最大的电磁波段而又不影响正常手机等电子设备通讯功能。
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公开(公告)号:CN104020621B
公开(公告)日:2017-03-01
申请号:CN201410224631.1
申请日:2014-05-26
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: G02F1/1368 , G02F1/1333
CPC分类号: G02F1/1368 , G02F1/133345 , G02F1/134309 , G02F1/134363 , G02F1/13439 , G02F1/136209 , G02F1/136227 , G02F1/136286 , G02F2001/136222 , G02F2201/121 , G02F2201/123 , H01L27/124 , H01L27/127
摘要: 本发明实施例公开了一种阵列基板及其制备方法、显示装置,涉及显示技术领域,能够防止铜等金属在对透明导电薄膜进行构图工艺的过程中发生氧化,保证源极和漏极的导电能力。该种阵列基板,包括多个阵列排布的像素单元区域,所述像素单元区域包括薄膜晶体管和像素电极,所述薄膜晶体管的有源层和所述像素电极之间形成有第一绝缘层,所述第一绝缘层形成有第一过孔和第二过孔,所述第一过孔和所述第二过孔分别对应所述有源层的两端,所述薄膜晶体管的源极通过所述第一过孔连接所述有源层,所述薄膜晶体管的漏极搭接在所述像素电极之上并通过所述第二过孔连接所述有源层。
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