公开(公告)号：CN109388022B

公开(公告)日：2023-07-28

申请号：CN201810899840.4

申请日：2018-08-09

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 丸山仁 ,  近藤和纪

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  G03F7/00 ,  G03F7/09 ,  C08G77/12 ,  C08G77/20 ,  C08G77/26

Abstract: 本发明为含有机硅结构的聚合物、感光性树脂组合物、感光性树脂涂层、感光性干膜、层合体和图案形成方法。将包含分子中具有交联性基团或易交联反应的反应位点的含有机硅结构的聚合物的感光性树脂组合物涂布至基底上，以形成具有改进的基底粘合性、图案形成能力、耐开裂性、耐热性和作为保护膜的可靠性的感光性树脂涂层。

公开(公告)号：CN115023653A

公开(公告)日：2022-09-06

申请号：CN202180010691.1

申请日：2021-01-13

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 丸山仁

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/40 ,  C08G59/62 ,  C08G77/50 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20

Abstract: 提供感光性树脂组合物，该感光性树脂组合物包含(A)具有环氧基和/或酚性羟基的有机硅树脂、(B)由下述式(B)所表示的烷基苯酚酚醛清漆树脂、及(C)光致产酸剂。(式中，R51为碳原子数1～9的饱和烃基。R52为碳原子数10～25的饱和烃基。n1和n2为满足0≤n1

公开(公告)号：CN111198480A

公开(公告)日：2020-05-26

申请号：CN201911132148.X

申请日：2019-11-19

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 丸山仁 ,  大和田保

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  G02B1/111

Abstract: 本发明涉及感光性树脂组合物、图案形成方法和减反射膜。本发明提供了感光性树脂组合物，其包含(A)含酸可交联的基团的有机硅树脂，(B)光致产酸剂，和(C)中空二氧化硅。感光性树脂组合物具有令人满意的可靠性、挠曲性、光刻法分辨率和耐光性，同时保持减反射膜的功能。

公开(公告)号：CN110515270A

公开(公告)日：2019-11-29

申请号：CN201910416649.4

申请日：2019-05-20

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 丸山仁 ,  近藤和纪

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/075 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明为感光性树脂组合物、图案形成方法和光学半导体器件的制造。提供了包含(A)乙烯基醚化合物、(B)含环氧基的有机硅树脂和(C)光致产酸剂的感光性树脂组合物。组合物能够使用宽范围变化的波长形成图案，并且经图案化的膜具有高的透明度、耐光性和耐热性。

公开(公告)号：CN110501876A

公开(公告)日：2019-11-26

申请号：CN201910405085.4

申请日：2019-05-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 丸山仁 ,  加藤英人 ,  菅生道博

IPC: G03F7/075 ,  C08G77/60 ,  H05K3/28

Abstract: 本发明为感光性树脂组合物、感光性干膜和图案形成方法。将包含(A)含硅亚苯基和聚醚结构的聚合物和(B)光致产酸剂的感光性树脂组合物涂布至基底上以形成具有改进的对基底的粘合性、图案形成能力、耐开裂性和作为保护膜的可靠性的感光性树脂涂层。

公开(公告)号：CN109976091B

公开(公告)日：2024-09-27

申请号：CN201811598408.8

申请日：2018-12-26

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 丸山仁 ,  近藤和纪

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及光敏树脂组合物、图案形成方法和光电半导体器件的制造，其提供了一种光敏树脂组合物，其包含具有式(A1)的双端脂环式环氧基改性的有机硅树脂和光致产酸剂。在式(A1)中，R1至R4是C1‑C20一价烃基，n是1‑600的整数。该组合物能够使用大幅变化波长的辐射来进行图案形成，并且图案化的膜具有高透明性、耐光性和耐热性。#imgabs0#

公开(公告)号：CN110515270B

公开(公告)日：2024-07-12

申请号：CN201910416649.4

申请日：2019-05-20

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 丸山仁 ,  近藤和纪

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/075 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明为感光性树脂组合物、图案形成方法和光学半导体器件的制造。提供了包含(A)乙烯基醚化合物、(B)含环氧基的有机硅树脂和(C)光致产酸剂的感光性树脂组合物。组合物能够使用宽范围变化的波长形成图案，并且经图案化的膜具有高的透明度、耐光性和耐热性。

公开(公告)号：CN118076670A

公开(公告)日：2024-05-24

申请号：CN202280068118.0

申请日：2022-10-14

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 丸山仁 ,  大森裕士

IPC: C08G77/60 ,  C08G59/02

Abstract: 提供聚合物，其中，主链包含硅亚苯基骨架、含有环氧基的异氰脲酸骨架和降冰片烯骨架，不含硅氧烷骨架。

公开(公告)号：CN117546089A

公开(公告)日：2024-02-09

申请号：CN202280043894.5

申请日：2022-03-31

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 丸山仁 ,  林久美子

IPC: G03F7/075

Abstract: 提供感光性树脂组合物，其包含：(A)具有环氧基和/或酚羟基的有机硅树脂、(B)由下述式(B)表示的光致产酸剂、和(C)苯并三唑系化合物。

公开(公告)号：CN111205463B

公开(公告)日：2023-02-14

申请号：CN201911153444.8

申请日：2019-11-22

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 丸山仁 ,  曾我恭子

IPC: C08G77/26 ,  C08G77/14 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供聚硅氧烷骨架聚合物、感光性树脂组合物、图案形成方法和光半导体器件的制造。提供了聚合物，其在主链中包含聚硅氧烷、硅亚苯基、异氰脲酸和降冰片烯骨架并在侧链中具有环氧基团。涂覆包含该聚合物和光致产酸剂的感光性树脂组合物以形成膜，可使用具有大幅变化波长的辐照使膜图案化。图案化的膜具有高透明性、耐光性和耐热性。