薄膜晶体管基板的制造方法和薄膜晶体管基板

    公开(公告)号:CN109599362A

    公开(公告)日:2019-04-09

    申请号:CN201811125993.X

    申请日:2018-09-26

    Abstract: 一种薄膜晶体管基板的制造方法和薄膜晶体管基板,提高开口率并且缓和台阶。阵列基板的制造方法具备:第1金属膜形成工序;栅极绝缘膜形成工序;半导体膜形成工序;第2金属膜形成工序;光致抗蚀剂膜形成工序,使用半色调掩模将形成在第2金属膜的上层侧的光致抗蚀剂膜图案化;第1蚀刻工序,将第2金属膜中的与光致抗蚀剂膜不重叠的部分选择性地除去;低电阻化工序,将半导体膜中的与光致抗蚀剂膜不重叠的像素电极构成部选择性地进行低电阻化处理而形成像素电极;第2膜厚部除去工序,将光致抗蚀剂膜的第2膜厚部选择性地除去;以及第2蚀刻工序,将与光致抗蚀剂膜的第1膜厚部不重叠的第2金属膜的电极间部选择性地除去。

    液晶显示装置
    33.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101600987B

    公开(公告)日:2011-09-21

    申请号:CN200780050765.4

    申请日:2007-12-10

    Abstract: 本发明的目的在于以低成本提供一种降低波纹和色偏的高画质的反射型和半透过型的液晶显示装置。本发明的液晶显示装置是在多个像素的各个中具备反射区域的液晶显示装置。反射区域包括金属层(56)、半导体层(62)和反射层(63),在反射层(63)的表面形成有多个凹部(68)和凸部(67),多个凹部(68)对应金属层(56)的开口部(65)而形成,多个凸部(67)反映半导体层(62)的形状而形成,多个凹部(68)的沿着某个方向相邻的多个对包括凹部(68)的间隔相互不同的2个对,多个凸部(67)的沿着某个方向相邻的多个对包括凸部(67)的间隔相互不同的2个对。

    液晶显示装置
    35.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101600987A

    公开(公告)日:2009-12-09

    申请号:CN200780050765.4

    申请日:2007-12-10

    Abstract: 本发明的目的在于以低成本提供一种降低波纹和色偏的高画质的反射型和半透过型的液晶显示装置。本发明的液晶显示装置是在多个像素的各个中具备反射区域的液晶显示装置。反射区域包括金属层(56)、半导体层(62)和反射层(63),在反射层(63)的表面形成有多个凹部(68)和凸部(67),多个凹部(68)对应金属层(56)的开口部(65)而形成,多个凸部(67)反映半导体层(62)的形状而形成,多个凹部(68)的沿着某个方向相邻的多个对包括凹部(68)的间隔相互不同的2个对,多个凸部(67)的沿着某个方向相邻的多个对包括凸部(67)的间隔相互不同的2个对。

    液晶显示装置和液晶显示装置的制造方法

    公开(公告)号:CN101558350A

    公开(公告)日:2009-10-14

    申请号:CN200780045760.2

    申请日:2007-10-25

    CPC classification number: G02F1/133553 G02F1/133555

    Abstract: 本发明涉及液晶显示装置和液晶显示装置的制造方法。本发明提供一种低成本且高画质的半透过型和反射型的液晶显示装置。本发明的液晶显示装置具备使入射光朝向显示面反射的反射区域,其中,反射区域包括Cs金属层(金属层)、在Cs金属层的上面形成的栅极绝缘层、在栅极绝缘层的上面形成的半导体层、和在半导体层的上面形成的反射层。在反射层的表面形成有第一凹部、和位于第一凹部的内侧的第二凹部。Cs金属层和半导体层分别具有开口部,第一凹部和第二凹部的一方由Cs金属层的开口部形成,另一方由半导体层的开口部形成。

    有源矩阵基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN113764517B

    公开(公告)日:2024-10-18

    申请号:CN202110613024.4

    申请日:2021-06-02

    Abstract: 提供具备特性相互不同的多个氧化物半导体TFT的有源矩阵基板。一种有源矩阵基板,具备第1TFT和第2TFT,第1TFT具有第1氧化物半导体层和隔着第1栅极绝缘层配置在第1氧化物半导体层的一部分上的第1栅极电极,第1栅极绝缘层具有包含第1绝缘膜和配置在第1绝缘膜上的第2绝缘膜的层叠结构,第2TFT具有第2氧化物半导体层和第2栅极电极,第2氧化物半导体层具有比第1氧化物半导体层高的迁移率,第2栅极电极隔着第2栅极绝缘层配置在第2氧化物半导体层的一部分上,第2栅极绝缘层包含第2绝缘膜,并且不包含第1绝缘膜,在第2氧化物半导体层与基板之间还具备包含第1绝缘膜的下部绝缘层。

Patent Agency Ranking