有源矩阵基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN110383493B

    公开(公告)日:2023-06-02

    申请号:CN201880016702.5

    申请日:2018-03-02

    Abstract: 有源矩阵基板具备基板(1)、包含多个第1TFT(10)的周边电路、以及多个第2TFT(20),第1和第2TFT(10、20)各自具有:栅极电极(3A、3B);栅极绝缘层(5);氧化物半导体层(7A、7B),其包含沟道区域(7Ac、7Bc)和位于沟道区域的两侧的源极接触区域(7As、7Bs)和漏极接触区域(7Ad、7Bd);源极电极(8A、8B),其与源极接触区域接触;以及漏极电极(9A、9B),其与漏极接触区域接触,第1TFT和第2TFT的氧化物半导体层由同一氧化物半导体膜形成,第1TFT的沟道区域(7Ac)中的载流子浓度比第2TFT的沟道区域(7Bc)中的载流子浓度高。

    有源矩阵基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN109661696B

    公开(公告)日:2021-04-13

    申请号:CN201780054144.7

    申请日:2017-08-28

    Inventor: 松木园广志

    Abstract: 有源矩阵基板(1001)具有多个像素区域,至少1个像素区域包含像素TFT(20)、像素电极(15)、第1电路TFT(10)以及连接到第1电路TFT的驱动电路配线(L1~L3),像素TFT(10)和第1电路TFT(20)是氧化物半导体TFT,像素电极(15)由上部透明导电膜形成,驱动电路配线包含透明配线部(L1、L2),透明配线部(L1、L2)由位于比上部透明导电膜靠基板(1)侧的下部透明导电膜形成,第1电路TFT(10)的源极电极(8)和漏极电极(9)中的至少一方由下部透明导电膜形成。

    显示装置以及显示装置的制造方法

    公开(公告)号:CN111886681A

    公开(公告)日:2020-11-03

    申请号:CN201880091427.3

    申请日:2018-03-29

    Abstract: 本发明的显示装置具备:基板、设置在基板上的第一晶体管、以不与第一晶体管重叠的方式设置在基板上的第二晶体管。第一晶体管具备:设置在基板上的多晶硅层、设置在多晶硅层上的第一绝缘膜、设置在第一绝缘膜上的第一栅电极、设置在第一栅电极上的第二绝缘膜。第二晶体管具备:设置在第一绝缘膜上的氧化物半导体层、设置在氧化物半导体层上的第三绝缘膜、设置在第三绝缘膜上的第二栅电极。第一以及第三绝缘膜是SiOx膜。第二绝缘膜是含氢的SiNx膜,并且以与多晶硅层重叠的方式设置,并且以不与氧化物半导体层重叠的方式设置。

    有源矩阵基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN110383493A

    公开(公告)日:2019-10-25

    申请号:CN201880016702.5

    申请日:2018-03-02

    Abstract: 有源矩阵基板具备基板(1)、包含多个第1TFT(10)的周边电路、以及多个第2TFT(20),第1和第2TFT(10、20)各自具有:栅极电极(3A、3B);栅极绝缘层(5);氧化物半导体层(7A、7B),其包含沟道区域(7Ac、7Bc)和位于沟道区域的两侧的源极接触区域(7As、7Bs)和漏极接触区域(7Ad、7Bd);源极电极(8A、8B),其与源极接触区域接触;以及漏极电极(9A、9B),其与漏极接触区域接触,第1TFT和第2TFT的氧化物半导体层由同一氧化物半导体膜形成,第1TFT的沟道区域(7Ac)中的载流子浓度比第2TFT的沟道区域(7Bc)中的载流子浓度高。

    有源矩阵基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN109661696A

    公开(公告)日:2019-04-19

    申请号:CN201780054144.7

    申请日:2017-08-28

    Inventor: 松木园广志

    Abstract: 有源矩阵基板(1001)具有多个像素区域,至少1个像素区域包含像素TFT(20)、像素电极(15)、第1电路TFT(10)以及连接到第1电路TFT的驱动电路配线(L1~L3),像素TFT(10)和第1电路TFT(20)是氧化物半导体TFT,像素电极(15)由上部透明导电膜形成,驱动电路配线包含透明配线部(L1、L2),透明配线部(L1、L2)由位于比上部透明导电膜靠基板(1)侧的下部透明导电膜形成,第1电路TFT(10)的源极电极(8)和漏极电极(9)中的至少一方由下部透明导电膜形成。

    有源矩阵基板及其制造方法和使用有源矩阵基板的显示装置

    公开(公告)号:CN107636841A

    公开(公告)日:2018-01-26

    申请号:CN201680032552.8

    申请日:2016-06-02

    Inventor: 松木园广志

    Abstract: 有源矩阵基板(1001)具备:多个像素区域,其在基板(1)上在第1方向和第2方向上排列为矩阵状;多个栅极配线(G),其在第1方向上延伸;以及多个源极配线(S),其在第2方向上延伸,有源矩阵基板(1001)具有:显示区域(800),其包含多个像素区域;以及非显示区域(900),其位于显示区域的周边,各像素区域具备:薄膜晶体管(101),其包含氧化物半导体层;以及像素电极(15),其与漏极电极(9)一体地形成,栅极电极(3)和栅极配线(G)由第1透明导电膜形成,漏极电极(9)和像素电极(15)由第2透明导电膜形成,有源矩阵基板(1001)还具备:多个栅极信号线,其设置于非显示区域(900),并且由金属膜形成;以及第1连接部,其将多个栅极配线(G)中的各栅极配线(G)连接到栅极信号线中的任意一个栅极信号线。

    半导体装置及其制造方法
    38.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103545318B

    公开(公告)日:2017-12-15

    申请号:CN201310302897.9

    申请日:2013-07-17

    CPC classification number: H01L29/7869 H01L29/201

    Abstract: 本发明的一个方式提供如下半导体装置:使用氧化物半导体膜,将含有铜的金属膜用于布线或信号线等,具有稳定的电特性且高可靠性。本发明的一个方式是一种半导体装置,该半导体装置包括:栅电极;形成在该栅电极上的栅极绝缘膜;与该栅极绝缘膜接触且包含与该栅电极重叠的沟道形成区域的氧化物半导体膜:形成在该氧化物半导体膜上的源电极及漏电极;形成在该氧化物半导体膜、该源电极以及该漏电极上的氧化物绝缘膜,该源电极及该漏电极都包括:在该沟道形成区域的两端具有其一个端部的第一金属膜;形成在该第一金属膜上的含有铜的第二金属膜;形成在该第二金属膜上的第三金属膜,该第二金属膜形成在该第一金属膜的一个端部的内侧。

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