一种高磁感取向硅钢产品的生产方法

    公开(公告)号:CN101845582B

    公开(公告)日:2011-09-21

    申请号:CN200910048289.3

    申请日:2009-03-26

    Abstract: 一种高磁感取向硅钢的生产方法,其包括冶炼、连铸、热轧、常化、冷轧、脱碳退火、MgO涂层、高温退火和绝缘涂层;其中,常化包括热轧板在进行常化的同时,同步完成渗氮,常化渗氮温度1050~1150℃、气氛5~35%NH3(体积百分比),其余气体为N2;常化渗氮后热轧板内渗入的N含量60~250ppm;常化冷却,快速冷却起始温度700~950℃,降温至550℃的快速冷却速度15~40℃/s。本发明解决了低温板坯加热技术生产高磁感取向硅钢时脱碳工序中渗氮困难的问题。通过在常化工序中对热轧板进行同步渗氮,使得后工序脱碳退火工艺得以简化和易于控制。这既能获得磁性能优异的高磁感取向硅钢产品,同时也可使生产成本得到降低。

    一种普通取向硅钢的生产方法

    公开(公告)号:CN1978673A

    公开(公告)日:2007-06-13

    申请号:CN200510111007.1

    申请日:2005-11-30

    Abstract: 一种普通取向硅钢的生产方法,主要包括将用传统方法制备的取向硅钢铸坯依次进行加热、热轧、一次冷轧、中间退火、二次冷轧、脱碳退火和高温退火的步骤,其中,在中间退火的步骤中,钢板加热后在湿氢气氛中脱碳,再在干气氛中保温;然后用大于30~55℃/秒的速度直接快冷到300~450℃,进行10~30秒的时效处理;在二次冷轧步骤中,时效轧制温度在150~250℃范围内,时效时间为5~20分钟。用该方法生产的产品可获得较好的碳化物形态和分布,能使钢板磁性能提高,生产效率高。

    一种半导体激光器抗冲击试验装置

    公开(公告)号:CN118329604A

    公开(公告)日:2024-07-12

    申请号:CN202410442675.5

    申请日:2024-04-12

    Abstract: 本发明涉及一种半导体激光器抗冲击试验装置。本发明包括工作台,所述工作台顶部固定连接有安装框,所述安装框内滑动连接有滑动块,通过连接块会在第二弹簧自身弹性恢复力的作用下复位,从而带动两组连接块相互靠近,并带动两组固定板同时向半导体激光器移动,直至与半导体激光器贴合,此时在第二弹簧的弹性力作用下,会对半导体进行夹持定位,将其固定在撞击杆底部,通过如此设置,在撞击杆对半导体激光器的外壳进行撞击时,半导体激光器受到两组固定板的固定,从而避免了半导体激光器在冲击力的作用下弹起并出现位移的情况,保证半导体激光器的撞击位置不会出现偏移,从而保证抗冲击试验的正常进行。

    一种高磁感取向硅钢及其制造方法

    公开(公告)号:CN115992331B

    公开(公告)日:2024-06-04

    申请号:CN202111215913.1

    申请日:2021-10-19

    Abstract: 本发明公开了一种高磁感取向硅钢,其含有Fe及不可避免的杂质元素,其还含有质量百分含量如下的下述各化学元素:C:0.02~0.08%,Si:2.0~4.5%,Mn:0.02~0.30%,S≤0.0050%,Als:0.01~0.04%,N:0.002~0.01%,Nb:0.0050~0.0600%;以及P:0.01~0.1%,Sn:0.01~0.30%,Cu:0.01~0.50%的至少其中一种。此外,本发明还公开了上述高磁感取向硅钢的制造方法,其包括步骤:(1)制得板坯;(2)板坯加热;(3)热轧,其包括:粗轧、在热卷箱内卷取保温,以及精轧;其中粗轧结束温度高于970℃;卷取温度为800~1050℃,卷取时间为30~200s;精轧开始温度低于1050℃;(4)冷轧;(5)脱碳退火;(6)渗氮;(7)涂覆退火隔离剂;(8)高温退火;(9)涂覆绝缘涂层和激光刻痕。

Patent Agency Ranking