公开(公告)号：CN110234792A

公开(公告)日：2019-09-13

申请号：CN201780007973.X

申请日：2017-03-17

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 ,  安德烈亚斯·索尔

IPC: C23C14/56 ,  C23C16/54 ,  H01L21/677 ,  H01L21/67

Abstract: 描述一种操作真空处理系统(100、200、300)的方法，所述真空处理系统具有主要传输路径(50)，基板可沿着主要传输路径(50)在主要传输方向(Z)上传输。方法包括：(1a)从主要传输路径(50)输送出基板(10)至第一沉积模块(D1)中以在基板(10)上沉积第一材料；(1b)从主要传输路径(50)输送出基板(10)至第二沉积模块(D2)中以在基板(10)上沉积第二材料；和(1c)从主要传输路径(50)输送出基板(10)至一个或多个沉积模块以在基板(10)上沉积一种或多种材料。此外，描述了操作真空处理系统的一个或多个旋转模块的多种方法，所述真空处理系统经构造以在多个基板上沉积两种或更多种材料。

公开(公告)号：CN109673158A

公开(公告)日：2019-04-23

申请号：CN201780029724.0

申请日：2017-08-17

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 ,  安德烈亚斯·索尔

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/12 ,  C23C14/04 ,  C23C16/04

Abstract: 一种用于在真空涂布工艺中处理若干掩模的方法。每个掩模被配置为在涂布工艺中使用预定涂布应用时间。方法包括：提供若干匣盒，每个匣盒具有若干掩模狭槽；和根据每个掩模的涂布应用时间，将所述若干掩模分类成至少两个群集群组。方法进一步包括：将所述至少两个群集群组分配到所述若干匣盒中的一个或多个；和根据分配，将所述若干掩模存储在所述若干匣盒中。

公开(公告)号：CN108966676A

公开(公告)日：2018-12-07

申请号：CN201780007122.5

申请日：2017-04-12

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 ,  安德烈亚斯·索尔

IPC: H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67712 ,  H01L21/67718 ,  H01L21/67736

Abstract: 说明一种处理掩模装置的方法，所述掩模装置经构造以用于在基板上的带掩模的沉积。所述方法包括：装载(Y1)掩模装置(10)至真空系统(100)中；在真空系统中附接(Y3)掩模装置(10)至掩模载体(15)；和在真空系统(100)中以非水平定向沿着输送路径输送保持掩模装置(10)的掩模载体(15)。一种其他掩模处理方法包括：在真空系统(100)中以非水平定向(V)沿着输送路径输送保持掩模装置(10)的掩模载体(15)；在真空系统(100)中从掩模载体(15)分离(X1)掩模装置(10)；和从真空系统(100)卸载(X3)掩模装置(10)。根据其他方面，说明一种用于处理掩模装置的掩模处理组件(20)以及具有至少一个掩模处理组件的真空系统。