公开(公告)号：CN102754034A

公开(公告)日：2012-10-24

申请号：CN201180009570.1

申请日：2011-02-18

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 中岛诚 ,  菅野裕太 ,  柴山亘

IPC: G03F7/11 ,  C07F7/18 ,  C08G77/26 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC classification number: C07F7/1804 ,  C08G77/388 ,  C09D183/08 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/094 ,  Y10T428/31663

Abstract: 本发明的课题是提供用于形成可以作为硬掩模使用的抗蚀剂下层膜的形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物。解决本发明课题的手段是提供包含水解性有机硅烷、其水解物、或其水解缩合物作为硅烷化合物的形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物，作为该水解性有机硅烷，包含下述式(1)所示的水解性有机硅烷，R1aR2bSi(R3)4-(a+b) 式(1)〔式中，R1表示式(2)所示的基团，[式(2)中，R4表示有机基团，R5表示碳原子数1～10的亚烷基、羟基亚烷基、硫醚键、醚键、酯键、或它们的组合，X1表示式(3)、式(4)、或式(5)。]R2为有机基团，R3表示水解基团。〕。

公开(公告)号：CN101878451A

公开(公告)日：2010-11-03

申请号：CN200880118089.4

申请日：2008-11-27

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 中岛诚 ,  菅野裕太 ,  柴山亘

IPC: G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/11 ,  G03F7/091

Abstract: 本发明的课题是提供形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物，其用于形成抗蚀剂下层膜，该抗蚀剂下层膜可以用作硬掩模或防反射膜。作为本发明的解决问题的方法是，一种形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物，包含：含异氰酸酯基或封端异氰酸酯基的水解性有机硅烷、其水解产物或其水解缩合物。上述水解性有机硅烷以式(1)表示：R1aR2bSi(R3)4-(a+b)式(1)(式中，R1表示异氰酸酯基、封端异氰酸酯基、或包含它们的有机基团，且末端的N原子或C原子与Si原子结合形成Si-N键或Si-C键，R2表示烷基、芳基、卤代烷基、卤代芳基、链烯基，或具有环氧基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、巯基、氨基或氰基的有机基团，且末端的C原子与Si原子结合形成Si-C键，R3表示烷氧基、酰氧基或卤原子，a表示1或2的整数，b表示0或1的整数，a+b表示1或2的整数。)。

公开(公告)号：CN110256630B

公开(公告)日：2021-09-28

申请号：CN201910432968.4

申请日：2015-02-27

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 汤川升志郎 ,  伊藤润 ,  后藤耕平 ,  菅野裕太 ,  大村浩之 ,  畑中真

IPC: C08F222/20 ,  C08F222/38 ,  C08F220/14 ,  C08F220/20 ,  C08L33/12 ,  C08L35/02 ,  C08L35/00 ,  C08L33/14 ,  G02F1/13363 ,  G02F1/1337

Abstract: 本发明提供可以用于提供具有优异的光反应效率，可以以高灵敏度使聚合性液晶取向的取向材的相位差材形成用树脂组合物。作为解决本发明课题的方法涉及一种能够热固化的相位差材形成用树脂组合物，以使用该组合物而得作为特征的取向材，以及使用由该组合物获得的固化膜而形成作为特征的相位差材，所述能够热固化的相位差材形成用树脂组合物的特征在于：含有树脂作为(A)成分，所述树脂具有热反应性部位直接结合或经由连接基团而连接的光取向性基团。

公开(公告)号：CN107615148B

公开(公告)日：2021-05-25

申请号：CN201680032189.X

申请日：2016-05-27

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 伊藤润 ,  菅野裕太 ,  畑中真

IPC: G02F1/1337 ,  C08F20/18 ,  C08L33/06 ,  G02F1/13363

Abstract: 本发明的课题在于提供一种光取向用液晶取向剂，其用于提供具有优异的光反应效率、且能够以高灵敏度使聚合性液晶取向的取向材料。解决手段为一种光取向用液晶取向剂、由该光取向用液晶取向剂得到的取向材料、相位差材料，所述光取向用液晶取向剂含有以下成分，(A)成分：具有包含下述式(1)所示结构的侧链的树脂；和(B)成分：下述式(2)所示的化合物。(式中，X1表示可以被任意取代的苯环，R表示选自OH及NH2中的取代基，R1、R2、R3、R4及R5分别独立地表示氢原子、卤素原子、C1～C6烷基、C1～C6卤代烷基等，n表示整数0或1。)

公开(公告)号：CN107406720B

公开(公告)日：2020-03-06

申请号：CN201680012698.6

申请日：2016-03-10

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 菅野裕太 ,  伊藤润 ,  畑中真

IPC: C08L101/06 ,  C08F220/18 ,  C09D4/02 ,  C09D7/63 ,  C09D7/65 ,  C09D133/14 ,  G02B5/30 ,  G02F1/13363 ,  G02F1/1337 ,  G02F1/1333

Abstract: 本发明的课题在于提供一种用于提供具有优异的光反应效率、能以高灵敏度使聚合性液晶取向的取向材的固化膜形成用组合物。解决手段是特征在于含有在侧链上具有下述式(1)表示的基团作为光取向性基团的高分子化合物的固化膜形成用组合物、使用该组合物得到的固化膜、取向材、相位差材。(式中，*表示与高分子化合物的侧链的键合位置，R1及R2各自独立地表示氢原子或烷基，R3表示烷基、烯基、环烷基、芳香族基团，R1与R3、或R2与R3可相互键合而形成环。X1表示可被任意的取代基取代的亚苯基。)

公开(公告)号：CN110408159A

公开(公告)日：2019-11-05

申请号：CN201910805963.1

申请日：2015-06-29

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 伊藤润 ,  汤川升志郎 ,  菅野裕太 ,  后藤耕平 ,  畑中真

IPC: C08L33/12 ,  C08L33/24 ,  C08K5/42 ,  C08K5/3492 ,  C08L67/02 ,  C08F290/12 ,  C08F222/20 ,  C08F220/64 ,  C08F220/68 ,  C08J5/18 ,  G02F1/1337 ,  G02B5/30

Abstract: 本发明的课题是提供，表层具有具备优异的液晶取向性和密合性的固化膜的光学膜、取向材料、以及使用该取向材料的相位差材料。本发明的解决方法是一种固化膜形成用组合物、取向材料、和相位差材料，该固化膜形成用组合物的特征在于，含有(A)成分、(B)成分和(C)成分，(A)成分：具有光取向性基团和热交联性基团的化合物中的至少一种，(B)成分：包含具有N-烷氧基甲基的重复单元和具有包含聚合性C＝C双键的侧链的重复单元的聚合物，所述(C)成分为选自(C-1)、(C-2)以及(C-3)中的至少一种聚合物，(C-1)：具有选自羟基、羧基、酰胺基、氨基和烷氧基甲硅烷基中的至少一种取代基的聚合物，(C-2)：具有可与(A)成分进行热反应的取代基、且可进行自交联的聚合物，(C-3)：三聚氰胺甲醛树脂。

公开(公告)号：CN106796373A

公开(公告)日：2017-05-31

申请号：CN201580047882.X

申请日：2015-09-08

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 伊藤润 ,  菅野裕太 ,  畑中真

IPC: G02F1/1337 ,  C08G59/16 ,  C08G59/40 ,  C08L63/00 ,  G02B5/30

Abstract: 本发明提供固化膜形成用组合物，其用于提供具有优异的垂直取向性，并且具备光学补偿膜所要求的透明性、耐溶剂性、以及与基材和聚合性液晶层的密合性，即使在树脂膜上也可以在低温短时间的烧成条件下稳定地使聚合性液晶垂直地取向的取向材。作为解决本发明课题的方法涉及：固化膜形成用组合物，其特征在于，含有(A)使具有羧基和垂直取向性基团的化合物的羧基对侧链或末端具有1个以上环氧基的聚合物的环氧基进行反应而得的聚合物、(B)交联剂、以及(C)密合促进剂和(D)具有热交联性基团的聚合物中的任一者或两者；取向材，其特征在于，是使用该组合物而获得的；相位差材，其特征在于，是使用该组合物而获得的。

公开(公告)号：CN106604973A

公开(公告)日：2017-04-26

申请号：CN201580046083.0

申请日：2015-08-27

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 伊藤润 ,  畑中真 ,  大村浩之 ,  汤川升志郎 ,  菅野裕太

IPC: C09D201/00 ,  C09D7/12 ,  C09D133/14 ,  G02B5/30 ,  G02F1/13363 ,  G02F1/1337

Abstract: 本发明的课题在于提供一种固化膜形成用组合物，所述固化膜形成用组合物用于提供具有优异的垂直取向性和密合性、即使在树脂膜上也能以高灵敏度使聚合性液晶垂直取向的取向材料、和使用了这样的取向材料的相位差材料。其解决手段是：固化膜形成用组合物，其特征在于，含有(A)具有垂直取向性基团和能够热交联的官能团的聚合物、(B)交联剂、以及(C)密合促进剂和(D)具有热交联性基团的聚合物中的任意一者或两者；取向材料，其特征在于，是使用该组合物得到的；相位差材料，其特征在于，是使用该组合物得到的。

公开(公告)号：CN106062009A

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：CN201580011005.7

申请日：2015-02-27

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 伊藤润 ,  汤川升志郎 ,  菅野裕太 ,  后藤耕平 ,  畑中真

IPC: C08F2/44 ,  C08F265/04 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1337

CPC classification number: C09D4/06 ,  C08F220/20 ,  C08F220/36 ,  C08F251/02 ,  C08F265/04 ,  C08F265/06 ,  C08F283/02 ,  C08F285/00 ,  C08F2222/1013 ,  C08F2222/1026 ,  C09K19/062 ,  C09K19/2028 ,  C09K19/22 ,  C09K19/56 ,  C09K2019/0444 ,  C09K2019/0448 ,  C09K2019/2035 ,  G02B1/04 ,  G02B1/08 ,  G02B5/3016 ,  G02B5/3083 ,  G02F1/133788

Abstract: 本发明的课题是提供一种适于形成具有优异的液晶取向性的固化膜的固化膜形成用组合物。解决手段是一种固化膜形成用组合物、以及使用该固化膜形成用组合物而形成的取向材料或相位差材料，所述固化膜形成用组合物含有以下成分：(A)成分：一种或多种具有包含光取向性部位及热反应性部位的基团和聚合性基团的单体、(B)成分：选自下述(B‑1)～(B‑3)中的至少一种聚合物[(B‑1)：具有至少2个选自羟基、羧基、酰胺基、氨基、烷氧基甲硅烷基及下述式(2)表示的基团中的至少一种基团的聚合物、(B‑2)：能够与(A)成分的热反应性部位进行热反应且能够自交联的聚合物、及(B‑3)：三聚氰胺甲醛树脂]、以及(C)交联剂。

公开(公告)号：CN104737076A

公开(公告)日：2015-06-24

申请号：CN201380055105.0

申请日：2013-10-24

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 菅野裕太 ,  中岛诚 ,  武田谕 ,  若山浩之

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明的课题是提供一种用于形成可以作为硬掩模使用的抗蚀剂下层膜的光刻用途的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种光刻用途的抗蚀剂下层膜形成用组合物，作为硅烷含有水解性硅烷、其水解物或其水解缩合物，该水解性硅烷含有式(1)的硅烷、或式(1)与式(2)的硅烷组合，且该式(1)的硅烷、或式(1)与式(2)的硅烷组合基于全部硅烷低于50摩尔％。式(1)[式中，R1为含有式(1-1)、式(1-2)、式(1-3)、式(1-4)或式(1-5)的有机基团，a表示整数1，b表示整数0或1，a+b表示整数1或2。]，式(2)[式中，R4为含有式(2-1)、式(2-2)或式(2-3)的有机基团，a1表示整数1，b1表示整数0或1，a1+b1表示整数1或2。]。