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公开(公告)号：CN103547530B
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201280011528.8
申请日：2012-03-15
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: C01B31/04 , C04B35/522 , C04B35/524 , C04B35/62218 , H01L23/373 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明通过设置2个级别以上的加热空间连续地进行煅烧，可以获得褶皱或波纹得到抑制的石墨片材。特别是如果在各加热空间之间存在冷却空间，那么可以获得平坦性优异、热扩散率较高的石墨膜。
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公开(公告)号：CN105565301A
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201510971545.1
申请日：2011-05-12
Applicant: 株式会社钟化
IPC: C01B31/04
CPC classification number: C01B32/20
Abstract: 平坦性差的原料石墨膜在进行与其它材料的层压时会发生产生褶皱等不良情况。特别是对于大面积的石墨膜，往往会发生产生褶皱等不良情况。为了解决该问题而实施平坦性矫正处理工序，该工序中，一边对原料石墨膜施加压力，一边进行热处理直至2000℃以上。通过该平坦性矫正处理，可获得平坦性良好的石墨膜。进一步利用内芯的热膨胀进行矫正时，可获得松弛度小的石墨膜。
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公开(公告)号：CN103080005B
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201180040757.8
申请日：2011-08-19
Applicant: 株式会社钟化
IPC: C01B31/04
CPC classification number: C01B31/04 , C04B35/522 , C04B35/524 , C04B35/62218 , C04B35/63444 , C08G69/26 , C08G69/28 , C08L77/06
Abstract: 本发明能通过对构成石墨膜原料即聚酰亚胺膜的酸二酐和二胺加以适当选择，来制造较少产生石墨粉末的石墨膜。具体而言，可以通过方案（1）或（2）来获得较少产生石墨粉末的石墨膜。方案（1）：以PMDA为酸二酐，以ODA/PDA（摩尔比率为100/0～80/20）为二胺；方案（2）：以PMDA/BPDA（摩尔比率为80/20～50/50）为酸二酐，以ODA/PDA（摩尔比率为30/70～90/10）为二胺。
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公开(公告)号：CN104169214A
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201380015309.1
申请日：2013-09-19
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: C01B32/20 , B32B18/00 , C01B32/05 , C04B35/522 , C04B35/524 , C04B35/62218 , C04B2235/6562 , C04B2235/9607 , C04B2237/363
Abstract: 以连续生产方式所生产的碳质膜、及对该碳质膜进行热处理而获得的石墨膜有易产生褶皱的问题。本发明通过使用连续碳化装置沿高分子膜的厚度方向进行加压并在该加压状态下进行热处理，以获得褶皱得到抑制的碳质膜及石墨膜。
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公开(公告)号：CN103402915A
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201280010613.2
申请日：2012-03-26
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: C01B31/02 , B32B18/00 , C01B32/05 , C01B32/20 , C04B35/522 , C04B35/524 , C04B2237/363 , C04B2237/704 , C04B2237/84 , C08G73/10
Abstract: 本发明的课题在于，在利用高分子热分解法的长尺寸（辊状）的碳质膜的制造中，抑制碳质膜的熔合、波状起伏。一种碳质膜的制造，其特征在于，其是经由将高分子膜在卷成辊状的状态下进行热处理的工序来制造碳质膜的方法，在低于该高分子膜的热分解开始温度的温度下，当制成下述的辊状高分子膜后进行热处理，所述辊状高分子膜在50%截面圆的内侧的部分具有空间（50%截面圆内的空间），所述50%截面圆是以辊状高分子膜的中心为圆周的中心、以相对于高分子膜全长从内侧开始50%的膜长度的位置为圆周上的一点的辊状高分子膜的截面圆，50%截面圆内的空间所占的面积相对于50%截面圆的截面积为25%以上；特别是通过在芯与辊状高分子膜的最内径之间具有空间，上述课题的抑制进一步有效。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109843796A
公开(公告)日：2019-06-04
申请号：CN201780063100.0
申请日：2017-10-12
Applicant: 株式会社钟化
IPC: C01B32/205
Abstract: 本发明提供外观及热扩散率优越的石墨膜的制造方法。本发明的石墨膜的制造方法包括：制备下式(1)所示的加热减量率X为0.13％以上且10％以下的聚酰亚胺膜的工序、以及对该聚酰亚胺膜进行热处理以使其石墨化的工序。通过该制造方法能够解决所述课题。加热减量率X＝(b－a)/a式(1)(式中，a表示在400℃下加热15分钟后的膜质量，b表示在150℃下加热15分钟后的膜质量)。
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公开(公告)号：CN106029566A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201580009408.8
申请日：2015-01-15
Applicant: 株式会社钟化
IPC: C01B31/04 , C04B35/52 , H01L23/373 , H05K7/20
CPC classification number: H01L23/3735 , B32B18/00 , C01B32/20 , C01P2004/20 , C01P2006/12 , C01P2006/82 , C04B35/522 , C04B2235/787 , C04B2237/363 , C04B2237/704 , C04B2237/82 , H01L21/4803 , H01L23/373 , H01L23/42 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明能通过采用由石墨层层叠而成并且吸水量少的高取向性石墨(10)，来实现一种以不会发生层间剥离的该高取向性石墨(10)为构成成分，且使用时的信赖度高并具有良好散热性的电子设备。
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公开(公告)号：CN102811947B
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201180010401.X
申请日：2011-02-14
Applicant: 株式会社钟化
IPC: C01B31/04
CPC classification number: B32B37/20 , B32B7/12 , B32B9/007 , B32B37/0053 , B32B37/12 , B32B38/10 , B32B38/18 , B32B2250/02 , B32B2313/04 , C01B32/20 , C04B35/522 , C04B35/524 , C04B35/62218 , C04B35/6269 , C04B35/63468 , C04B2235/604 , C04B2235/6581 , C04B2235/96 , C04B2235/9638
Abstract: 表现出极低的平均撕裂负荷的石墨膜在其制造步骤及加工步骤中容易发生破裂不良、卷边不齐、褶皱不良、尺寸精度不良等各种不良情况。即便如此，通过使用满足以下条件（1）、（2）的石墨膜，就能抑制这些不良情况。（1）在依照日本工业标准JIS K7128来进行的裤形撕裂试验中，平均撕裂负荷为0.08N以下；（2）在依照日本工业标准JIS C2151来进行的膜卷取性评价中，松弛度为5mm以上且80mm以下。
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公开(公告)号：CN105217608A
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201510593364.X
申请日：2009-06-22
Applicant: 株式会社钟化
IPC: C01B31/04
CPC classification number: C04B35/524 , C01B32/19 , C01B32/20 , C01B32/205 , C01B32/225 , Y10T428/30
Abstract: 提供长条状、大面积的热扩散性、耐弯曲性、波状起伏得到改善的石墨膜。利用如下的石墨膜的制造方法能够提供波状起伏得到非常大的改善的石墨膜，该石墨膜的制造方法是以在内芯上卷绕由碳化的高分子膜形成的热处理膜的状态，进行石墨化的石墨膜的制造方法，其特征在于，控制内芯和膜及/或膜间的距离来进行热处理。
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