一种晶圆卸载和压紧装置
    31.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111341720A

    公开(公告)日:2020-06-26

    申请号:CN201811558300.6

    申请日:2018-12-19

    IPC分类号: H01L21/687

    摘要: 本发明公开一种晶圆卸载和压紧装置,包括:驱动机构,推板(8),连接杆(7),压环(3)和顶针(12),所述驱动机构包括气缸(6)及其上行气路(10)和下行气路(9),压环(3)通过连接杆(7)与推板(8)连接,顶针(12)与推板(8)相连,气缸(6)推动推板(8)带动压环(3)和顶针(12)上下运动。本发明结构简洁,节省了大量的真空腔室体积。新型的气路结构设计,保证了晶圆位置的准确性,而且几乎没有刚性的惯性接触,极大程度的减少了晶圆损坏和颗粒产生的可能性,从而保证了真空腔室的清洁度和半导体加工工艺的品质,节约了成本。

    一种高压线路传输装置
    33.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111243929A

    公开(公告)日:2020-06-05

    申请号:CN201811439946.2

    申请日:2018-11-29

    摘要: 本发明公开一种高压线路传输装置,包括旋转接头定子(1)、旋转接头转子(2)、高压线路(3)、密封体转子(4)、密封体定子(5)、静电卡盘支座(6)、高压插针座(9)、高压插针(10)、高压线引线槽(11)和密封槽(12),密封体转子(4)为中空结构,高压线路(3)通过旋转接头的转子(2),从密封体转子(4)和密封体定子(5)中穿过引入静电卡盘支座(6)后,经由高压引线槽(11)连接固定在高压插针(10)上,高压插针(10)通过螺纹固定安装在高压插针座(9)上。本发明易于装配维护,并且高压线路的布局更加合理,能够有效减少设备异常情况发生。

    一种等离子体处理设备的进气装置

    公开(公告)号:CN111223736A

    公开(公告)日:2020-06-02

    申请号:CN201811419527.2

    申请日:2018-11-26

    IPC分类号: H01J37/32

    摘要: 一种等离子体处理设备的进气装置,包括:腔盖(1),覆盖于反应腔室的正上方,两侧分别设置有单独的进气嘴(4,5),分别连接外部通入的两路工艺气体;耦合窗(2),位于腔盖(1)的内部上方,下表面与腔盖(1)之间设置有密封圈(6),使腔盖(1)与反应腔室之间形成封闭的真空空间;以及分区匀气盘(3),位于腔盖(1)的内部,上表面正对耦合窗(2),下表面面对反应腔室内部,反应气通过下表面进入反应腔。本发明能够实现两路气体独立通入反应腔室,并且对其混合比例进行精确灵活的控制,控制精度较高,极大程度的改善了等离子体处理工艺如刻蚀、镀膜等工艺的均匀性,并且结构简单,方便拆装。

    一种可动多离子源配置的离子束刻蚀机

    公开(公告)号:CN110571115A

    公开(公告)日:2019-12-13

    申请号:CN201910875474.3

    申请日:2019-09-17

    摘要: 本发明涉及一种可动多离子源配置的离子束刻蚀机,属于半导体刻蚀技术领域。可动多离子源配置的离子束刻蚀机,该刻蚀机包括反应腔体,该反应腔体上设有窗口,反应腔体的中心处布置电极运动驱动机构,电极运动驱动机构上设有载片电极,载片电极上放置晶圆;反应腔体内位于晶圆的上方设有一个或多个离子源;一个或多个离子源与晶圆之间布置分别布置中和器;一个或多个离子源所发出的离子束通过中和器所发出的中和束流。采用多离子源及其活动功能的配置可以在晶圆自身取消公转后实现晶圆表面接收到的离子数量最大程度的相同,提高晶圆表面刻蚀的均匀性。同时可以根据刻蚀的结果,随时调整离子源的位置,实现刻蚀过度或刻蚀不足部位的灵活调整性。

    机械手驱动机构
    36.
    实用新型

    公开(公告)号:CN209364624U

    公开(公告)日:2019-09-10

    申请号:CN201822254473.0

    申请日:2018-12-29

    IPC分类号: B25J9/12 B25J9/14

    摘要: 本实用新型公开一种机械手驱动机构,包括:升降驱动机构和水平驱动机构,其中,升降驱动机构的升降波纹管上端连接升降底板,下端固定在腔体上,气缸通过活塞杆与升降底板相连接,活塞杆套装在升降波纹管中,导向杆设置在腔体底部,在升降底板上对应位置设有导向套,与导向杆配合,使升降底板平稳升降,水平驱动机构的钢带驱动机构与电机相连,滑轨导向装置与机械手连接,使机械手沿滑轨导向方向运动,钢带驱动机构与机械手的中间部位相连接,在电机的驱动下带动机械手水平运动,滑轨导向装置和钢带驱动机构安装在升降底板上,升降底板在气缸的驱动下,实现机械手的垂直升降。

    一种压环无摩擦升降装置
    37.
    实用新型

    公开(公告)号:CN209367723U

    公开(公告)日:2019-09-10

    申请号:CN201821978593.9

    申请日:2018-11-26

    摘要: 本实用新型公开一种压环无摩擦升降装置,包括:驱动部件(1)、波纹管组件固定座(2)、波纹管(3)、固定法兰(4)、运动轴(5)和压环支撑环(6),波纹管组件固定座(2)与驱动部件(1)相连接,波纹管(3)套在运动轴(5)外,固定法兰(4)设置于波纹管(3)的上端,用于与腔体固定连接,波纹管(3)和运动轴(5)的下端均安装在波纹管组件固定座(2)上,压环支撑环(6)安装在运动轴(5)的上端,压环支撑环(6)上固定有压环组件,运动轴(5)与波纹管(3)内径间存在间隙,驱动部件(1)驱动运动轴(5)带动压环支撑环(6)升降过程中不产生摩擦,有效降低了杂质颗粒的产生,改善了工艺环境。

    一种静电卡盘
    38.
    实用新型

    公开(公告)号:CN209199868U

    公开(公告)日:2019-08-02

    申请号:CN201822072052.6

    申请日:2018-12-11

    IPC分类号: H01J37/32 H01L21/683

    摘要: 本实用新型公开了一种静电卡盘,自下而上依次包括基座(5)、集成基体(4)、复合层(2)和陶瓷层(1),环状防护胶体(3)位于所述集成基体(4)上,所述复合层(2)外周,还包括:加热盘(8),位于基座(5)底部,与静电卡盘直径接近,加热盘(8)内部布满电阻丝,对整个静电卡盘进行整体均匀加热。本实用新型能够使静电卡盘的获得整体均匀的温度,从而获得更好的工艺效果。

    半导体设备的开腔装置和半导体设备

    公开(公告)号:CN209374411U

    公开(公告)日:2019-09-10

    申请号:CN201822144946.1

    申请日:2018-12-20

    IPC分类号: H01L21/67

    摘要: 本实用新型公开一种半导体设备的开腔装置和半导体设备,半导体设备的开腔装置包括升降轴(1)和套设在升降轴外侧的轴固定座(6),轴固定座安装于真空腔体(15)的外侧壁上,升降轴在轴固定座内沿所述升降轴的轴向方向滑动,所述半导体设备的开腔装置还包括载动分位臂(7)、轴承(10)和驱动元件(12),升降轴的下端连接驱动元件,载动分位臂套设在升降轴的上端的外侧,载动分位臂与升降轴的上端之间设有轴承,载动分位臂固定连接于腔盖(16)。该半导体设备的开腔装置能够实现腔盖的升降和旋转,使得整个操作过程轻松安全,且结构简单、安全可靠、性价比高,能够有效提高生产效率。

    一种机械手
    40.
    实用新型

    公开(公告)号:CN209190790U

    公开(公告)日:2019-08-02

    申请号:CN201822254452.9

    申请日:2018-12-29

    IPC分类号: B25J11/00

    摘要: 本实用新型公开一种机械手,用于输送晶片,所述机械手包括导轨、机械手指、机械手臂以及滑块,导轨固定设置于机架上;机械手指用于持取所述晶片,机械手臂可滑动地设置于所述导轨上,所述机械手臂包括重心区结构,所述重心区结构具有首端和尾端,所述首端固定设置有用于与所述机械手指连接的悬臂梁,所述尾端设置有配重;滑块与所述导轨配合,所述滑块设置于所述重心区结构,该机械手结构简单,成本低廉。