半导体制造装置及半导体装置的制造方法

    公开(公告)号:CN110890289B

    公开(公告)日:2024-04-05

    申请号:CN201811552546.2

    申请日:2018-12-19

    发明人: 林秀和

    摘要: 实施方式提供一种能够适当地去除相互贴合的基板的一部分的半导体制造装置及半导体装置的制造方法。实施方式的半导体制造装置包含安装部,该安装部在包含相互贴合的第1基板与第2基板的被加工基板,以包围所述第1基板的方式安装具有环状的形状的环状部件。所述装置还包含保持安装了所述环状部件的所述被加工基板的保持部。所述装置还包含对利用所述保持部所保持的所述被加工基板的所述第2基板供给第1流体的第1流体供给部。

    非易失性存储装置对主机任务的分担

    公开(公告)号:CN117785751A

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202311260967.9

    申请日:2023-09-27

    发明人: M·萨卢加

    IPC分类号: G06F13/16 G06F13/40 G06F13/42

    摘要: 本公开涉及非易失性存储装置对主机任务的分担。各种实施方式涉及由非易失性存储器装置从主机接收包括非易失性存储器装置的装置环境信息的主机命令。装置环境信息包括每个非易失性存储器装置的缓冲器的地址。响应于接收到主机命令,在非易失性存储器装置之间分割主机命令的部分。非易失性存储器装置向主机发送传输请求,传输请求指示将主机数据的每个部分传输到非易失性存储器装置中的相应的一个。基于装置环境信息,非易失性存储器装置将对等命令发送到另一非易失性存储器装置。

    SSD中数据的选择性擦除
    44.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113508382B

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN201980092973.3

    申请日:2019-12-31

    发明人: 亚伦·克林

    IPC分类号: G06F21/60 G06F12/00

    摘要: 本文中所描述的各种实施方案涉及用于在固态驱动器(SSD)中管理选择性擦除的系统及方法,所述方法包含:接收对应于擦除映射到逻辑地址的有效数据及无效数据的选择性擦除命令;及响应于接收到所述选择性擦除命令,基于将所述逻辑地址映射到一或多个页的映射表来擦除映射到所述逻辑地址的所述一或多个页位于其中的块。有效数据及无效数据两者可物理地存储在一或多个页中。

    半导体装置
    45.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110910935B

    公开(公告)日:2024-03-26

    申请号:CN201811610343.4

    申请日:2018-12-27

    发明人: 梅泽多佳子

    IPC分类号: G11C16/04 H01L27/15

    摘要: 实施方式提供能够抑制布线的拖尾现象的半导体装置。实施方式的半导体装置具备第1布线W1和第2布线W2。第2布线W2与第1布线W1具有规定的布线间隔地配置。第2布线W2的端部形成1个以上的环。

    半导体存储装置及半导体存储装置的制造方法

    公开(公告)号:CN117750767A

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN202310732274.9

    申请日:2023-06-20

    发明人: 永岛贤史

    摘要: 实施方式的半导体存储装置具有第一层叠体、第二层叠体、夹设部和柱状体。所述夹设部配置在所述第一层叠体与所述第二层叠体之间。所述柱状体具有在所述第一层叠体内沿所述第一方向延伸的第一柱状部、在所述第二层叠体内沿所述第一方向延伸的第二柱状部、以及配置在所述夹设部且将所述第一柱状部与所述第二柱状部连接的连接部。所述夹设部的至少一部分具有:包含第一绝缘材料的第一层、在所述第一方向上配置在所述第一层与所述第二层叠体之间且包含所述第一绝缘材料的第二层、在所述第一方向上配置在所述第一层和所述第二层之间且包含与所述第一绝缘材料不同的第一材料的第三层。

    半导体装置
    47.
    发明公开
    半导体装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN117750756A

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN202311028173.X

    申请日:2023-08-15

    IPC分类号: H10B12/00

    摘要: 本发明的实施方式的半导体装置具备:第1配线(51),设置于第1层(L1),于第1方向延伸;第2配线(52),设置在位于第1层的上层侧的第2层(L2),于第1方向延伸;第1半导体层(31a),不贯通第2配线,贯通第1配线并于与第1方向交叉的第2方向延伸;第2半导体层(31b),不贯通第1配线,贯通第2配线并于第2方向延伸;第1绝缘层(32a),设置于第1配线与第1半导体层之间;第2绝缘层(32b),设置于第2配线与第2半导体层之间;第1电容器(40a),电连接于第1半导体层的第1端部;及第2电容器(40b),电连接于第2半导体层的第1端部。

    存储装置、存储器系统及存储装置的控制方法

    公开(公告)号:CN117742574A

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN202311058645.6

    申请日:2023-08-22

    发明人: 山崎厚志

    IPC分类号: G06F3/06 G06F21/44

    摘要: 本发明提供一种能够自动地封堵调试端口的存储装置、存储器系统、及存储装置的控制方法。本发明是具有第1认证码的存储装置,且具备:通信端口,构成为在与外部之间收发包含调试用的数据的信息;及调试端口控制装置,能够将连接于所述通信端口的通信路径断开;所述调试端口控制装置是:从外部接收包含第2认证码的认证要求,判定所述第2认证码是否与所述第1认证码一致,在未判定出所述第2认证码与所述第1认证码一致的情况下,将所述通信路径断开。

    半导体存储装置
    49.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112489703B

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN202010009814.7

    申请日:2020-01-06

    发明人: 仁木祐介

    摘要: 实施方式提供一种具备能够减小配置面积且能够抑制选择电压误施加于非选择BL或者非选择WL或起因于邻接的选择BL或选择WL的变动的多工器的半导体存储装置。实施方式的半导体存储装置具备分为各m根(m为2以上的整数)的多个群组的多个第1信号线、及第2信号线。胞阵列具有与第1信号线和第2信号线的交点对应设置的记忆胞。m根全局信号线对任一第1信号线施加选择电压。多个第1晶体管对应各第1信号线分别设置1个,并连接于第1信号线与全局信号线之间。多个第1选择信号线与多个群组的各者对应设置且共通连接于该对应的群组中所包含的第1晶体管的栅极电极。多个第1虚设信号线配置于相互邻接的群组间,被施加非选择电压。

    存储装置及存储装置的制造方法

    公开(公告)号:CN113451354B

    公开(公告)日:2024-03-19

    申请号:CN202010699077.8

    申请日:2020-07-20

    发明人: 岡嶋睦

    摘要: 本发明的实施方式涉及一种存储装置及存储装置的制造方法。根据一实施方式,实施方式的存储装置包含:第1芯片(400),包含绝缘层(61)及第1焊垫(73);多个存储器部(51),设置在绝缘层(61)的第1区域(A1)内,以第1间隔(Dp1)排列在与第1芯片(400)的表面平行的第1方向上;多个第1标记部(990),设置在绝缘层(61)的第2区域(A2)内,以第2间隔(Dp2)排列在第1方向上;第2芯片(410),在与第1芯片(400)的表面垂直的第2方向上与第1芯片(400)重叠,包含连接于第1焊垫(73)的第2焊垫(38);及电路(CC),设置在第2芯片(410)内。