公开(公告)号：CN105241224A

公开(公告)日：2016-01-13

申请号：CN201510730105.7

申请日：2015-11-02

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 苗心向 ,  贾宝申 ,  吕海兵 ,  王洪彬 ,  刘昊 ,  程晓锋 ,  周国瑞 ,  袁晓东 ,  牛龙飞 ,  马志强

IPC: F26B23/06

Abstract: 本发明提供了一种箱体内壁红外烘烤机，该红外烘烤机的底座下安装有四个万向轮；底座上面的一侧安装有电机，电机上安装有螺杆，灯架Ⅰ上的内螺纹套筒套在螺杆上并与螺杆形成螺纹-螺杆运动副，螺杆与底座上面的轨道平行，灯架Ⅰ在轨道上滑动；底座上面还布置有棘轮-滑轮机构控制灯架Ⅱ的升降；灯架Ⅰ与灯架Ⅱ固连，灯架Ⅰ和灯架Ⅱ上布置有红外烘烤灯。本发明的箱体内壁红外烘烤机可在箱体内的四个维度上运动调整，烘烤效率高且不会对箱体外表面喷漆造成损坏，能够满足为大型激光装置下架洁净清洗后的箱体加快残留水分蒸发和防锈的需求，结构简单，烘烤快速，方便宜行，操作容易。

公开(公告)号：CN110813924B

公开(公告)日：2024-08-23

申请号：CN201911291678.9

申请日：2019-12-16

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 牛龙飞 ,  苗心向 ,  周国瑞 ,  刘昊 ,  吕海兵 ,  蒋一岚 ,  蒋晓东 ,  周海 ,  倪卫

IPC: B08B6/00 ,  B08B5/02 ,  B08B15/04

Abstract: 本发明公开了一种用于光学元件表面颗粒污染物的处理系统，包括：底板，其上通过支撑柱放置有光学元件；风刀及离子棒单元，其通过支撑单元连接在底板上，且风刀及离子棒单元位于光学元件的一端，并使风刀及离子棒单元的出风口正对光学元件的上表面；静电吸附电极，其包括平行设置的正电极棒和负电极棒，正电极棒和负电极棒分别通过电极支撑架连接在底板上，且正电极棒位于光学元件的上方，负电极棒位于光学元件的的下方。本发明通过风刀及离子棒产生离子风或高速气流将光学元件表面的污染物去除并使污染物荷电，采用静电吸附电极在光学元件末端或将静电吸附电极带动在光学元件表面进行来回运动，对污染物进行收集，从而达到污染物去除的目的。

公开(公告)号：CN111175683B

公开(公告)日：2024-08-16

申请号：CN202010181860.5

申请日：2020-03-16

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 牛龙飞 ,  周国瑞 ,  苗心向 ,  吕海兵 ,  蒋一岚 ,  刘昊 ,  姚彩珍

IPC: G01R35/00

Abstract: 本发明公开了一种交直流复合磁场‑力‑热环境下实验测试系统，包括：工作台；一对平行的直流亥姆霍兹线圈，其通过移动单元设置在工作台上；两对平行的交流亥姆霍兹线圈，其通过支撑杆设置在工作台上，且两对平行的交流亥姆霍兹线圈连接在支撑杆的顶部并合围形成容纳腔体；且容纳腔体位于一对平行的直流亥姆霍兹线圈之间的中心处；温控炉，其设置在支撑杆的顶部，且温控炉位于容纳腔体内；测力单元，其设置在工作台上并位于一对平行的直流亥姆霍兹线圈的一端，且测力单元的施力方向与一对平行的直流亥姆霍兹线圈的轴线平行；夹具单元，其设置在工作台上并位于一对平行的直流亥姆霍兹线圈的另一端，且夹具单元与测力单元相对应设置。

公开(公告)号：CN118477860A

公开(公告)日：2024-08-13

申请号：CN202410578554.3

申请日：2024-05-10

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 苗心向 ,  朱启华 ,  蒋晓东 ,  向思衡 ,  蒋一岚 ,  周国瑞 ,  牛龙飞 ,  尤辉 ,  邹睿 ,  马志强 ,  姚彩珍

IPC: B08B7/00 ,  B08B6/00 ,  G02B27/09 ,  G02B27/00

Abstract: 本发明公开了一种光学元件洁净处理装置，包括激光约束单元和静电吸附单元，激光约束单元包括激光系统和光束整形系统。本发明提供一种光学元件洁净处理方法，利用光束整形系统将激光系统发出的激光束整形为高斯光束，使静电吸附单元产生的电场覆盖高斯光场；控制激光约束单元以及静电吸附单元的启动时间，与光学元件通光时间同步，以使损伤喷溅离子的飞行路径经过高斯光场和静电吸附单元产生的电场，利用高斯光场控制粒子向静电吸附单元移动，粒子被静电吸附单元吸附。本发明利用高斯光场对喷溅离子的约束力，将喷溅离子限制在高斯光场中，通过调节高斯光场的能量控制粒子向静电吸附单元移动，静电吸附单元将粒子吸附，达到去除损伤颗粒的目的。

公开(公告)号：CN106645197B

公开(公告)日：2024-01-30

申请号：CN201611233039.3

申请日：2016-12-29

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 周国瑞 ,  苗心向 ,  吕海兵 ,  牛龙飞 ,  丁文东 ,  刘昊 ,  李可欣 ,  邹睿 ,  刘青安 ,  马志强 ,  周海 ,  袁晓东

IPC: G01N21/94

Abstract: 本发明公开了一种检测精密光学元件表面颗粒物的在线检测系统，包括：箱体，其顶部设置有可供激光进入的入光口；设置在箱体内部的光学元件；其中，所述光学元件的镜框边缘上方相对设置有2个线光源；所述箱体一侧设置有光学显微成像装置；所述成像装置通过与其通信连接的上位机进而实现对光学元件表面颗粒物的在线检测。本发明提供一种检测精密光学元件表面颗粒物的在线检测系统，其能够通过光学元件与线光源，上位机与光学显微成像装置的配合，实现对光机装置中光学元件表面颗粒污染物的在线监测，并高效、高精度地实时提供光学元件表(56)对比文件王世通.精密表面缺陷检测散射成像理论建模及系统分析研究.万方学位论文.2015,1-123.苗心向，等.激光装置污染物诱导光学元件表面损伤实验研究.中国激光.2015,第42卷(第06期),9-15.王科.光学元件表面疵病散射法检测技术研究.中国优秀硕士学位论文电子期刊工程科技Ⅱ辑.2016,(第04期),1-77.王玉增.颗粒显微图象二值化方法研究.济南大学学报.2003,(第2期),155-156.Darji R，等.Scattering corrections insmall particle imaging. Micron.1997,第28卷(第2期),95-100.程晓锋;徐旭;张林;贺群;袁晓东;蒋晓东;郑万国.基于高分辨力CCD的大口径光学元件疵病检测.强激光与粒子束.2009,(第11期),1677-1680.杨甬英;陆春华;梁蛟;刘东;杨李茗;李瑞洁.光学元件表面缺陷的显微散射暗场成像及数字化评价系统.光学学报.2007,(第06期),1031-1038.

公开(公告)号：CN115093113B

公开(公告)日：2023-12-05

申请号：CN202210690677.7

申请日：2022-06-17

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 周国瑞 ,  向思衡 ,  尤辉 ,  苗心向

IPC: C03B37/025 ,  C03B37/027 ,  C03B37/03

Abstract: 本发明涉及一种用于微纳光纤拉制的直径在线监控系统，属于微纳光子学器件技术领域。所述直径在线监控系统主要由激光光源模块、模拟信号处理模块、数字信号处理模块、PC终端以及微纳光纤拉制装置组成。所述激光光源模块包括温度控制器、激光器以及隔离器；所述模拟信号处理模块包括光电转换装置、信号滤波装置以及差分信号放大装置；所述数字信号处理模块包括A/D转换器、队列存储和逻辑运算装置。本发明所述直径在线监控系统能够实现微纳光纤拉制全流程直径在线监控，可精确监测并控制微纳光纤直径范围500nm‑10μm，直径精度小于2％。

公开(公告)号：CN114573931B

公开(公告)日：2023-05-09

申请号：CN202210212658.3

申请日：2022-03-04

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 蒋一岚 ,  吕海兵 ,  牛龙飞 ,  苗心向 ,  周国瑞

IPC: C08L29/04 ,  C08K3/16

Abstract: 本发明公开了一种用于光学元件表面损伤坑修复的胶体的制备方法及应用，包括：将聚乙烯醇和高纯水混合搅拌，得到胶体A；将胶体A置于25℃恒温下，静置24‑36h，得到胶体B；将胶体B进行加热搅拌，得到胶体C；在胶体C中缓慢滴加刻蚀剂，并搅拌至充分溶解，得到用于光学元件表面损伤坑修复的胶体。该胶体可用于光学元件表面损伤坑的修复，修复效率高，且可修复800μm以上的损伤坑，从而提升光学元件的抗激光损伤阈值。此修复方法是利用HF的刻蚀性，对损伤坑内部进行轻度刻蚀，使其内部平滑，可减缓激光通过光学元件时由于损伤坑所引起的光场调制，一方面可以避免损伤坑尺寸的进一步扩大，另一方面也能避免引起下游光学元件的损伤。

公开(公告)号：CN115625416A

公开(公告)日：2023-01-20

申请号：CN202211424095.0

申请日：2022-11-15

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 姚彩珍 ,  蒋一岚 ,  牛龙飞 ,  向思衡 ,  苗心向 ,  吕海兵 ,  周国瑞

IPC: B23K26/122 ,  B23K26/14 ,  B23K26/352 ,  B23K26/60 ,  B23K26/70

Abstract: 本发明公开了钝化液辅助飞秒激光加工金属表面三维精细结构的方法，包括：金属样品预处理；搭建飞秒激光加工系统；将预处理的金属样品固定在盛有钝化液的容器底部，在空间光调制器上加载预先设计好的全息图；在CCD相机视野范围下找到金属样品表面，通过控制容器内钝化液的量控制飞秒激光射入液体的深度，通过衰减片控制飞秒激光与金属样品接触面的功率密度；飞秒激光与钝化液发生耦合作用后到达金属样品表面；对金属样品进行直写加工；加工完成后将金属样品取下，依次用乙醇、去离子水超声清洗，晾干。钝化液可限制加工区域金属表面等离子体激元的生成，降低入射激光与等离子体激元的干涉作用，降低二维周期性亚波长结构的生成。

公开(公告)号：CN115093114A

公开(公告)日：2022-09-23

申请号：CN202210690680.9

申请日：2022-06-17

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 向思衡 ,  周国瑞 ,  尤辉 ,  蒋一岚

IPC: C03B37/03 ,  C03B37/027

Abstract: 本发明涉及微纳光子学器件领域，尤其涉及一种微纳光纤制备装置。本装置包括三个直线电机、两个光纤夹具、电加热装置、两个CCD相机、拉力计以及控制器。本装置通过电加热装置加热待拉伸光纤，并通过两个光纤夹具夹持待拉伸光纤两端，并通过拉力计保持待拉伸光纤的拉紧程度，加热后，通过两个直线电机将待拉伸光纤进行拉伸，将待拉伸光纤拉伸至预设精度，并由控制器控制预设精度，同时CCD相机对拉伸过程进行实时监测，并随时调整待拉伸光纤姿态。本发明的目的是提供一种微纳光纤制备装置及方法，以保证所拉制微纳光纤的高一致性和高精度。

公开(公告)号：CN114964339A

公开(公告)日：2022-08-30

申请号：CN202210690693.6

申请日：2022-06-17

Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心

Inventor： 向思衡 ,  周国瑞 ,  尤辉 ,  牛龙飞

IPC: G01D11/24 ,  G01D5/353

Abstract: 本发明公开一种光纤传感盒，涉及光纤传感器件技术领域，包括上壳体、主筒、底板、转动芯轴、转盘、把手组件和光纤传感单元，主筒的上部设置有顶板，上壳体安装于顶板上，底板安装于主筒的下部，转动芯轴转动安装于顶板和底板之间，转盘固定于转动芯轴上，转盘上设置有容纳槽，把手组件能够转动至容纳槽中或转动至容纳槽的外部；光纤传感单元包括依次连接的传感部件、尾纤和光纤接头，传感部件固定于顶板的上部且位于顶板与上壳体之间，第一通孔和第二通孔用于供尾纤和光纤接头穿过，尾纤缠绕于转动芯轴上，底板的下表面设置有卡槽，卡槽用于放置光纤接头。该光纤传感盒操作简便，便于携带以及移动，避免尾纤及光纤接头的损坏。