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公开(公告)号：CN106125166B
公开(公告)日：2018-04-10
申请号：CN201610585108.0
申请日：2016-07-22
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G02B3/00
摘要： 本发明公开了一种原位调控材料微结构制备熔石英微透镜阵列的方法，利用二氧化碳激光辐照熔石英样品形成材料微结构调控区阵列，然后采用氢氟酸溶液刻蚀熔石英样品，得到熔石英微透镜阵列。采用以上方案，极大简化了熔石英微透镜阵列的制作流程，避免了一系列复杂的微透镜成形辅助流程，简洁高效的同时实现了微透镜形貌的精确控制，不仅实现了圆形孔径的微透镜阵列的制造，而且实现了精确高效地制造高填充系数的异形孔径微透镜，制造的熔石英微透镜阵列表面光洁，激光损伤阈值高，尤其适用于强光环境下的应用。
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公开(公告)号：CN106125166A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201610585108.0
申请日：2016-07-22
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： G02B3/00
CPC分类号： G02B3/0012
摘要： 本发明公开了一种原位调控材料微结构制备熔石英微透镜阵列的方法，利用二氧化碳激光辐照熔石英样品形成材料微结构调控区阵列，然后采用氢氟酸溶液刻蚀熔石英样品，得到熔石英微透镜阵列。采用以上方案，极大简化了熔石英微透镜阵列的制作流程，避免了一系列复杂的微透镜成形辅助流程，简洁高效的同时实现了微透镜形貌的精确控制，不仅实现了圆形孔径的微透镜阵列的制造，而且实现了精确高效地制造高填充系数的异形孔径微透镜，制造的熔石英微透镜阵列表面光洁，激光损伤阈值高，尤其适用于强光环境下的应用。
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公开(公告)号：CN105762638A
公开(公告)日：2016-07-13
申请号：CN201610306560.9
申请日：2016-05-11
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： H01S3/117
CPC分类号： H01S3/117
摘要： 本发明提供了一种二维声光Q开关调节装置，所述的装置用于实现二维声光Q开关在俯仰和偏转两个自由度的无级调节。本发明在固定底座上方设置偏转调节底座，偏转调节底座边缘带有精细齿轮结构，在偏转调节齿轮的作用下可实现对声光Q开关水平偏转的调节。偏转调节底座上设置支撑件并固定。支撑件上方设置Q开关支撑台，Q开关支撑台在俯仰运动齿轮调节副的作用下可实现俯仰方向的调节，并可用固定螺栓固定。Q开关支撑台上方直接安装声光Q开关。本装置结构简单，调节方便，可以充分利用声光Q开关的声光优质。
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公开(公告)号：CN108863093B
公开(公告)日：2021-06-08
申请号：CN201810798186.8
申请日：2018-07-19
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明公开了一种控制熔石英静态酸蚀刻沉积物的方法，该方法利用短时间酸蚀刻过程六氟硅酸根的浓度扩散，酸蚀刻后把熔石英元件进行喷淋和超声清洗去除残留离子，再多次重复酸蚀刻、喷淋、超声漂洗此过程，实现一定深度的熔石英的蚀刻，不仅避免沉积物的出现，保持了面形，而且提高了激光损伤阈值，实现了熔石英抛光层和缺陷层有效完全去除，并且无沉积物产生；该方法具有操作简单、可控制、不破坏光学元件面形和粗糙度、经济等优点。
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公开(公告)号：CN108863093A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201810798186.8
申请日：2018-07-19
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本发明公开了一种控制熔石英静态酸蚀刻沉积物的方法，该方法利用短时间酸蚀刻过程六氟硅酸根的浓度扩散，酸蚀刻后把熔石英元件进行喷淋和超声清洗去除残留离子，再多次重复酸蚀刻、喷淋、超声漂洗此过程，实现一定深度的熔石英的蚀刻，不仅避免沉积物的出现，保持了面形，而且提高了激光损伤阈值，实现了熔石英抛光层和缺陷层有效完全去除，并且无沉积物产生；该方法具有操作简单、可控制、不破坏光学元件面形和粗糙度、经济等优点。
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公开(公告)号：CN107020451A
公开(公告)日：2017-08-08
申请号：CN201710464482.X
申请日：2017-06-19
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： B23K26/082 , B23K26/064 , G02B26/10
摘要： 本发明涉及激光领域。本发明提供了一种可旋转扫描的激光输出装置，能够使输出的激光做环状运动，其技术方案可概括为：可旋转扫描的激光输出装置，包括第一全反镜、扫描振镜、平移台、旋转台及至少一个调距全反镜，能够不需要激光发生器进行旋转及移动，只需要旋转台进行旋转及平移台进行平移即可使输出的激光随旋转台的旋转进行环状运动。本发明的有益效果是：结构简单，适用于激光输出装置。
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公开(公告)号：CN219455966U
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN202320340631.2
申请日：2023-02-27
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本实用新型公开了一种用于大口径光学元件损伤观测的无线侧照明装置，包括对大口径光学元件进行固定的装调组件，还包括设置在待测大口径光学元件侧面，以提供损伤检测光源的照明模块；其中，所述照明模块通过相配合的线缆、接插件与装调组件上的供电模块电性连接。本实用新型提供一种用于大口径光学元件损伤观测的无线侧照明装置，该装置无需单独外接有线电源，从而极大地扩展了大口径光学元件损伤观测的使用场景，观测时侧照明LED灯条可均匀辐照于整个大口径光学元件，根据观测距离和角度的不同，可分辨出表面或体内损伤。
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公开(公告)号：CN211914389U
公开(公告)日：2020-11-13
申请号：CN202020331407.3
申请日：2020-03-17
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本实用新型公开了一种用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机，主体支架、涂膜器、升降控制机构和储液器，储液器的底部通过连接管与涂膜器的底部连通。采用以上技术方案的一种用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机，结构新颖，设计巧妙，不仅具有传统提拉涂膜方法所有的优势，而且制备流程简单，操作方便，效率高，同时，对于非平板结构的元件，可以根据涂膜对象的形状特征，对储液器的形状进行适应性地调整，使其与元件和涂膜开孔内部的空间形状互补，从而可以在储液器匀速升降的情况下，保持涂膜器中的液面下降速度也是匀速的，大幅提高涂膜的均匀性，简化升降控制机构的逻辑控制。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN206925456U
公开(公告)日：2018-01-26
申请号：CN201720714073.6
申请日：2017-06-19
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC分类号： B23K26/082 , B23K26/064 , G02B26/10
摘要： 本实用新型涉及激光领域。本实用新型提供了一种可旋转扫描的激光输出装置，能够使输出的激光做环状运动，其技术方案可概括为：可旋转扫描的激光输出装置，包括第一全反镜、扫描振镜、平移台、旋转台及至少一个调距全反镜，能够不需要激光发生器进行旋转及移动，只需要旋转台进行旋转及平移台进行平移即可使输出的激光随旋转台的旋转进行环状运动。本实用新型的有益效果是：结构简单，适用于激光输出装置。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN210347435U
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：CN201920893363.0
申请日：2019-06-14
申请人： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要： 本实用新型公开了一种用于原位检测密集排布大口径光学元件的安装夹持框，包括夹持框本体，所述夹持框本体的内壁上凹陷形成有一圈沿夹持框本体周向延伸的线光源安装槽，在该线光源安装槽的槽底安装有一圈沿线光源安装槽延伸的线光源，在所述线光源安装槽的槽口安装有一圈沿线光源安装槽延伸的狭缝光阑，该狭缝光阑的狭缝，在所述夹持框本体的内侧设置有两圈遮光条，所述遮光条的外缘或与狭缝光阑紧密贴合，或与夹持框本体的内壁紧密贴合。采用以上技术方案，具备了排除相邻元件干扰，配合获取无伪损伤的高质量元件损伤图像的能力，以直观地原位在线监测大口径光学元件的损伤，便捷高效获得损伤的尺寸和分布位置信息。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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