一种含d10过渡金属的超分子化合物晶体及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN118422333A

    公开(公告)日:2024-08-02

    申请号:CN202410578233.3

    申请日:2024-05-10

    Abstract: 本申请公开了一种含d10过渡金属的超分子化合物晶体及其制备方法与应用,属于红外二阶非线性光学晶体材料领域。所述含d10过渡金属的超分子化合物晶体,化学式为[MⅠ4Pn2][MⅡX4](MⅠ=Zn,Cd,Hg;Pn=P,As,Sb;MⅡ=Zn,Cd,Hg,Mn,Mg,Sn,Pb;X=Cl,Br,I,Cl/Br,Cl/I,Br/I)。该化合物晶体在磷属化合物中引入卤素,可以大大改善磷属化合物带隙窄的缺点,本申请中的[Cd4P2][ZnCl4]的带隙达到了2.72eV,是目前已报道的镉系磷属化合物中的最大值,同时NLO效应是AgGaS2的0.3‑10倍,激光损伤阈值是AgGaS2的2.5‑4倍,粉末红外透过范围为0.5‑25.0μm,具有优良的红外非线性光学性能,是一种新型的红外非线性光学材料。

    一种可视化CVT硫化物晶体生长装置与方法

    公开(公告)号:CN114574971A

    公开(公告)日:2022-06-03

    申请号:CN202111591718.9

    申请日:2021-12-23

    Abstract: 本申请公开了一种适用于单斜相Ga2S3单晶的可视CVT晶体生长装置与方法,属于单晶生长技术领域。将含有Ga2S3多晶原料和ICl3的真空密闭容器在控温区内进行恒温加热;晶体生长结束后降温,得到所述单斜相Ga2S3单晶。生长装置中设计的观察视窗,可以实时观察晶体生长情况,并设定稳定的上升程序,使得晶体结晶界面始终处在恒定的温度点上,进而得到了能够符合实用要求的厘米级的高质量大尺寸单斜相Ga2S3单晶,尺寸约为Φ10×20mm。

Patent Agency Ranking