一种电子结构精修模型的新方法

    公开(公告)号:CN115938519B

    公开(公告)日:2023-10-03

    申请号:CN202211703421.1

    申请日:2022-12-29

    Inventor: 姜小明 郭国聪

    Abstract: 本发明属于材料细分领域,尤其是一种电子结构精修模型的新方法,步骤包括:建立参数价电子数Pi价和价电子收缩因子κi参数的电子密度模型,计算出每个衍射点的理论结构因子Fk理论(P);通过X射线单晶衍射实验,获得每个衍射点的实验强度,计算出实验结构因子;建立理论结构因子与实验结构因子的差值函数;采用最小二乘法计算出差值函数中的最小值,获得最优模型的参数价电子数Pi价和价电子收缩因子κi,通过本发明得到材料分析领域精修后的电子结构;后续依据该电子结构进行拓扑分析和材料设计更加精准。

    单斜相Ga2S3单晶的物理气相生长方法及生长装置

    公开(公告)号:CN112663135B

    公开(公告)日:2023-09-08

    申请号:CN202011377984.7

    申请日:2020-11-30

    Abstract: 本申请公开了一种单斜相Ga2S3单晶的物理气相生长方法及其生长装置。单斜相Ga2S3单晶的物理气相生长方法,包括以下步骤:将含有Ga2S3多晶原料和单斜相Ga2S3籽晶的真空密闭容器在温度梯度区内进行加热恒温;晶体生长后降温,得到所述单斜相Ga2S3晶体;所述Ga2S3多晶原料位于高温区;所述单斜相Ga2S3籽晶位于低温区。该生长方法操作简单,且经济实用,得到了能够符合实用要求的厘米级高质量大尺寸单斜相Ga2S3,且在紫外可见近红外光区域透过率高。

    一种X射线衍射实验的光源强度均一性的高斯校正方法

    公开(公告)号:CN116230129A

    公开(公告)日:2023-06-06

    申请号:CN202211703374.0

    申请日:2022-12-29

    Inventor: 姜小明 郭国聪

    Abstract: 本发明属于材料细分领域,一种X射线衍射实验的光源强度均一性的高斯校正方法,包括:步骤一、定义X射线源截面方向的强度呈高斯分布函数:其中,a、c为待确定的参数;其中,x,y为衍射点的坐标;步骤二、根据晶体的几何外形,衍射点的指标参数为K((h,k,l),可计算出被样品吸收的其中,μ为已知参数;步骤三、根据晶体的对称性,产生多套等效衍射点,通过等效点的差别进行精修,通过最小二乘法精修可获得参数a,c;步骤四:根据获得的a、c值,实测的强度为I实测(h,k,l),算出I校正(h,k,l)=I实测(h,k,l)+I吸收(h,k,l),用于电子结构精修。

    单斜相Ga2S3单晶的物理气相生长方法及生长装置

    公开(公告)号:CN112663135A

    公开(公告)日:2021-04-16

    申请号:CN202011377984.7

    申请日:2020-11-30

    Abstract: 本申请公开了一种单斜相Ga2S3单晶的物理气相生长方法及其生长装置。单斜相Ga2S3单晶的物理气相生长方法,包括以下步骤:将含有Ga2S3多晶原料和单斜相Ga2S3籽晶的真空密闭容器在温度梯度区内进行加热恒温;晶体生长后降温,得到所述单斜相Ga2S3晶体;所述Ga2S3多晶原料位于高温区;所述单斜相Ga2S3籽晶位于低温区。该生长方法操作简单,且经济实用,得到了能够符合实用要求的厘米级高质量大尺寸单斜相Ga2S3,且在紫外可见近红外光区域透过率高。

    单斜相Ga2S3晶体的气相生长方法、晶体生长装置

    公开(公告)号:CN112522789A

    公开(公告)日:2021-03-19

    申请号:CN202011377983.2

    申请日:2020-11-30

    Abstract: 本申请公开了一种单斜相Ga2S3晶体的气相生长方法,包括以下步骤:将含有Ga2S3多晶原料、传输剂和单斜相Ga2S3籽晶的真空密闭容器在温度梯度区内进行加热恒温;晶体生长后降温,得到所述单斜相Ga2S3晶体。该并公开了一种晶体生长装置。本发明采用封闭式化学气相沉积法进行晶体生长,并调整生长过程中的温度等参数,从而得到了能够符合实用要求的厘米级的高质量单斜相Ga2S3晶体,且在紫外可见近红外光区域透过率可达80%以上。该技术具有操作简单,经济,安全和环境友好等优势。

Patent Agency Ranking