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公开(公告)号:CN105386011B
公开(公告)日:2017-09-22
申请号:CN201510953058.2
申请日:2015-12-17
申请人: 华中科技大学
IPC分类号: C23C16/458 , C23C16/44 , C23C16/442 , C23C16/455
CPC分类号: C23C16/4417 , C23C16/442 , C23C16/45544 , C23C16/45555
摘要: 本发明公开了一种基于行星流化的粉体原子层沉积装置,包括电机、反应腔、行星架、夹持器和输气管路,其中,电机与行星架相连,行星架上安装有中心轮和若干个行星轮;电机用于带动中心轮和行星轮旋转;夹持器位于反应腔内部,用于承载粉体;该夹持器还与行星轮相连,在行星轮的带动下旋转;输气管路用于向反应腔中输入反应气体或载气。本发明能够对夹持器内的粉体颗粒提供离心流化作用,同时结合轴向的气流流化作用,克服了离心流化床沿轴向方向分布不均匀的状况以及改善了传统垂直流化床剪切力过小的特点,能有效提高粉体包覆率和均匀性,一次性能够对大量粉体进行包覆,提高粉体包覆效率。
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公开(公告)号:CN105543807A
公开(公告)日:2016-05-04
申请号:CN201510932643.4
申请日:2015-12-15
申请人: 华中科技大学
CPC分类号: C23C16/54 , C23C16/45544 , C23C16/46
摘要: 本发明公开了一种变温薄膜沉积系统,包括多个沉积装置和基片转移装置,所述多个沉积装置均匀布设在基片转移装置周围;所述多个沉积装置具有基片温度控制机构,用于分别维持基片承载台温度恒温;所述基片转移装置,包括三维移动装置,所述三维移动装置的末端设有保护气体喷头,所述保护气体喷头两侧设有抓取装置,所述抓取装置用于抓取基片承载台。本发明提供的变温薄膜沉积系统能高效高质量的沉积多元物质沉积膜。
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公开(公告)号:CN104046958A
公开(公告)日:2014-09-17
申请号:CN201410247956.1
申请日:2014-06-06
申请人: 华中科技大学
IPC分类号: C23C16/455 , B82Y40/00 , B82Y30/00
摘要: 本发明公开了一种用于微纳米颗粒表面修饰的装置,包括:反应腔,其内部形成的空腔用于作为前驱体与微纳米颗粒的反应空间;多个前驱体供应装置,其分别通过管道与所述反应腔相通以提供不同的前驱体;载气输送系统,前驱体通过该载气输送系统输出的载气输送到反应腔中;以及粉体颗粒装载装置,用于承载待修饰的微纳米颗粒;通过多个前驱体供应装置分别向反应腔交替地输送前驱体,并进入旋转的粉体颗粒装载装置中以与微纳米颗粒表面接触进行原子层沉积反应,从而在微纳米颗粒的表面形成包覆薄膜,实现表面修饰。本发明还公开了利用上述装置进行微纳米颗粒的表面修饰的方法。本发明可以获得颗粒表面高均匀性的包覆层,并提高粉体颗粒的整体包覆率和前驱体的利用率。
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公开(公告)号:CN104046957A
公开(公告)日:2014-09-17
申请号:CN201410247806.0
申请日:2014-06-06
申请人: 华中科技大学
IPC分类号: C23C16/455
摘要: 本发明公开了一种三氢化铝表面包覆改性方法,采用原子层沉积技术在三氢化铝粉末表面沉积纳米厚度的金属氧化物或金属物质将其包覆,以提高三氢化铝粉末热稳定性,包括,S1:将三氢化铝粉体放入腔体内并抽真空;S2:加热腔体到设定温度且温度均匀稳定后,通入流化气,使三氢化铝预分散;S3:原子层沉积反应,当腔体内的温度达到50~130℃时,开始原子层沉积反应;S4:重复多次原子层沉积反应,使粉体表面沉积厚度不断增长,通过控制沉积反应循环的次数从而控制在三氢化铝粉体表面沉积的金属氧化物或金属的厚度,实现三氢化铝粉体包面包覆厚度为1~1000nm包覆层,以实现粉体的稳定化。
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公开(公告)号:CN118858810A
公开(公告)日:2024-10-29
申请号:CN202410951710.6
申请日:2024-07-16
申请人: 华中科技大学
IPC分类号: G01R31/00 , C23C16/455 , G01R13/00 , G01R19/00 , G01L11/00
摘要: 本申请涉及一种前驱体脉冲时间测量系统及其测量方法、测量装置和原子层沉积系统。该测量系统应用于原子层沉积系统,原子层沉积系统包括依次连通的储气罐、电磁阀和自动泄漏减压阀,测量系统包括:压力传感器和示波器;其中,压力传感器用于检测电磁阀的压力;示波器的输入端与压力传感器的输出端连接,用于输出表征电磁阀的压力的电压波形;其中,前驱体脉冲时间为两个相邻的第一时间节点和第二时间节点之间的差值,第一时间节点为电压波形的幅值上升至第一预设阈值时对应的时间数据;第二时间节点为电压波形的幅值下降至第二预设阈值时对应的时间数据,第一预设阈值大于第二预设阈值。采用该测量系统能够准确测量前驱体脉冲时间。
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公开(公告)号:CN118390024A
公开(公告)日:2024-07-26
申请号:CN202410452605.8
申请日:2024-04-16
申请人: 华中科技大学
IPC分类号: C23C16/455
摘要: 本申请涉及一种两级喷淋的原子层沉积装备及沉积方法。两级喷淋的原子层沉积装备包括腔室;喷淋装置,至少部分设于腔室,喷淋装置包括自上而下依次连通的喷淋头、等离子体发生器、前驱体进气件以及喷淋板组件,喷淋头用于通入反应气体,前驱体进气件用于通入前驱体;载具,设于腔室内,并间隔设于喷淋装置的下方,载具用于承载待沉积件。反应气体经过喷淋头进行第一级扩散后,能够被等离子体发生器接收,进行电离而形成高活性自由基,再经喷淋板组件进行第二级扩散,经第二级扩散的反应气体能够获得更均匀的状态;前驱体经过前驱体进气件后,可经喷淋板组件进行扩散获得更均匀的状态,如此,在较大尺寸的待沉积件上获得较为致密均匀的沉积。
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公开(公告)号:CN113588481B
公开(公告)日:2023-04-11
申请号:CN202110706802.4
申请日:2021-06-24
申请人: 华中科技大学
摘要: 本发明涉及一种渗透过程检测设备与检测方法。渗透过程检测设备包括:检测腔,检测腔包括相互连通的第一腔体与第二腔体,第一腔体与第二腔体之间形成第二样品放置区;进气腔,进气腔与第一腔体连通;出气腔,出气腔与第二腔体连通;称重组件,称重组件伸入第一腔体内,称重组件上设有第一样品放置区;红外组件,红外组件包括光源、入射通道、出射通道与光谱仪,入射通道、出射通道均与第二腔体连通,光源发出的入射光线经入射通道进入第二腔体并到达第二样品放置区,经第二样品反射后的出射光线经出射通道进入光谱仪。该检测设备能实现对薄膜样品的渗透的中间过程的检测,以便于进一步加深对于薄膜渗透过程的研究。
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公开(公告)号:CN114075659B
公开(公告)日:2022-12-20
申请号:CN202111163408.7
申请日:2021-09-30
申请人: 华中科技大学
IPC分类号: C23C16/442 , C23C16/455 , H01M4/36
摘要: 本发明提供了一种粉体包覆反应器、超声流化原子层沉积包覆装置及其应用。该粉体包覆反应器包括反应筒和多个传振片;反应筒的两端具有开口,反应筒的侧壁上开设有多个第一通孔;多个传振片依次间隔设置于反应筒内,每个传振片的边缘密封连接于反应筒的内壁,多个传振片将反应筒的内腔分隔为沿一端开口至另一端开口方向上依次分布的多个子腔体,传振片上设置有用于供粉体在该传振片相邻的两个子腔体之间通过的第二通孔。上述粉体包覆反应器能够有效保持纳米颗粒的分散状态,实现大批量粉末的均匀包覆。
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