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公开(公告)号：CN103233230A
公开(公告)日：2013-08-07
申请号：CN201310177051.7
申请日：2013-05-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C23F3/00
Abstract: 气冷式等离子体保护气罩喷嘴，它属于等离子体加工设备的技术领域。它是为了解决大气等离子体加工过程中，周围环境对加工的影响，反应不充分，及加工温度过高导致工件产生热应力的问题。它的圆管形保护罩的内孔呈锥形，其内侧壁上有三个间隔120度分布通气孔，圆盘的外圆面呈锥形，圆管形炬管延长件上端外圆面镶嵌在圆管形保护罩上端内孔中，圆管形炬管延长件下端圆盘的外圆锥形面与圆管形保护罩的下端内圆面密封连接或之间设置有间隙，当圆管形炬管延长件下端圆盘的外圆锥形面与圆管形保护罩的下端内圆面之间设置有间隙时。本发明通入气体后，可有效冷却等离子体，降低等离子体温度，从而使大气等离子体可加工温度敏感材料，扩大了其应用范围。
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公开(公告)号：CN103212774A
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：CN201310177071.4
申请日：2013-05-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: B23K10/00
Abstract: 自由曲面光学零件的大气等离子体数控加工的装置，它属于等离子体加工大口径非球面光学零件的技术领域。它是为了解决高精度大口径非球面光学零件的加工效率和表面质量问题。它的五轴联动数控机床的绝缘工作架上安装有大口径的等离子体炬或中口径的等离子体炬或小口径的等离子体炬；将待加工光学零件装卡在地电极上；大口径的等离子体炬或中口径的等离子体炬或小口径的等离子体炬分别对待加工光学零件待加工表面进行大气等离子体数控加工。本发明能采用不同类型的等离子体炬进行大气等离子体加工。
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公开(公告)号：CN103212755A
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：CN201310177034.3
申请日：2013-05-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: B23H3/00
Abstract: 水电极大气等离子体加工回转零件方法，它属于等离子体加工碳化硅或融石英等硅基材料回转类零件的技术领域。它是为了解决放电不均匀、工件热变形等问题。它的步骤一：旋转成形电极的上端面连接转轴上；旋转成形电极为圆形外凸形；步骤二：待加工零件的外表面浸入水槽中的电解质水溶液内；步骤三：旋转成形电极靠近待加工零件的待加工表面；步骤四：预热射频电源和混合等离子体气源；步骤五：使旋转成形电极做回转运动，启动射频电源；步骤六：控制旋转成形电极的运动轨迹和在零件表面的驻留时间；步骤七：取出待加工零件。本发明的水电极的应用，使得电极与工件表面无间隙贴合，放电均匀，保证了加工精度，提高了加工稳定性。
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公开(公告)号：CN101032802A
公开(公告)日：2007-09-12
申请号：CN200710072022.9
申请日：2007-04-11
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 常压等离子体抛光方法，它涉及一种抛光方法。本发明的目的是为解决常规的机械式研抛方法存在的不足及在碳化硅等硬脆性难加工材料的超光滑表面加工中存在的效率低、易产生表层及亚表层损伤、表面清洗困难等问题。本发明的方法主要是，等离子体气体与反应气体的体积比为4∶1～1000∶1；启动射频电源，逐步施加功率，控制反射功率为零，初始有效功率为180～240瓦，常用功率为400～1200瓦，最高功率可加至1500瓦。本发明可在常压下通过等离子体化学反应实现超光滑表面加工，不需要真空室，可降低设备成本并扩大其使用范围。加工效率是传统抛光方法的十倍，并且无表面损伤、无亚表层损伤、无表面污染，抛光工件的表面粗糙度小于1nm Ra。
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公开(公告)号：CN1876320A
公开(公告)日：2006-12-13
申请号：CN200610010296.0
申请日：2006-07-17
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 常压等离子体抛光装置，它涉及一种抛光装置。本发明的目的是为解决常规的机械式研抛方法存在的不足及在碳化硅等硬脆性难加工材料的超光滑表面加工中存在的效率低、易产生表层及亚表层损伤、表面清洗困难等问题。本发明的主要部件包括：密封工作舱(51)、等离子体炬(53)、第一联动系统(52)、第二联动系统(57)、第一流量控制器(60)、第二流量控制器(65)、反应气体瓶(61)、等离子体气体瓶(62)、气体回收处理装置(63)，等离子体炬(53)安装在第一联动系统(52)上。本发明可在常压下通过等离子体化学反应实现超光滑表面加工，不需要真空室，可降低设备成本并扩大其使用范围。加工效率是传统抛光方法的十倍，并且无表面损伤、无亚表层损伤、无表面污染。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1864921A
公开(公告)日：2006-11-22
申请号：CN200610010156.3
申请日：2006-06-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 用于超光滑表面加工的电容耦合式射频常压等离子体炬，它涉及一种等离子体抛光设备。本发明的目的是为解决常规的机械式研抛方法在碳化硅等硬脆性难加工材料的超光滑表面加工中存在的效率低、容易产生表层及亚表层损伤和现有的平行板式等离子体抛光方法中存在的加工痕迹难以消除，以及感应耦合式等离子体炬存在的内炬管易腐蚀，成本高，系统的维护性不好等问题。本发明阴极(6)的外壁与外套(9)的内壁之间形成水冷环形空间(13)，阳极水冷导管(1)设置在阳极(5)的内腔(16)内。本发明不需要真空室，本发明加工效率约是传统抛光方法的10倍。不会像真空等离子体那样对超光滑表面造成表面损伤、亚表层损伤和表面污染，实现了光学零件的高效率高质量加工。
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公开(公告)号：CN119976144A
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202510349028.4
申请日：2025-03-24
Applicant: 哈尔滨工业大学 , 北京空间飞行器总体设计部
Abstract: 本发明涉及航空航天技术领域，具体涉及一种具有可动侧板的空间仓储转运装置及工作方法；该转运装置，包括：仓储平台，所述仓储平台包括顶板和仓储装置、移动装置、竖直推送装置，所述仓储装置与顶板连接，所述仓储装置用于容纳载荷，所述移动装置设于所述顶板上，并与所述仓储装置连接，所述竖直推送装置设于所述顶板上，且靠近所述仓储装置的侧壁；转运平台，所述转运平台位于所述仓储平台的下方，所述转运平台包括底部磁轭和底部导轨、线圈绕组、固定架、动子托盘；伸缩杆，设于所述顶板与底部磁轭之间。仓储密度大、仓储种类多、转运效率高、体积小及质量轻，能够实现对不同规格的载荷在轨仓储及转运，可满足现阶段航天应用的实际需求。
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公开(公告)号：CN114387987B
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN202111679656.7
申请日：2021-12-31
Applicant: 中建科技集团有限公司 , 哈尔滨工业大学(深圳)
IPC: G10L21/0208 , G10L21/0264 , G10L25/84
Abstract: 本申请提供生态噪声源的测量方法、装置、终端及存储介质，适用数据处理及生态环境技术领域，该方法包括：获取待测量的生态噪声源的声学及心理声学参数；根据声学及心理声学参数及预设的生态噪声源识别模型，得对应的目标噪度等级；获取预设时长内目标噪度等级对应的感知分贝值及绝对声级分贝值；根据感知分贝值及绝对声级分贝值，确定待测量的生态噪声源的噪声值。本方案通过分析环境声的生态性质，量化测量生态噪声源，区分不同声源的噪度影响，测量的噪声值可以反映生态环境条件下不同环境声源的噪声程度，所得噪声测量值精准标识了环境声噪度，解决环境噪声测量不反映噪声源噪度而导致的噪声监测不准以及自然声超标问题。
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公开(公告)号：CN115899083B
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN202211651443.8
申请日：2022-12-21
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种大气等离子体抑制微振的气体静压轴承，属于超精密加工装备领域，具体方案如下：一种大气等离子体抑制微振的气体静压轴承，包括轴套、铜轴套、主轴转子、辐板和大气等离子体激发装置，所述铜轴套套设在主轴转子上，所述轴套套设在铜轴套上，所述辐板套设在主轴转子上且与轴套固定连接，轴套和辐板上设置的气路通过若干个小孔节流器为主轴转子的表面供气，所述主轴转子、轴套和辐板的材质均导电，所述大气等离子体激发装置的一端电连接主轴转子，另一端电连接轴套和辐板。本发明从微振产生的机理上消除了微振及其影响，大大提高了气浮轴承在工作时的稳定性。
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公开(公告)号：CN115614386B
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202211231035.7
申请日：2022-10-09
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 为提供一种可以避免气锤现象同时可以提供更大高压气膜面积的承载力大、刚度更高的小孔式气体静压径向轴承轴套，本发明设计一种带有高压气腔的小孔式气体静压径向轴承轴套与轴承，属于静压滑动轴承领域。通过在径向轴承轴套节流器安装孔处开设‘H’型均压槽或‘米’字型均压槽，利用‘H’型均压槽或‘米’字型均压槽在相同截面积下其内的高压气体能够辐射更广气膜区域的特点来提高小孔式气体静压径向轴承气膜的高压区面积。籍此设计可以在避免小孔式气体静压径向轴承发生气锤不稳定现象的同时，提高轴承的承载力与刚度。
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