一种真空气氛处理装置、样品观测系统及方法

    公开(公告)号:CN106783493A

    公开(公告)日:2017-05-31

    申请号:CN201611090486.8

    申请日:2016-12-01

    Inventor: 何伟 李帅 王鹏

    CPC classification number: H01J37/18 H01J37/261 H01J37/28

    Abstract: 本发明公开了一种真空气氛处理装置,所述装置的顶部与外部的粒子束产生装置连接,其特征在于,所述装置包括:底部与外部的待测样品或承载所述待测样品的平台接触的吸盘、与外部的供气系统连接的第一气体控制器、与外部的抽气系统连接的第二气体控制器;其中,所述装置的顶部设置有窗口,所述窗口用于使外部的粒子束进入所述装置;所述第一气体控制器,用于连接所述供气系统和所述吸盘;所述第二气体控制器,用于连接所述抽气系统和所述吸盘。本发明还公开了一种样品观测系统及方法。

    一种显微镜
    43.
    实用新型

    公开(公告)号:CN212062378U

    公开(公告)日:2020-12-01

    申请号:CN202020998238.9

    申请日:2020-06-03

    Inventor: 李帅 何伟

    Abstract: 本实用新型公开了一种显微镜,包括:电子光学镜筒,用于发射扫描电子束;样品台,用于放置样品;靶材,可移动的设置于所述电子光学镜筒和所述样品台之间;驱动机构,所述驱动机构驱动所述靶材在第一位置和第二位置移动,所述第一位置为所述电子束作用于所述样品上的位置,所述第二位置为所述电子束作用于所述靶材上产生X射线照射于所述样品上的位置。本实用新型样品通过一次安装,完成扫描电子显微镜对样品的探测和纳米X射线显微镜对样品的探测的双功能探测。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种电子源产生装置
    44.
    实用新型

    公开(公告)号:CN206451682U

    公开(公告)日:2017-08-29

    申请号:CN201720136706.X

    申请日:2017-02-15

    Inventor: 李帅 何伟

    Abstract: 本实用新型公开了一种电子源产生装置,其特征在于,所述装置包括:电子枪、电极、光阑组和电磁透镜;其中,所述电子枪,用于发射电子束;所述电极,用于对所述电子束进行加速;所述光阑组包括一个移动装置和多个不同孔径的光阑,通过调节所述移动装置控制加速后的电子束经过所述光阑组中的一个光阑;所述电磁透镜,用于对经过所述光阑的电子束进行会聚,形成电子源。

    一种用于样品位置校准的样品承载装置

    公开(公告)号:CN207503909U

    公开(公告)日:2018-06-15

    申请号:CN201720854811.7

    申请日:2017-07-14

    Inventor: 何伟 李帅 王瑞平

    Abstract: 本实用新型实施例提供了一种用于样品位置校准的样品承载装置,所述样品承载装置的上表面邻近边缘的三个不同位置处设有定位标记。本实用新型实施例依据所述定位标记在光学显微镜下的第一坐标和在扫描电子显微镜下的第二坐标,确定光学显微镜对应的坐标系和扫描电子显微镜对应的坐标系之间的相对位置关系,并基于所述相对位置关系对样品进行定位。本实用新型实施例可解决样品在光学系统和扫描电子显微镜之间转换时出现的定位不准确的问题。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种真空气氛处理装置及样品观测系统

    公开(公告)号:CN206332001U

    公开(公告)日:2017-07-14

    申请号:CN201621309552.1

    申请日:2016-12-01

    Inventor: 何伟 李帅 王鹏

    Abstract: 本实用新型公开了一种真空气氛处理装置,所述装置的顶部与外部的粒子束产生装置连接,其特征在于,所述装置包括:底部与外部的待测样品或承载所述待测样品的平台接触的吸盘、与外部的供气系统连接的第一气体控制器、与外部的抽气系统连接的第二气体控制器;其中,所述装置的顶部设置有窗口,所述窗口用于使外部的粒子束进入所述装置;所述第一气体控制器,用于连接所述供气系统和所述吸盘;所述第二气体控制器,用于连接所述抽气系统和所述吸盘。本实用新型还公开了一种样品观测系统。

    一种成像系统
    47.
    实用新型

    公开(公告)号:CN212134535U

    公开(公告)日:2020-12-11

    申请号:CN202020109496.7

    申请日:2020-01-17

    Inventor: 何伟 李帅

    Abstract: 本实用新型公开了一种成像系统,包括:X射线显微镜(Micro‑CT)子系统、离子研磨仪(Ion‑Milling)子系统、扫描电子显微镜(SEM)子系统、处理器;所述X射线显微镜(Micro‑CT)子系统用于获取待测样品的三维图像;所述离子研磨仪(Ion‑Milling)子系统用于发射离子束对所述待测样品进行加工,得到目标区域的目标截面;所述扫描电子显微镜(SEM)子系统用于获取所述目标截面的二维图像;所述处理器,用于对所述二维图像进行三维重构,得到所述目标区域的三维成像。本实用新型提供的成像系统可以快速的、精准的实现大面积待测样品内部结构三维成像分析。

    一种扫描电子显微镜系统

    公开(公告)号:CN208208712U

    公开(公告)日:2018-12-07

    申请号:CN201820888588.2

    申请日:2018-06-08

    Inventor: 李帅 何伟 王瑞平

    Abstract: 本实用新型公开了一种扫描电子显微镜系统,包括:电磁交叉场分析器、由电透镜和磁透镜构成的复合物镜、镜后偏转装置和样品台;其中,电磁交叉场分析器,位于磁透镜的上极靴与产生入射至所述扫描电子显微镜系统的初始电子束的电子源之间,用于使入射的具有第一能量的初始电子束沿光轴运动,具有第二能量的初始电子束偏转至所述初始电子束的光轴两侧;复合物镜,用于对经所述电磁交叉场分析器作用的初始电子束进行汇聚,形成汇聚电子束;镜后偏转装置,位于所述磁透镜的下极靴孔内,用于改变所述汇聚电子束的运动方向,以使所述汇聚电子束倾斜入射至所述样品台上的待测样品。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种低能扫描电子显微镜系统

    公开(公告)号:CN207425790U

    公开(公告)日:2018-05-29

    申请号:CN201721565080.0

    申请日:2017-11-21

    Inventor: 李帅 何伟

    Abstract: 本实用新型公开了一种低能扫描电子显微镜系统,包括:电子源,用于产生电子束;电子加速结构,用于增加所述电子束的运动速度;复合物镜,用于对经所述电子加速结构加速的电子束进行汇聚;偏转装置,位于所述磁透镜的内壁与所述电子束的光轴之间,用于改变所述电子束的运动方向;探测装置,包括用于接收电子束作用于样品上产生的二次电子和背散射电子的第一子探测装置、用于接收所述背散射电子的第二子探测装置、以及用于改变所述二次电子和所述背散射电子的运动方向的控制装置;电透镜,包括第二子探测装置、样品台和控制电极,用于减小所述电子束的运动速度,并改变所述二次电子和所述背散射电子的运动方向。

    一种扫描粒子束显微镜系统

    公开(公告)号:CN207020390U

    公开(公告)日:2018-02-16

    申请号:CN201720883782.7

    申请日:2017-07-20

    Inventor: 李帅 何伟 王瑞平

    Abstract: 本实用新型公开了一种扫描粒子束显微镜系统,包括:扫描粒子束显微镜及聚焦控制系统;所述聚焦控制系统包括:两个照明成像装置,用于产生照明光束、以及传输从样品表面反射的携带聚焦图像的光束;两个反射装置,用于将对应的照明成像装置产生的照明光束反射到所述样品表面、以及将所述样品表面反射的携带聚焦图像的光束反射到所述探测装置;两个探测装置,用于接收从所述样品表面反射的携带聚焦图像的光束,并探测所述光束携带的聚焦图像。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

Patent Agency Ranking