公开(公告)号：CN103998956B

公开(公告)日：2016-09-07

申请号：CN201280062257.9

申请日：2012-12-17

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 郑镇美 ,  金在镇 ,  李钟炳 ,  辛富建

IPC: G02B5/30 ,  G02F1/13357

CPC classification number: G02F1/133536 ,  G02B5/3058 ,  G02F2001/133548

Abstract: 本申请涉及一种反射式偏光器、制备该反射式偏光器的方法、光学元件和显示装置。本申请的反射式偏光器即使在暴露于光源或外部摩擦下时，也可以具有优良的热耐久性和物理耐久性。此外，根据本申请的制备反射式偏光器的方法可以在不使用昂贵设备的情况下，提供具有较大尺寸的反射式偏光器。

公开(公告)号：CN105555466A

公开(公告)日：2016-05-04

申请号：CN201480051797.6

申请日：2014-10-17

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 李镇洙 ,  金台洙 ,  郑惠兰 ,  辛富建

IPC: B23K26/21 ,  B23K26/40 ,  H01S3/10 ,  H01M10/04

CPC classification number: H01M2/26 ,  B23K20/10 ,  B23K20/2275 ,  B23K20/233 ,  B23K20/24 ,  B23K26/0006 ,  B23K26/0622 ,  B23K26/20 ,  B23K26/22 ,  B23K26/244 ,  B23K26/32 ,  B23K26/323 ,  B23K26/354 ,  B23K26/362 ,  B23K26/40 ,  B23K26/402 ,  B23K26/60 ,  B23K2101/32 ,  B23K2101/34 ,  B23K2101/38 ,  B23K2103/05 ,  B23K2103/08 ,  B23K2103/10 ,  B23K2103/12 ,  B23K2103/172 ,  B23K2103/18 ,  B23K2103/20 ,  B23K2103/50 ,  H01M2/22 ,  H01M4/661 ,  H01M4/667 ,  H01M4/70 ,  H01M4/74 ,  H01M4/75 ,  H01M10/0422 ,  H01M10/0436 ,  H01M2220/30

Abstract: 本发明涉及一种焊接用于线缆电池的电极层的金属片的方法以及由此制造的电极。具体地，公开了一种用于将金属片焊接到电极上的方法，所述电极包括用于线缆电池的集流体、形成在所述集流体的外表面上的导电材料层以及形成在所述集流体的内表面上的聚合物膜层，所述方法包括：a)通过照射脉冲激光去除所述导电材料层的一部分的步骤集流体；以及b)将金属片放置在去除了所述导电材料层的集流体的表面上并且焊接金属片集流体。本发明的优点在于本发明能将金属片和线缆型二次电池结合，而常规的焊接方法不能获得高焊接性能。

公开(公告)号：CN104937697A

公开(公告)日：2015-09-23

申请号：CN201480005571.2

申请日：2014-08-01

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 朴正岵 ,  辛富建 ,  金在镇 ,  李钟炳

IPC: H01L21/027 ,  G03F1/22

CPC classification number: G03F7/70058 ,  G03F1/00 ,  G03F1/34 ,  G03F1/50 ,  G03F1/60 ,  G03F7/20 ,  G03F7/24 ,  G03F7/703 ,  G03F7/7035

Abstract: 本发明涉及一种光掩模，一种曝光装置及一种方法。根据本申请的掩模、曝光装置和方法，可以在圆柱形模具上容易地形成具有亚微米大小的精细图案，并且有图案形成于其中的圆柱形模具可容易地应用于自动化工艺，诸如辊对辊工艺。此外，使用由挠性材料形成的光掩模，因此可以大规模形成具有各种大小的精细图案，并且这些精细图案可以分开地或独立地形成在圆柱形模具的曲面上，本发明在工艺的自由度方面表现出优异的效果。

公开(公告)号：CN104884982A

公开(公告)日：2015-09-02

申请号：CN201380068371.7

申请日：2013-12-31

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 金信英 ,  朴文洙 ,  辛富建 ,  尹赫

IPC: G02B5/30 ,  G02F1/13363

CPC classification number: G02B27/281 ,  B01J19/12 ,  G02B1/02 ,  G02B1/12 ,  G02B5/3016 ,  G02B5/3025 ,  G02B5/30 ,  G02F1/13363

Abstract: 本申请涉及一种光学元件和一种光学面板。本申请提供一种具有光轴和光吸收轴连续改变的光学层的光学元件。本发明的光学元件可以，例如，用于控制电子装置(如显示装置)的光特性，或用于建筑物或汽车的窗户或遮光物，并且因此可以用于需要在光轴和光吸收轴上连续改变的各种目的。

公开(公告)号：CN103443660B

公开(公告)日：2015-07-29

申请号：CN201280012424.9

申请日：2012-11-26

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 金台洙 ,  崔贤 ,  辛富建 ,  金在镇 ,  李钟炳 ,  金秀珍

IPC: G02B1/18 ,  C03C15/00 ,  B81B1/00 ,  B81C1/00 ,  B82Y30/00

CPC classification number: C03C15/00 ,  B81B2203/0361 ,  B81C1/00206 ,  Y10T428/24355

Abstract: 本发明涉及一种超疏水基板，其中多个突起部以伪随机分布排列在所述基板的一个表面上，并且突起部间的平均间隔大于可见光波长。根据本发明的超疏水基板的优点在于，突起部间的平均间隔大于可见光波长，以确保耐久性；并且突起部以伪随机分布进行排列，以调节突起部的尺寸和分布，从而确保基板的透明性。

公开(公告)号：CN103443660A

公开(公告)日：2013-12-11

申请号：CN201280012424.9

申请日：2012-11-26

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 金台洙 ,  崔贤 ,  辛富建 ,  金在镇 ,  李钟炳 ,  金秀珍

IPC: G02B1/10 ,  C03C15/00 ,  B81B1/00 ,  B81C1/00 ,  B82Y30/00

CPC classification number: C03C15/00 ,  B81B2203/0361 ,  B81C1/00206 ,  Y10T428/24355

Abstract: 本发明涉及一种超疏水基板，其中多个突起部以伪随机分布排列在所述基板的一个表面上，并且突起部间的平均间隔大于可见光波长。根据本发明的超疏水基板的优点在于，突起部间的平均间隔大于可见光波长，以确保耐久性；并且突起部以伪随机分布进行排列，以调节突起部的尺寸和分布，从而确保基板的透明性。

公开(公告)号：CN102947742A

公开(公告)日：2013-02-27

申请号：CN201180031272.2

申请日：2011-04-22

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 金在镇 ,  辛富建 ,  权元钟

IPC: G02B26/00 ,  G02F1/163 ,  G02B5/20

CPC classification number: G02F1/1323 ,  G02F1/1533 ,  G02F2001/1536 ,  G02F2201/44

Abstract: 本发明涉及一种隐私保护滤光片及其制造方法，更具体而言，涉及一种隐私保护滤光片及其制造方法，其中，所述隐私保护滤光片包括：第一透明基板；第二透明基板，其以与第一透明基板间隔预定的距离且相对地设置；电解质，其填充在第一透明基板和第二透明基板之间；和第二透明导电层，其设置在电解质与第二透明基板之间，其中第一透明基板包括：具有线栅和沟槽的凸凹图形，其形成于第一透明基板上；第一透明导电层，其形成于凸凹图形的线栅和沟槽上；和电致变色层，其沿着线栅的侧壁在第一透明导电层上形成，并且包含电致变色材料以根据是否施加电信号来透射或吸收可见光。本发明的隐私保护滤光片在隐私模式下有效地阻挡了光的侧向透射而没有损失前侧透射，实现宽视野模式和窄视野模式之间的快速转换，并确保优异的滤光性能和驱动稳定性。

公开(公告)号：CN102576107A

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：CN201080042347.2

申请日：2010-08-24

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 金在镇 ,  金信英 ,  辛富建 ,  金台洙

IPC: G02B5/30 ,  G02B1/10

CPC classification number: G02B5/3058 ,  Y10T428/1005 ,  Y10T428/2457

Abstract: 本发明提供一种用于光控取向膜的紫外高透过双层线栅偏振片及其制备方法。更具体地，本发明提供一种紫外高透过双层线栅偏振片，包括：基底；设置在所述基底上的抗反射层；设置在所述抗反射层上的图形化光刻胶层；以及设置在所述光刻胶层和所述抗反射层上的金属薄膜。另外，本发明提供一种紫外高透过双层线栅偏振片的制备方法，该方法包括以下步骤：在基底上形成抗反射层；通过在所述抗反射层上涂覆光刻胶形成光刻胶层；根据由激光干涉光所形成的图形对所述光刻胶层进行选择性曝光并对曝光后的光刻胶层进行显影来形成线栅图形；以及在所述形成有线栅图形的光刻胶层上沉积金属。因此，当制备所述双层线栅偏振片时通过使用抗反射层，本发明可以光滑地形成线栅。由于在光刻胶层线栅形成之后沉积金属，因此不需要形成线栅的干法刻蚀过程，降低了制备成本。此外，与现有的单层线栅偏振片相比，本发明改善了紫外区域的透过率和偏振，从而提高了光控取向膜的制备效率。

公开(公告)号：CN101176193B

公开(公告)日：2011-04-13

申请号：CN200680016214.1

申请日：2006-05-12

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 申东仑 ,  辛富建

IPC: H01L21/32

CPC classification number: C09D11/30 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/02288 ,  H01L21/312

Abstract: 本发明公开了一种形成图形的方法，其包括如下步骤：(a)提供具有部分或全部形成于基板上且由第一材料制成的牺牲层的基板；(b)通过使用直接加工牺牲层形成线条的第一方式在牺牲层上形成不含第一材料且具有由第一分辨率获得的最小线宽或由比第一分辨率更低的分辨率获得的最小线宽的图形沟纹；(c)通过使用第二方式用第二材料填充所述图形沟纹以得到由第二分辨率获得的最小线宽，以在基板上形成第二材料的图形。本发明还公开了一种具有由所述方法形成的预图形的基板。所述形成图形的方法提供了高分辨率的图形，并且该方法很少或不浪费第二材料，从而降低了生产成本。该方法包括将例如激光聚焦能量束的具有高分辨率的第一方式与例如喷墨的具有低分辨率的第二方式结合使用，并提供具有高加工效率的高分辨率的图形。

公开(公告)号：CN101176193A

公开(公告)日：2008-05-07

申请号：CN200680016214.1

申请日：2006-05-12

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 申东仑 ,  辛富建

IPC: H01L21/32

CPC classification number: C09D11/30 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/02288 ,  H01L21/312

Abstract: 本发明公开了一种形成图形的方法，其包括如下步骤：(a)提供具有部分或全部形成于基板上且由第一材料制成的牺牲层的基板；(b)通过使用直接加工牺牲层形成线条的第一方式在牺牲层上形成不含第一材料且具有第一分辨率或更低线宽的图形沟纹；(c)通过使用第二方式用第二材料填充所述图形沟纹以得到第二分辨率，以在基板上形成第二材料的图形。本发明还公开了一种具有由所述方法形成的预图形的基板。所述形成图形的方法提供了高分辨率的图形，并且该方法很少或不浪费第二材料，从而降低了生产成本。该方法包括将例如激光聚焦能量束的具有高分辨率的第一方式与例如喷墨的具有低分辨率的第二方式结合使用，并提供具有高加工效率的高分辨率的图形。