磁头衬底材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN102054497A

    公开(公告)日:2011-05-11

    申请号:CN200910198398.3

    申请日:2009-11-06

    IPC分类号: G11B7/241

    摘要: 本发明涉及一种磁头衬底材料及其制备方法,其特征在于采用Al2O3、TiC和Ti3SiC2为起始原料,首先通过滚筒球磨的方式进行混料,然后在高温高压的条件下将粉体烧结,从而获得致密Al2O3/TiC/Ti3SiC2新型磁头衬底材料。该材料的突出特点是组成包括Al2O3、TiC和Ti3SiC2三种组分,其中基体Al2O3晶粒尺寸为200-400nm,TiC的晶粒尺寸为1~2um,Ti3SiC2晶粒尺寸在2~5um。材料的抗弯强度在600~900MPa,显微硬度在12~19GPa。该磁头衬底材料具有制备周期短、能耗低、可加工性好,优秀的传热性能等特性,具有良好的产业化前景。

    偶氮苯液晶光全息存储材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN101521030B

    公开(公告)日:2011-02-16

    申请号:CN200910038137.5

    申请日:2009-03-24

    申请人: 中山大学

    IPC分类号: G11B7/241 C09K19/12 C09K19/06

    摘要: 本发明公开了一种偶氮苯液晶光全息存储材料及其制备方法,包括二氧化硅、含偶氮苯基团化合物和含液晶基团化合物,偶氮苯基团与液晶基团的摩尔比为0.5~10∶1。偶氮苯液晶光全息存储材料使用的基质材料为二氧化硅结构,具有良好的高透光和低散射率,基质的折射率较低,与有着较高折射率的光折变化合物匹配可获得高的折射率调制度。液晶基团的存在可以强化偶氮苯基团遇光所产生的光折变效应,提高材料的衍射效率,进而增加了信息存储容量;液晶基团的规则排列不会受到热运动和非信号光的影响,数据存储时间大大延长。偶氮苯基团的顺反式异构体可在信号光的照射下相互转变,并诱导液晶基团的排列,数据可以反复擦除和写入。

    只写一次型的光学记录媒体

    公开(公告)号:CN100580783C

    公开(公告)日:2010-01-13

    申请号:CN200710090266.X

    申请日:2007-04-17

    摘要: 本发明是有关于一种只写一次型的光学记录媒体,其包含基板,及形成于基板上的镀膜,且镀膜包括记录层,及与记录层相连接的反射层,其中,记录层的主成分可为锗、锑、硅,或上述任两种以上元素形成的混合物,且反射层的主成分可为铝、铜、银、金,或上述任两种以上金属形成的合金,当写录激光射入镀膜时,会在记录层与反射层的界面区域产生局部材料组成变化反应而形成一作为数位讯号来源的记录点,由于记录层是选用可采用直流溅镀技术成长的无机材料,且产品制作工序极小化,因此,可以大幅降低生产成本,并提高生产效率。