-
公开(公告)号：CN108346551B
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201710059911.5
申请日：2017-01-24
Applicant: 日新离子机器株式会社
Inventor： 内藤胜男
IPC: H01J37/065 , H01J37/317
Abstract: 质量分析电磁铁具备一对主线圈和多个副线圈，主线圈具备与离子束的行进方向平行的第1平行部及相对于第1平行部弯折的第1弯折部，一对主线圈相对于离子束的行进方向而上下对称配置，离子束在主线圈以及副线圈形成的磁场下沿着离子束的行进方向，通过由第1平行部以及第1弯折部形成的空间，多个副线圈具有与离子束的行进方向平行的第2平行部以及相对于第2平行部弯折的第2弯折部，且与主线圈的第1平行部以及第1弯折部紧密相接地匹配，相对于离子束的行进方向而上下对称配置，通过主线圈产生质量分析所需磁场，通过调整副线圈中的电流朝向及大小对主线圈产生的磁场进行微调整。可对磁场控制进行微调整且易于修正离子束形状。
-
公开(公告)号：CN108573842B
公开(公告)日：2019-10-15
申请号：CN201711143287.3
申请日：2017-11-17
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/08 , H01J37/317
Abstract: 本发明提供离子束照射装置和离子源的装拆方法，能够实现离子源装拆作业效率的提高和离子源装拆机架结构的简化。离子束照射装置(ID)具有：外壳(12)，具有比配置离子束照射装置(ID)的地面(11)高的地面(4)，在内部收纳离子源(1)；以及通道(P)，从外壳(12)的外周端部朝向内侧形成在外壳(12)的地面的一部分上，形成有通道(P)的外壳(12)的地面的高度比其它部分低，与配置离子束照射装置(ID)的地面(11)的高度大致相同。
-
公开(公告)号：CN106128929B
公开(公告)日：2019-06-04
申请号：CN201510641785.5
申请日：2015-09-30
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/317
Abstract: 本发明提供一种不导致装置构成的复杂化及装置整体的大型化而确实地固定基板的基板固定装置。本发明的基板固定装置具备平台以及夹抓机构，其中，前述夹抓机构包括：多个夹具，其与基板的各边对应而设置，并可在将基板予以固定的固定位置、与将基板予以释放的释放位置之间移动；以及动力传达机构，其在对应于基板的相对向的两边之中的一边而设置的一边侧夹具、与对应于另一边而设置的另一边侧夹具之间传达用以移动夹具的驱动力；而动力传达机构具有：滑动构件，其随着前述一边侧夹具的移动、或随着对前述一边侧夹具传达驱动力的构件的移动而往预定方向滑动移动，来对前述另一边侧夹具传达驱动力。
-
公开(公告)号：CN109516106A
公开(公告)日：2019-03-26
申请号：CN201711143720.3
申请日：2017-11-17
Applicant: 日新离子机器株式会社
Abstract: 本发明提供离子源支承台，能够以稳定的状态使放置在离子源支承台(X)上的离子源(101)成为倒伏姿势。离子源支承台(X)用于放置离子源(101)，所述离子源(101)包括长条状的等离子体生成容器(10)和一对辊(31)，所述一对辊(31)设置于等离子体生成容器(10)的在与长边方向垂直的方向上相对的侧壁(11b)上，离子源支承台(X)包括：一对轨道(5)，在离子源(101)悬吊的状态下，可转动地放置一对辊(31)；以及牵引机构(6)，在一对辊(31)放置在一对轨道(5)上的状态下，将离子源(101)从轨道(5)的一端(A)侧向另一端(B)侧牵引。
-
公开(公告)号：CN105575754B
公开(公告)日：2018-06-26
申请号：CN201510548657.6
申请日：2015-08-31
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J49/20
CPC classification number: H01J49/30 , H01J37/05 , H01J37/1472 , H01J37/3171 , H01J49/20 , H01J2237/055 , H01J2237/31701
Abstract: 本发明提供一种质量分析电磁铁，其能抑制在离子束(IB)的质量分离方向以外的位置因离子束(IB)与分析管(9)的壁面碰撞而附着、堆积的堆积物混入目标物(5)中。质量分析电磁铁(2)具备在内侧区域形成离子束(IB)通道的分析管(9)，使离子束(IB)向规定的方向偏转，利用质量的不同分离包含在离子束(IB)中的离子，在与离子束(IB)的前进方向和离子束(IB)的质量分离方向垂直的方向上，分析管(9)具有遮蔽离子束(IB)的端部的至少一个遮蔽构件(SH)。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104103554B
公开(公告)日：2018-06-15
申请号：CN201310567012.8
申请日：2013-11-14
Applicant: 日新离子机器株式会社
CPC classification number: H01L21/67757 , H01J37/185 , H01J37/3171 , H01J37/32412 , H01L21/67718 , H01L21/67754
Abstract: 本发明提供能量线照射系统和工件输送机构，能大幅度改善生产率，并且有助于有效地利用能量线。能量线照射系统包括能量线射出机构、以及把照射所述能量线的工件（W）在规定的工件交接区域和能量线的照射区域（AR）之间输送的工件支架（21），把所述工件交接区域设置在隔着通过所述照射区域（AR）的虚拟直线（C）相对的两个部位，并且作为所述工件支架（21）设置有：第一工件支架（21（1）），在一方的工件交接区域和所述照射区域（AR）之间移动；以及第二工件支架（21（2）），在另一方的工件交接区域和所述照射区域（AR）之间移动。
-
公开(公告)号：CN107112176A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580073315.1
申请日：2015-10-08
Applicant: 日新离子机器株式会社
Abstract: 实现离子束引出用电极的维护性提高。离子束引出用电极(E)包括：具有供离子束通过的开口部的电极部(1)、固定支承电极部(1)的支承框(11)，支承框(11)形成有制冷剂流路(12)，并且具有在电极部(1)配置于支承框(11)时在与离子束通过方向大致垂直的面内限制电极部(1)移动的移动限制部(13)。
-
公开(公告)号：CN107104030A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201610838817.5
申请日：2016-09-21
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/317
Abstract: 本发明提供一种离子束照射装置，与以往相比能够使包含在离子束中的不需要的离子减少。该离子束照射装置包括：离子源(2)；质量分离器(3)，从由离子源(2)引出的离子束(IB)中挑选并导出确定的质量和价数的掺杂离子；以及能量过滤器，形成离子束(IB)通过的束通过区域，并且通过被施加过滤器电压(VF)而成为规定的过滤器电位(Vfil)，利用离子的能量差，区分通过所述束通过区域的通过离子和不通过所述束通过区域的非通过离子，以使所述通过离子中包含所述掺杂离子并且使所述非通过离子中包含在质量分离器(3)中不能与所述掺杂离子区分的不需要的离子的至少一部分的方式设定过滤器电位(Vfil)。
-
公开(公告)号：CN104051209B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201310685061.1
申请日：2013-12-13
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/08 , H01J37/075
Abstract: 本发明涉及离子源。提供了一种离子源，其包括至少一个电子枪。电子枪包括用于生成电子束的电子源和用于接收气体的入口。电子枪还包括至少由阳极和接地元件限定的等离子体区域，其中，等离子体区域能够从经由入口接收的气体形成等离子体。等离子体能够由电子束的至少一部分所维持。电子枪进一步包括用于输送以下至少之一的出口：（i）由等离子体生成的离子或（ii）由电子源生成的电子束的至少一部分。
-
公开(公告)号：CN103515172B
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：CN201310081172.1
申请日：2013-03-14
Applicant: 日新离子机器株式会社
Inventor： 松本武
IPC: H01L21/677 , H01J37/08 , H01J27/02
Abstract: 本发明提供离子束照射装置和离子束照射装置的运转方法，能对离子束照射装置进行清洗，并且能显著提高装置的运转率。所述离子束照射装置包括：基板输送部（102），在盒（7）和处理室（5）之间对未处理的基板与离子束照射处理过的基板进行多次基板更换作业；以及离子束供给部（101），用于向处理室（5）供给离子束（3），与至少一次的基板更换作业并行地，对离子束供给部（101）的运转参数进行设定变更并对离子束供给部（101）内进行清洗。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
181
records
(took 0.036 seconds)
