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公开(公告)号：CN104051209B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201310685061.1
申请日：2013-12-13
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/08 , H01J37/075
Abstract: 本发明涉及离子源。提供了一种离子源，其包括至少一个电子枪。电子枪包括用于生成电子束的电子源和用于接收气体的入口。电子枪还包括至少由阳极和接地元件限定的等离子体区域，其中，等离子体区域能够从经由入口接收的气体形成等离子体。等离子体能够由电子束的至少一部分所维持。电子枪进一步包括用于输送以下至少之一的出口：（i）由等离子体生成的离子或（ii）由电子源生成的电子束的至少一部分。
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公开(公告)号：CN104051208A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201310684726.7
申请日：2013-12-13
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/08 , H01J37/141
CPC classification number: H01J27/022 , H01J27/205
Abstract: 本发明涉及用于离子源的磁场源。提供了一种离子源，包括电离室和两个磁场源。电离室具有贯穿其延伸的纵轴并且包括两个相对的室壁，每个室壁平行于纵轴。两个磁场源各自包括（i）芯和（ii）大致缠绕芯的线圈。每一磁场源与相对的室壁中相应一个的外部表面对准并与其接近，并且取向大致平行于纵轴。磁场源的芯彼此在物理上分开并且电隔离。
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公开(公告)号：CN111696888A
公开(公告)日：2020-09-22
申请号：CN202010099333.X
申请日：2020-02-18
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供能利用简易结构均匀地冷却基板的基板冷却装置和基板冷却方法。基板冷却装置包括：腔室，接收所述基板，并且具备多个侧壁部，多个侧壁部包围基板且在与所述基板的垂直侧面平行的垂直方向延伸；至少一个气体导入口，形成在所述腔室的第一侧壁部，在与所述基板的所述上表面和所述下表面平行的横向上，向所述腔室内导入冷却气体；以及至少一个气体出口，形成在与所述腔室的所述第一侧壁部隔着所述基板位于相反侧的所述腔室的第二侧壁部，将所述冷却气体的至少一部分沿着所述横向导向所述腔室的外部，所述气体导入口和所述气体出口以下述方式定位：使所述冷却气体以在所述横向横穿所述基板的所述上表面上和所述下表面上的方式流动。
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公开(公告)号：CN107424892A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201610860614.6
申请日：2016-09-28
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/147 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/1472 , C23C14/48 , C23C14/54 , G21K5/00 , H01J37/302 , H01J37/3171 , H01J2237/1504 , H01J2237/30472 , H01J2237/31701 , H01J37/147 , H01J37/3177 , H01J2237/30
Abstract: 本发明涉及束电流密度分布调整装置和离子注入机。提供了一种束电流密度分布调整装置。该装置包括在带状束的长侧方向上的构件对，所述构件对通过使用电场或磁场来调整在带状束的长侧方向上的束电流密度分布，所述构件对中的每一个构件对的构件被布置成使得带状束在所述构件中间。在带状束的长侧方向上彼此相邻的构件对的相对表面部分地不平行于带状束的行进方向。
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公开(公告)号：CN106257616B
公开(公告)日：2019-05-28
申请号：CN201610388025.2
申请日：2016-06-02
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/317
Abstract: 本发明提供真空室和质量分析电磁铁，能减小束电位导致的带状束的长度方向上的发散不均匀性。在构成带状束B的输送路径的真空室C中，当把通过真空室C内的带状束B的行进方向设为Z方向、把带状束B的长度方向设为Y方向、把与上述两方向垂直的方向设为X方向时，在Y方向上的真空室C的端部区域，越朝向真空室C的端部去，X方向上的真空室C的内部尺寸越小。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106257616A
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：CN201610388025.2
申请日：2016-06-02
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/317
CPC classification number: H01J37/3171
Abstract: 本发明提供真空室和质量分析电磁铁，能减小束电位导致的带状束的长度方向上的发散不均匀性。在构成带状束B的输送路径的真空室C中，当把通过真空室C内的带状束B的行进方向设为Z方向、把带状束B的长度方向设为Y方向、把与上述两方向垂直的方向设为X方向时，在Y方向上的真空室C的端部区域，越朝向真空室C的端部去，X方向上的真空室C的内部尺寸越小。
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公开(公告)号：CN106469634B
公开(公告)日：2018-04-10
申请号：CN201610458165.2
申请日：2016-06-22
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/12 , H01J37/147 , H01J37/317
Abstract: 本发明涉及离子束线。在一个方面，公开了一种离子注入系统，所述离子注入系统包括：减速系统，其被构造成接收离子束并且以至少2的减速比将离子束减速；静电弯道，其设置在所述减速系统的下游，用于造成所述离子束偏转。所述静电弯道包括用于接收减速离子束的三个串联电极对，其中，各电极对具有分隔开以允许离子束从中通过的内部电极和外部电极。末端电极对的电极中的每个被保持在比中间电极对的任一个电极所保持的电位低的电位并且第一电极对的电极被保持在相对于中间电极对的电极的更低电位。
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公开(公告)号：CN106469634A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：CN201610458165.2
申请日：2016-06-22
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/12 , H01J37/147 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/12 , H01J37/1477
Abstract: 本发明涉及离子束线。在一个方面，公开了一种离子注入系统，所述离子注入系统包括：减速系统，其被构造成接收离子束并且以至少2的减速比将离子束减速；静电弯道，其设置在所述减速系统的下游，用于造成所述离子束偏转。所述静电弯道包括用于接收减速离子束的三个串联电极对，其中，各电极对具有分隔开以允许离子束从中通过的内部电极和外部电极。末端电极对的电极中的每个被保持在比中间电极对的任一个电极所保持的电位低的电位并且第一电极对的电极被保持在相对于中间电极对的电极的更低电位。
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公开(公告)号：CN104051209A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201310685061.1
申请日：2013-12-13
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/08 , H01J37/075
CPC classification number: H01J27/205
Abstract: 本发明涉及离子源。提供了一种离子源，其包括至少一个电子枪。电子枪包括用于生成电子束的电子源和用于接收气体的入口。电子枪还包括至少由阳极和接地元件限定的等离子体区域，其中，等离子体区域能够从经由入口接收的气体形成等离子体。等离子体能够由电子束的至少一部分所维持。电子枪进一步包括用于输送以下至少之一的出口：（i）由等离子体生成的离子或（ii）由电子源生成的电子束的至少一部分。
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公开(公告)号：CN116892063A
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN202211484201.4
申请日：2022-11-24
Applicant: 日新离子机器株式会社
Abstract: 本发明提供汽化器及具备该汽化器的离子源、含铝蒸汽的生成方法，不利用氢气就能够解决引出电极的绝缘化问题。汽化器(1)具备：坩埚(2)，在内部配置有含铝的固体材料(7)；以及加热器(5)，加热坩埚(2)，坩埚(2)具备：含氯气体导入口(2b)，将含氯气体导入坩埚(2)；以及蒸汽释放口(2a)，向坩埚(2)的外部释放通过加热含氯气体与固体材料(7)的反应生成物而产生的含铝蒸汽。
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