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公开(公告)号：CN117859004A
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202280055562.9
申请日：2022-08-09
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 提供吹扫装置，该吹扫装置能够防止在将潜入式泵放入泵柱内时伴有空气且能够在将潜入式泵从泵柱取出时对潜入式泵进行加热以防止空气中的成分液化，能够防止液化气体被释放到大气中。吹扫装置包括：用于收容潜入式泵(2)的密闭型吹扫容器(1)；与密闭型吹扫容器(1)连接且与真空源(39)连接的真空管线(37)；与密闭型吹扫容器(1)连接且与吹扫气体供给源(40B)连接的吹扫气体供给管线(38)；以及安装于吹扫气体供给管线(38)的吹扫气体供给阀(35)。
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公开(公告)号：CN117840903A
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202311264906.X
申请日：2023-09-28
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B37/005 , B24B37/04 , B24B37/34 , B24B57/02
Abstract: 本发明提供一种研磨装置，能够抑制因残存于流路的研磨液导致流路发生堵塞的现象，并且假设在流路发生了堵塞的情况下，能够检测所述堵塞的发生。研磨装置(1)包括控制装置(90)，控制装置(90)执行：清洗处理，在研磨机(10)所研磨的基板(Wf)的片数达到规定片数时，使清洗液流通至流路(70a)，继而使研磨液流通至流路(70a)；以及堵塞检测处理，基于当清洗液正在流路中流通时传感器(60)、传感器(61)所检测出的清洗液的压力或流量来检测流路发生了堵塞的情况。
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公开(公告)号：CN115087517B
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202180013002.2
申请日：2021-01-13
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B37/005 , B24B37/10 , B24B41/06 , B24B49/02 , H01L21/304 , H01L21/68 , H01L21/683
Abstract: 使具有异形部分的未被预对准的基板的定位精度提升。基板处理装置包含：平台，用于支承基板；垫保持架，用于保持研磨垫，研磨垫用于研磨被支承在平台的基板；升降机构，用于使垫保持架相对于基板升降；及至少3个定心机构400A、400B、400C，用于向平台的中心方向按压被支承在平台的基板以进行对位，至少3个定心机构400A、400B、400C分别包含：被配置在平台的周围的旋转轴430、及被安装在旋转轴430的定心构件440，定心构件440包含：旋转轴430向第1方向旋转时与基板WF接触的第1接触部440a、及旋转轴430向与第1方向相反的第2方向旋转时与基板WF接触的第2接触部440b。
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公开(公告)号：CN117773766A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202311238535.8
申请日：2023-09-25
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 中村显
IPC: B24B37/10 , B24B37/005 , B24B49/12
Abstract: 本发明提供一种检测晶片等工件的膜厚测定的异常的方法、光学式膜厚测定装置及记录程序的记录介质。本方法为，遍及工件的研磨中的规定期间，生成来自工件上的多个测定点的反射光的多个谱图，将多个谱图按照各谱图的特征量分类为至少包含第一组和第二组的多个组，至少基于第一组所包含的谱图的数量来决定监控指标值，基于监控指标值与阈值的比较来检测至少一枚工件的膜厚测定的异常。
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公开(公告)号：CN116897226B
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202280014805.4
申请日：2022-08-09
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 辻一仁
Abstract: 镀覆装置具备：镀覆槽，其构成为收容镀覆液；基板支架，其构成为保持作为进行镀覆处理的对象的基板；旋转机构，其使上述基板支架旋转；升降机构，其使上述基板支架升降；以及控制装置，上述基板支架具备：接触部件，其构成为与上述基板能够供电地接触；密封部件，其构成为将上述基板支架与上述基板之间密封；液体保持部，其在内部具有上述接触部件，并构成为在通过上述密封部件将上述基板支架与上述基板之间密封时能够保持液体；以及喷吐口，其构成为向上述液体保持部或上述基板支架的内部的与上述液体保持部连通的空间开口，或能够配置于上述基板支架的侧方，而喷吐上述液体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117677467A
公开(公告)日：2024-03-08
申请号：CN202280051208.9
申请日：2022-06-30
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 柏木诚
IPC: B24B37/32
Abstract: 提供一种能够抑制使用顶环时束带的嵌合部从槽脱离的技术。在研磨装置(100)的顶环(10)中，在挡圈部件(30)的外周壁(11)和按压机构(40)的外周壁(11)的至少一方设置有供束带(70)的嵌合部(71a、71b)嵌合的槽(15)，槽是燕尾槽，从剖面观看，该燕尾槽具有：槽开口；与槽开口相对的槽底；连接槽开口与槽底的第一槽侧壁；以及连接槽开口与槽底，并且与第一槽侧壁相对的第二槽侧壁，该燕尾槽构成为第一槽侧壁与第二槽侧壁的间隔随着接近槽底而扩大，顶环构成为，在束带的嵌合部嵌合于燕尾槽的状态下，嵌合部与第一槽侧壁和第二槽侧壁接触。
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公开(公告)号：CN117581336A
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202280044190.X
申请日：2022-06-14
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明关于一种研磨晶片等的基板的研磨方法和研磨装置。本方法具备如下工序：研磨基板(W)；一边研磨基板(W)，一边生成转矩波形；及从基板(W)研磨前所存储的多个参考转矩波形选择一个参考转矩波形。研磨基板(W)的工序包含阶差研磨工序和平坦研磨工序，阶差研磨工序包含如下工序：基于利用第一关系式算出的参考膜数据的膜厚，决定在基板(W)上多个测定点的多个膜厚；及比较转矩波形与选出的参考转矩波形，判断是否应结束阶差研磨工序；平坦研磨工序包含基于利用第二关系式算出的参考膜数据的膜厚，决定在基板(W)上多个测定点的多个膜厚的工序。
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公开(公告)号：CN112410859B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202010586728.2
申请日：2020-06-24
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明的基板保持架及镀敷装置提高实施镀敷的方形基板的面内均匀性。一种实施例的基板保持架(24)是用于保持方形的基板(W)，以对基板(W)进行电镀。基板保持架(24)具有：第一保持构件(121)；以及第二保持构件(126)，在与第一保持构件(121)之间夹持基板(W)，并具有与基板(W)的周缘部接触而向基板(W)供给电流的接点。第二保持构件(126)包括：开口部，规定形成电场的区域；以及遮蔽部，在比开口部远离基板(W)的位置，比开口部朝内侧突出，遮蔽基板(W)的面的周缘部。遮蔽部呈在基板(W)的周缘部具有规定的遮蔽宽度的框形状，并且在其角落部具有遮蔽宽度比周围小的不连续部。
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公开(公告)号：CN117529643A
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN202280043645.6
申请日：2022-01-27
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: G01M99/00
Abstract: 本发明涉及监视旋转机械中产生的振动的系统及方法。振动监视系统的监视装置(5)包括显示振动传感器(7)的传感器设置信息的显示器(10)、和对传感器设置信息进行处理的处理装置(11)。传感器设置信息包含以图像表示旋转机械(1)的种类的种类图像数据、以图像表示与旋转机械(1)的种类建立关联的旋转机械(1)的机型的机型图像数据、以图像表示与旋转机械(1)的机型建立关联的振动传感器(7)的推荐设置位置的设置位置数据、以及以图像表示与推荐设置位置建立关联的振动传感器(7)的适当的设置方向的设置方向数据。处理装置(11)使显示器(10)以使用者能够选择的方式显示种类图像数据、机型图像数据及设置位置数据。
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公开(公告)号：CN117501414A
公开(公告)日：2024-02-02
申请号：CN202280042683.X
申请日：2022-05-24
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/304
Abstract: 基板处理装置具备：在基板的研磨中和/或清洗中和/或干燥中对对象的物理量进行检测的至少一个传感器；对于已学习的机器学习模型，将由所述传感器检测到的研磨中和/或清洗中和/或干燥中的传感器值按照每个处理步骤转换为特征量的转换部；以及通过将包含所述特征量的对象数据输入已学习的机器学习模型而输出对象的基板中的缺陷的数量、缺陷的尺寸、缺陷的位置中的至少一个的预测值的推论部，所述已学习的机器学习模型使用学习数据组进行学习，该学习数据组的输入数据包含将在对象的生产线或与该对象的生产线同种的生产线中由传感器检测到的研磨中和/或清洗中的传感器值按照每个处理步骤转换而得到的特征量，且该学习数据组的输出数据是基板中的缺陷的数量、缺陷的尺寸、缺陷的位置中的至少一个。
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