公开(公告)号：CN118388443A

公开(公告)日：2024-07-26

申请号：CN202410103957.2

申请日：2024-01-25

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛将大 ,  渡边聪 ,  增永惠一 ,  小竹正晃 ,  松泽雄太

IPC: C07D327/08 ,  C07C309/43 ,  C07D333/76 ,  C07C381/12 ,  C07C25/18 ,  G03F7/00 ,  G03F7/039 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及鎓盐、化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供可产生具有适当的酸强度且扩散小的酸的鎓盐、含有其的化学增幅正型抗蚀剂组成物、及使用该抗蚀剂组成物的抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段是一种鎓盐，以下式(A)表示。#imgabs0#

公开(公告)号：CN117148675A

公开(公告)日：2023-12-01

申请号：CN202310637442.6

申请日：2023-06-01

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 增永惠一 ,  福岛将大 ,  小竹正晃 ,  渡边聪

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  C08L25/18 ,  G03F1/56 ,  G03F1/76

Abstract: 本发明涉及化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供改善图案形成时的分辨性，且可以得到LER及图案忠实性良好的抗蚀剂图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物、及抗蚀剂图案形成方法。解决手段是一种化学增幅负型抗蚀剂组成物，包含：(A)含有选自下式(A1)表示的锍盐及下式(A2)表示的錪盐中的至少1种的酸产生剂、及(B)包含含有下式(B1)表示的重复单元的聚合物的基础聚合物。

公开(公告)号：CN111675963A

公开(公告)日：2020-09-18

申请号：CN202010161707.6

申请日：2020-03-10

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 长泽贤幸 ,  增永惠一 ,  小竹正晃 ,  渡边聪

IPC: C09D179/02 ,  C09D5/24 ,  C09D7/63 ,  C09D11/102 ,  C09D11/52 ,  C09D11/03 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明的目的在于提供一种导电性高分子组合物，其能够适宜地用于过滤性及在电子束抗蚀剂上的平坦膜成膜性良好，并且由于低体积电阻率(Ω·cm)的性质而在电子束光刻工序中也显示优良的抗静电性能，且将因该膜而扩散的酸的影响降至最低从而减少对平版印刷的影响，并且描绘后的基于H2O或碱性显影液的剥离性也优异的电子束光刻用抗静电膜。所述导电性高分子组合物的特征在于，其包含：(A)具有至少一种以上的下述通式(1)所表示的重复单元的聚苯胺类导电性高分子、及(B)下述通式(2)所表示的羧酸盐。[化学式1][化学式2][化学式3]

公开(公告)号：CN106094450B

公开(公告)日：2020-05-05

申请号：CN201610272230.2

申请日：2016-04-28

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 山田健司 ,  渡边聪

IPC: G03F7/32 ,  G03F7/039

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组合物和图案化方法。通过将抗蚀剂组合物涂布到基材上，烘焙，将该抗蚀剂膜曝光，PEB，和在有机溶剂显影剂中显影，从而形成图案。该抗蚀剂组合物包括(A)PPD抑制剂、(B)适于在酸的作用下改变其在有机溶剂中的溶解性的聚合物、(C)光致产酸剂、和(D)有机溶剂。该抗蚀剂组合物确保以一致的方式形成图案，同时抑制起因于从PEB到显影的延迟的任何CD收缩和图案轮廓变化。

公开(公告)号：CN106054529B

公开(公告)日：2020-01-17

申请号：CN201610212743.4

申请日：2016-04-07

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 阿达铁平 ,  渡边聪 ,  土门大将 ,  增永恵一

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  G03F1/00 ,  G03F1/40

Abstract: 光掩模坯具有化学增幅型负型抗蚀剂膜，该化学增幅型负型抗蚀剂膜包括(A)包含特定结构的重复单元和具有氟的重复单元的聚合物，(B)适于在酸的作用下降低其在碱显影剂中的溶解性的基础树脂，(C)产酸剂，和(D)碱性化合物。该抗蚀剂膜对于抗静电膜的接受性得到改善。

公开(公告)号：CN105676591B

公开(公告)日：2019-11-26

申请号：CN201510893730.3

申请日：2015-12-08

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 熊木健太郎 ,  渡边聪 ,  土门大将 ,  畠山润

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供收缩材料，其包括包含式(1)的重复单元的聚合物和含有抗消失性溶剂的溶剂。通过将包含基础树脂和产酸剂的抗蚀剂组合物涂布到基材上以形成抗蚀剂膜、曝光、在有机溶剂显影剂中显影以形成负型抗蚀剂图案、将该收缩材料涂布到该图案上和用有机溶剂将过量的收缩材料除去以由此使该图案中的孔和/或狭缝的尺寸收缩，从而形成图案。

公开(公告)号：CN108255019A

公开(公告)日：2018-07-06

申请号：CN201711451906.5

申请日：2017-12-28

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 小竹正晃 ,  增永惠一 ,  渡边聪 ,  大桥正树

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F1/76

CPC classification number: G03F7/004 ,  C07C381/12 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2059 ,  G03F7/322

Abstract: 本发明涉及化学增幅型正型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法。包含适于在酸的作用下分解以增大其在碱显影剂中的溶解度的聚合物和式(A)的锍化合物的正型抗蚀剂组合物具有高分辨率。通过光刻加工该抗蚀剂组合物时，能够形成具有最小LER的图案。

公开(公告)号：CN104330955B

公开(公告)日：2018-05-25

申请号：CN201410505727.5

申请日：2011-02-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 增永惠一 ,  渡边聪 ,  田中启顺 ,  土门大将

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397

Abstract: 提供一种用于EB或EUV平版印刷的化学放大正性抗蚀剂组合物，其包括(A)聚合物或聚合物共混物，其中聚合物或聚合物共混物的薄膜不可溶于碱性显影剂，但是在酸的作用下变为可溶于其中，(B)酸产生剂，(C)碱性化合物，和(D)溶剂。碱性化合物(C)为包括带有侧链的重复单元的聚合物，并且构成作为组分(A)的一种聚合物或多种聚合物的一部分或全部，所述侧链具有仲胺或叔胺结构作为碱性活性位点。

公开(公告)号：CN106662810A

公开(公告)日：2017-05-10

申请号：CN201580047940.9

申请日：2015-07-24

Applicant: 国际商业机器公司 ,  信越化学工业株式会社

Inventor： R.苏里亚库马兰 ,  L.K.松德贝里 ,  M.I.桑切斯 ,  L.D.博扎诺 ,  D.P.桑德斯 ,  渡边聪 ,  增永惠一 ,  土门大将 ,  河合义夫

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038

Abstract: 提供包含游离的光致产酸剂和与光致产酸部分共价结合的多官能聚合物的负性抗蚀剂组合物，其中所述组合物基本不含交联剂。还提供可与抗蚀剂组合物联合使用的多官能聚合物，以及使用本发明组合物和聚合物在基底上产生抗蚀剂图像的方法。

公开(公告)号：CN106054530A

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：CN201610227786.X

申请日：2016-04-13

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 增永惠一 ,  渡边聪 ,  小竹正晃 ,  土门大将 ,  藤原敬之

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 化学增幅型负型抗蚀剂组合物定义为包括(A)具有阴离子基团的鎓盐，该阴离子基团为稠环结构的含氮羧酸根，(B)基础树脂，和(C)交联剂。该抗蚀剂组合物在曝光步骤过程中对于控制酸扩散有效，在图案形成过程中显示非常高的分辨率，并且形成具有最小LER的图案。