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公开(公告)号：CN102097352A
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN201010231111.5
申请日：2010-07-14
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
IPC分类号： H01L21/687
摘要： 本发明公开了一种盘状物固定装置，包括卡盘主体及与其连接并带动盘状物转动的转动轴；通过轴承安装在卡盘主体上，并可与卡盘主体同轴转动的凸轮；连接于凸轮与卡盘主体之间，使得凸轮能够相对于卡盘主体转动的至少一个拉伸弹簧；设置于卡盘主体边缘的至少三个夹持元件；至少三个压缩弹簧，其一端与卡盘主体连接，另一端设置于夹持元件朝向凸轮的一端，通过其弹性力将夹持元件朝向凸轮的一端顶在凸轮上，并且夹持元件的与凸轮的接触端沿夹持元件与凸轮的接触面滑动，使夹持元件卡紧盘状物。本发明公开的盘状物固定装置结构简单、容易实现，不会对盘状物造成弯矩以及与夹持元件产生相对运动从而破坏盘状物，且不限制机械手夹持该盘状物的方式。
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公开(公告)号：CN101494189A
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200910079701.8
申请日：2009-03-06
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/00
摘要： 本发明涉及一种保持盘状物的装置及方法，该装置中的载体上设置有用于轴向固定盘状物的凸出部件，凸出部件使固定后的盘状物下表面与载体上表面四周之间产生空间；载体上表面周边设有与气源连接的吹气口，气体通过吹气口吹向盘状物的下表面的外部，该方法中的通过凸出部件使固定后的盘状物下表面与载体上表面四周之间产生空间，该空间用于机械手从盘状物下表面抓取盘状物，通过设置在载体上表面周边的吹气口向盘状物的下表面的外部不断吹气，阻止工艺液体流向盘状物的下表面。本发明结构简单，操作方便，且在盘状物固定后可以从下面抓取盘状物，减少了对盘状物上表面的污染，并有效的保证盘状物下表面不被工艺液体腐蚀。
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公开(公告)号：CN101494166A
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200910079702.2
申请日：2009-03-06
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/311 , H01L21/306 , H01L21/3213
摘要： 本发明涉及一种用湿法处理盘状物的装置及方法，包括用于承载盘状物以及使其旋转的载体，在载体的上方设置有分配器，分配器用于将液体分配在盘状物的至少一个表面上，在载体的外围设有环状液体收集器，载体位于环状液体收集器的环口附近，环状液体收集器设有内层、外层和至少一个中间层，在外层与中间层上分别设有固定段和升降段，外层的固定段与一个中间层的固定段相连接，中间层的固定段还与内层一起连接在固定框架上，中间层的升降段还与升降机构相连接。本发明可通过液体回收器中的可上下升降的中间层来改变环形腔室与晶片的相对轴向位置，使不同工艺液体流入不同的环形腔室，从而实现对工艺后的工艺液体的分开回收。
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公开(公告)号：CN204130515U
公开(公告)日：2015-01-28
申请号：CN201420056727.7
申请日：2014-01-29
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
IPC分类号： H01L21/687
摘要： 本实用新型公开了一种盘状物夹持装置，包括放置盘状物的旋转卡盘；带动旋转卡盘旋转的旋转轴；以及驱动旋转轴旋转的驱动机构。旋转卡盘包括基体，设于基体周缘的夹持元件，环形体以及限位结构。夹持元件包括主体部及夹持部，主体部自旋转而使夹持部在打开位置和夹持位置之间移动。环形体与夹持元件的主体部形成啮合面，所述啮合面用于当基体与环形体发生相对转动时，使主体部与环形体啮合而自转动。限位结构包括设于基体和环形体的第一和第二限位件，当基体相对于环形体发生第一方向的相对转动以使夹持部从打开位置移动至夹持位置时，第一限位件与第二限位件接触以约束该第一方向的相对转动，进而调节夹持部作用于硅片侧边的力。
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公开(公告)号：CN202616215U
公开(公告)日：2012-12-19
申请号：CN201220063685.0
申请日：2012-02-23
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/67
摘要： 本实用新型公开了一种易清洗的薄壁盘状物夹持装置，该装置由可旋转的卡盘主体及其边缘设置的至少两组夹持元件组成，夹持元件可以以其与卡盘主体的连接点为旋转中心进行摆动，其底端与卡盘主体连接有径向的压缩弹簧；清洗时同组夹持元件的动作一致，两组夹持元件交替打开和卡紧。通过采用同组夹持元件安装对外同极性磁铁，不同组夹持元件安装磁极相反磁铁；卡盘主体上均匀间隔设两组电磁铁。清洗初期两组电磁铁不通电，两组夹持装置处于压缩弹簧弹力作用下的夹紧状态，清洗时通过改变电磁铁中电流方向来使夹持元件交替打开。本实用新型可以对夹持元件与薄壁盘状物接触的地方进行清洗，从而提高薄壁盘状物的整体清洗质量。
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公开(公告)号：CN204481015U
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201520135875.2
申请日：2015-03-10
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
IPC分类号： H01L21/687 , H01L21/67
摘要： 本发明公开了一种盘状物夹持装置，在基体的周缘设置多个支撑销，支撑销由行程变换机构驱动做升降运动，通过卡爪和支撑销相互配合，在取放盘状物时，支撑销做上升运动，远离卡盘，保证机械手末端执行器的取放片动作，在盘状物处于工艺状态时，支撑销做下降运动，贴合卡盘，避免硅片的背面受到污染，本发明合理的控制盘状物与卡盘之间的距离，具有结构简单、动作控制方式便捷可靠、可与各类工艺处理腔体相兼容的优点。
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公开(公告)号：CN202839578U
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201220478274.8
申请日：2012-09-18
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
IPC分类号： H01L21/687
摘要： 本实用新型涉及半导体集成电路器件清洗技术领域，公开了一种具有监测半导体晶片状态功能的夹持装置，包括：可旋转的卡盘、位于所述卡盘几何中心的旋转轴、固定于所述旋转轴上的传感器、以及分布在所述卡盘上的至少三个夹持元件。本实用新型通过凸轮和卡盘的相对转动来放松或夹紧晶片，结构简单、容易实现，进一步通过传感器精确测量晶片是否夹紧，避免了夹紧力过小造成晶片夹持不紧，或者夹紧力过大造成对晶片的破坏，稳定性得以提高。
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公开(公告)号：CN203950796U
公开(公告)日：2014-11-19
申请号：CN201420340610.1
申请日：2014-06-24
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
IPC分类号： H01L21/687 , H01L21/677
摘要： 本实用新型公开了一种用于盘状物的支撑装置，用于支撑圆盘状的晶圆，装置的支撑脚采用L形外形，其L形竖直部分的上端设有各由至少一个面构成的晶圆支撑面及其外侧背靠的外倾斜面，外倾斜面的上端具有水平端面，支撑脚的L形水平部分与支撑环安装连接，支撑脚按其L形竖直部分位于外侧、L形水平部分位于内侧的向心方向安装在支撑环的滑行槽中。本实用新型可使支撑环整体缩小，避免晶圆从支撑环的内径处落地破碎，并能使晶圆平稳安放，具有结构简单、易实现、可节省设备占地面积并降低晶圆破损率的显著特点，适于工厂推广。
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公开(公告)号：CN203638501U
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：CN201420001669.8
申请日：2014-01-02
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
摘要： 本实用新型公开了一种多层存储台装置，其调平底座包括位于下层的支撑板，位于上层的调节板，设于支撑板和调节板之间的调平部件，以及固定支撑板和调节板的锁紧部件；其支撑脚支撑为成对的支撑脚支撑架，调节板通过一对相向设置的连接侧板与所述支撑脚支撑架固接，支撑脚支撑架在连接侧板的内侧可沿竖直方向相向多层设置；每层支撑脚支撑架的上表面设有若干个支撑脚。本实用新型可使晶圆得以多层存储，提高机械手的利用率，增加生产产量，具有结构简单、易实现、可节省设备占地面积的显著特点。
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公开(公告)号：CN203002725U
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：CN201220633584.2
申请日：2012-11-26
申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
摘要： 本实用新型涉及硅片湿法清洗领域，尤其涉及一种排风装置。该排风装置包括底腔、兆声波装置盛液槽、兆声波装置盛液槽固定支架、夹层及排风调整单元，所述底腔固定于所述夹层顶部，所述兆声波装置盛液槽通过兆声波装置盛液槽固定支架固定于所述夹层上，夹层将整个工艺腔室的工艺区和电气区分隔开，所述排风调整单元与夹层连接，用于调整工艺腔体内部排风流量、工艺腔体外部排风流量以及电气区的排风流量。这样排风调整单元可通过有效的调整排风量以保证工艺腔室内部流场的均匀性；通过夹层能将工艺腔室的工艺区和电气区完全隔离开来，以防止工艺区的化学液挥发的雾气挥发至电气区对电气部件造成损害。
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