-
公开(公告)号：CN110494794A
公开(公告)日：2019-11-22
申请号：CN201880023619.0
申请日：2018-03-26
Applicant: 浜松光子学株式会社
Abstract: 伪散斑图案生成装置(1A)包括第一空间光调制器(13)、透镜(14)、第二空间光调制器(15)和透镜(16)等。第一空间光调制器(13)具有基于伪随机数图案的第一强度调制分布，对从光源(11)输出而由扩束器(12)放大了光束直径的光空间地进行强度调制。第二空间光调制器(15)具有基于滤波函数的第二强度调制分布，设置在由透镜(14)生成傅立叶变换图案的面，对经透镜(14)到达的光空间地进行强度调制。透镜(16)对从第二空间光调制器(15)输出的光的图案光学地进行傅立叶变换而生成该傅立叶变换图案作为伪散斑图案。由此，实现生成的散斑图案的空间构造或光强度统计分布的设定的自由度高的伪散斑图案生成装置等。
-
公开(公告)号：CN110383609A
公开(公告)日：2019-10-25
申请号：CN201880016036.5
申请日：2018-03-26
Applicant: 浜松光子学株式会社
Abstract: 本实施方式所涉及的半导体发光模块包括分别输出所期望的光束投影图案的光的多个半导体发光元件和保持该多个半导体发光元件的支承基板，多个半导体发光元件分别包括用于使目标光束投影图案形成于目标光束投影区域的相位调制层，多个半导体发光元件包括光束投影方向、目标光束投影图案和发光波长中的至少任一者不同的第1和第2半导体发光元件。
-
公开(公告)号：CN109690890A
公开(公告)日：2019-04-26
申请号：CN201780054735.4
申请日：2017-08-31
Applicant: 浜松光子学株式会社
IPC: H01S5/183
CPC classification number: H01S5/183
Abstract: 本实施方式涉及一种具有能够从S－iPM激光器的输出光中除去0次光的结构的半导体发光元件等。该半导体发光元件包括活性层、一对覆盖层和相位调制层。相位调制层包括基本层和各自单独地配置于特定位置的多个差异折射率区域。一对覆盖层的一层具有分布布拉格反射层，其具有对相对于光出射面的倾斜方向的特定光像的透过特性和对沿光出射面的法线方向输出的0次光的反射特性。
-
公开(公告)号：CN106133580B
公开(公告)日：2019-03-12
申请号：CN201580017560.0
申请日：2015-03-19
Applicant: 浜松光子学株式会社
Inventor： 泷口优
Abstract: STED显微镜装置(1A)包括输出STED光(LS1)的STED光源(11)、输出激励光(LE1)的激励光源(12)、呈现用于通过相位调制将STED光(LS1)成形为圆环状的相位图案的相位调制型的SLM(13)、用于向观察对象区域照射激励光(LE2)和相位调制后的STED光(LS2)的光学系统(15A)、对从观察对象区域产生的荧光(PL)进行检测的检测器(16)、以及控制相位图案的控制部(17a)。控制部(17a)为了控制相位调制后的STED光(LS2)的圆环的内径而设定相位图案。由此，实现了在分辨率和所需时间方面能够提高使用者的便利性的STED显微镜装置。
-
公开(公告)号：CN105008085B
公开(公告)日：2018-04-27
申请号：CN201380062649.X
申请日：2013-11-29
Applicant: 浜松光子学株式会社
IPC: B23K26/06 , B23K26/00 , B23K26/064 , B23K26/38 , B23K26/40
CPC classification number: H01L21/268 , B23K26/0006 , B23K26/0643 , B23K26/0648 , B23K26/38 , B23K26/53 , B23K26/55 , B23K2103/50 , H01L21/67115
Abstract: 激光加工装置(1)是通过对加工对象物(S)照射激光(L)而在加工对象物(S)形成改质区域(R)的装置。激光加工装置(1)具备：激光光源(2)，其出射激光(L)；载置台(8)，其支撑加工对象物(S)；以及光学系统(11)，其使从激光光源(2)出射的激光(L)中包围包含该激光(L)的光轴的中央部的环状部，聚光于被载置台(8)支撑的加工对象物(S)的规定部。光学系统(11)根据加工对象物(S)中规定部的位置，调整激光(L)的环状部的内缘和外缘中的至少一者的形状。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104781724B
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201380058975.3
申请日：2013-11-07
Applicant: 浜松光子学株式会社
CPC classification number: G03H1/0841 , G02B21/06 , G02B26/06 , G02B27/0927 , G02B27/0944 , G03H1/0005 , G03H1/0808 , G03H1/2294 , G03H2001/005 , G03H2001/0094 , G03H2001/085 , G03H2001/221 , G03H2210/20 , G03H2225/32 , G03H2225/52
Abstract: 提供能够简单地求得用于高精度地实现所希望的强度分布的相位分布的相位调制方法。以在靶面(TA)上调制光(P2)具有规定的强度分布的方式计算出显示于相位调制面(20a)的相位分布并使该相位分布显示于相位调制面(20a)，使读出光(P1)入射到相位调制面(20a)而生成调制光(P2)。在计算相位分布的时候，以将相位调制面(20a)上的区域分割成N个区域(A1……AN)并且区域(A1……AN)上的强度分布的积分值互相相等的方式设定它们的大小。另外，以将靶面(TA)上的区域分割成N个区域(B1……BN)并且区域(B1……BN)上的强度分布的积分值互相相等的方式设定它们的大小。通过求得从区域(An)到区域(Bn)的光路长度(Ln)并根据光路长度(Ln)决定区域(An)的相位，从而计算出相位分布。
-
公开(公告)号：CN106133580A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201580017560.0
申请日：2015-03-19
Applicant: 浜松光子学株式会社
Inventor： 泷口优
CPC classification number: G02B21/0076 , G01N21/6458 , G02B21/0032 , G02B21/0036 , G02B21/0056 , G02B26/06
Abstract: STED显微镜装置(1A)包括输出STED光(LS1)的STED光源(11)、输出激励光(LE1)的激励光源(12)、呈现用于通过相位调制将STED光(LS1)成形为圆环状的相位图案的相位调制型的SLM(13)、用于向观察对象区域照射激励光(LE2)和相位调制后的STED光(LS2)的光学系统(15A)、对从观察对象区域产生的荧光(PL)进行检测的检测器(16)、以及控制相位图案的控制部(17a)。控制部(17a)为了控制相位调制后的STED光(LS2)的圆环的内径而设定相位图案。由此，实现了在分辨率和所需时间方面能够提高使用者的便利性的STED显微镜装置。
-
公开(公告)号：CN104471465A
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201380037587.7
申请日：2013-07-09
Applicant: 浜松光子学株式会社
CPC classification number: G02F1/13306 , G02F1/1313 , G03H1/2294 , G03H2001/0224 , G03H2225/32
Abstract: 本发明的光调制装置(2A)构成为具备：相位调制型的空间光调制器(20)，其包含二维排列的多个像素，根据调制图案而针对每个像素调制所输入的光的相位；调制图案设定部(31)，其设定用于调制光的相位的目标调制图案；修正系数设定部(32)，其设定与空间光调制器(20)的像素结构特性及目标调制图案的图案特性相对应的α≥1的修正系数α；及调制图案修正部(35)，其通过将目标调制图案与修正系数α相乘，而求出呈现于空间光调制器(20)的多个像素的修正后的调制图案。由此，实现可抑制因SLM引起的无需的0次光的产生的光调制方法、光调制程序、光调制装置、及光照射装置。
-
公开(公告)号：CN104162740A
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201410428261.3
申请日：2009-10-09
Applicant: 浜松光子学株式会社
CPC classification number: H01S3/0085 , B23K26/06 , B23K26/352 , G02B3/08 , G02B5/32 , G02B13/22 , G03H1/0005 , G03H1/08 , G03H1/0808 , G03H1/2294 , G03H2001/0094 , G03H2225/32 , B23K26/0648 , B23K26/0643
Abstract: 本发明提供激光加工装置和激光加工方法。激光加工装置(1)具备激光光源(10)、相位调制型的空间光调制器(20)、驱动部(21)、控制部(22)以及成像光学系统(30)。成像光学系统(30)可以是远心光学系统。包含于驱动部(21)中的存储部(21A)存储分别对应于多个基本加工图案的多个基本全息图，并且存储相当于菲涅耳透镜图案的聚光用全息图。控制部(22)并列配置选自由存储部(21A)存储的多个基本全息图中的2个以上的基本全息图，并将聚光用全息图重叠于该并列配置的各个基本全息图上，从而构成整体全息图，将该构成的整体全息图显示于空间光调制器(20)。
-
公开(公告)号：CN101712100B
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN200910151293.2
申请日：2009-10-09
Applicant: 浜松光子学株式会社
IPC: B23K26/064 , G03H1/08
CPC classification number: H01S3/0085 , B23K26/06 , B23K26/352 , G02B3/08 , G02B5/32 , G02B13/22 , G03H1/0005 , G03H1/08 , G03H1/0808 , G03H1/2294 , G03H2001/0094 , G03H2225/32
Abstract: 本发明提供激光加工装置和激光加工方法。激光加工装置(1)具备激光光源(10)、相位调制型的空间光调制器(20)、驱动部(21)、控制部(22)以及成像光学系统(30)。成像光学系统(30)可以是远心光学系统。包含于驱动部(21)中的存储部(21A)存储分别对应于多个基本加工图案的多个基本全息图，并且存储相当于菲涅耳透镜图案的聚光用全息图。控制部(22)并列配置选自由存储部(21A)存储的多个基本全息图中的2个以上的基本全息图，并将聚光用全息图重叠于该并列配置的各个基本全息图上，从而构成整体全息图，将该构成的整体全息图显示于空间光调制器(20)。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
85
records
(took 0.032 seconds)
