横向半导体器件及制造方法

    公开(公告)号:CN118248739A

    公开(公告)日:2024-06-25

    申请号:CN202410669075.2

    申请日:2024-05-28

    摘要: 本发明涉及半导体领域,提供一种横向半导体器件及制造方法。横向半导体器件包括半导体衬底、阱区、漂移区、源区、漏区、栅极,以及位于漂移区一侧的浮空场板结构;浮空场板结构包括形成于半导体衬底上的级联的多晶硅场板,级联的多晶硅场板中相邻两级的多晶硅场板之间通过层间介质层相连,第一级多晶硅场板与栅极相连,最后一级多晶硅场板与漏极相连。本发明在漂移区侧向增加级联的多晶硅场板结构,通过级联的多晶硅场板将栅极与漏极连接起来,从而调制漂移区表面及内部的电场,使漂移区的电场峰值得到有效降低,击穿电压得到提高,同时衬底辅助耗尽效应得以减弱,漂移区离子掺杂工艺窗口得以扩展,降低了横向半导体器件的制造难度。

    横向半导体器件及制造方法

    公开(公告)号:CN118248739B

    公开(公告)日:2024-10-18

    申请号:CN202410669075.2

    申请日:2024-05-28

    摘要: 本发明涉及半导体领域,提供一种横向半导体器件及制造方法。横向半导体器件包括半导体衬底、阱区、漂移区、源区、漏区、栅极,以及位于漂移区一侧的浮空场板结构;浮空场板结构包括形成于半导体衬底上的级联的多晶硅场板,级联的多晶硅场板中相邻两级的多晶硅场板之间通过层间介质层相连,第一级多晶硅场板与栅极相连,最后一级多晶硅场板与漏极相连。本发明在漂移区侧向增加级联的多晶硅场板结构,通过级联的多晶硅场板将栅极与漏极连接起来,从而调制漂移区表面及内部的电场,使漂移区的电场峰值得到有效降低,击穿电压得到提高,同时衬底辅助耗尽效应得以减弱,漂移区离子掺杂工艺窗口得以扩展,降低了横向半导体器件的制造难度。

    一种高速串行总线数据同步的方法及系统

    公开(公告)号:CN111367849A

    公开(公告)日:2020-07-03

    申请号:CN202010004154.3

    申请日:2020-01-02

    IPC分类号: G06F13/42

    摘要: 本发明提供了一种高速串行总线数据同步的方法,包括:基于FPGA芯片搭建RapidIO高速通讯协议总线;将RapidIO高速通讯协议总线的数据包和同步控制指令通过交换机下发至多个级联设备;所述多个级联设备执行同步控制指令实现时钟同步;系统内多级设备同步采用参数控制延时方式实现设备内部所有终端的同步,同步误差更小,实现了高速串行总线通讯的系统同步,同步控制指令优先级更高,可以实时插入到数据帧中,提高了同步信号的实时性。由外部硬件同步改成内部软件数据总线协议类型同步,减少了系统内各设备内部各个终端的外同步接口,缩减了设备体积以及硬件成本。