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公开(公告)号：CN102321212B
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201110141664.6
申请日：2011-02-25
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08F220/30 , C08F212/14 , C08F222/18 , G03F7/039 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0045 , C08F20/22 , C08F212/14 , C08F220/18 , G03F7/0046 , G03F7/039 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123 , C08F2220/283 , C08F232/08 , C08F2220/382
Abstract: 将一种包括在侧链上具有氟化羧酸鎓盐结构的重复单元的聚合物用于配制化学放大正性抗蚀剂组合物。当该组合物通过平版印刷处理形成正性图案时，酸在抗蚀剂膜中的扩散均匀并且缓慢，以及该图案的LER得到改善。
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公开(公告)号：CN102321212A
公开(公告)日：2012-01-18
申请号：CN201110141664.6
申请日：2011-02-25
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08F220/30 , C08F212/14 , C08F222/18 , G03F7/039 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0045 , C08F20/22 , C08F212/14 , C08F220/18 , G03F7/0046 , G03F7/039 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123 , C08F2220/283 , C08F232/08 , C08F2220/382
Abstract: 将一种包括在侧链上具有氟化羧酸鎓盐结构的重复单元的聚合物用于配制化学放大正性抗蚀剂组合物。当该组合物通过平版印刷处理形成正性图案时，酸在抗蚀剂膜中的扩散均匀并且缓慢，以及该图案的LER得到改善。
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公开(公告)号：CN120059017A
公开(公告)日：2025-05-30
申请号：CN202411710771.X
申请日：2024-11-27
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08F212/14 , G03F7/20 , C08F220/38 , C08F212/32 , C08F220/30 , C08F220/58 , C08F220/20 , C08F220/28 , C08F220/22 , C08F220/18 , C08F220/40 , C08F218/12 , G03F7/004
Abstract: 本发明涉及聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供一种聚合物，使用在化学增幅抗蚀剂组成物中，该化学增幅抗蚀剂组成物于使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度、高对比度，EL、LWR、CDU、DOF等光刻性能优异，而且于微细图案形成时抗图案崩塌、蚀刻耐性也优良。并提供含该聚合物的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种聚合物，含有下式(a)表示的重复单元、及来自含有具有聚合性基团及经碘原子取代的芳香环结构的氟磺酸阴离子的鎓盐化合物且因曝光产生酸的重复单元。
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公开(公告)号：CN119882347A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202411473525.7
申请日：2024-10-22
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供无论为正型或负型皆为高感度且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：基础聚合物，具有被碘原子取代的芳基磺酸阴离子键结于主链的锍盐或錪盐结构。
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公开(公告)号：CN119805857A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202411399214.0
申请日：2024-10-09
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , C07D333/76 , C07C381/12 , C07C25/18 , C07C311/51 , C07C311/04 , C07C311/48 , C07C311/24 , C07C311/29 , G03F7/038 , G03F7/039
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供正型或负型皆高感度，且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是一种抗蚀剂材料，包含：双鎓盐，其含有具有与具有碘原子或溴原子的芳香族基团连接的芳基磺酸阴离子结构及与该具有碘原子或溴原子的芳香族基团经由碳数1以上的连接基团进行键结的磺酰亚胺阴离子结构或磺酰胺阴离子结构的2价阴离子、以及鎓阳离子。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119270589A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202410882572.0
申请日：2024-07-03
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 一种抗蚀材料和图案形成方法。[课题]提供灵敏度高且LWR、CDU得以改善的抗蚀材料和使用其的图案形成方法。[解决手段]一种抗蚀材料，其包含含有重复单元a的基础聚合物，所述重复单元a由取代或非取代的芳基磺酸阴离子和鎓阳离子形成，所述取代或非取代的芳基磺酸阴离子键合于具有包含碘原子或溴原子的基团的聚合物主链。
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公开(公告)号：CN118812766A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202410467831.3
申请日：2024-04-18
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08F220/18 , C07C69/54 , C07C69/76 , C07C69/84 , C07C69/90 , C07C69/92 , C07C381/12 , C07C25/18 , C07C309/73 , C07D333/76 , C08F212/14 , C08F220/22 , G03F7/004 , G03F7/039 , C08F220/38
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料、抗蚀剂组成物、图案形成方法、及单体。本发明的课题为提供超过已知的正型抗蚀剂材料的高感度、高分辨度，且边缘粗糙度、尺寸变异小，曝光后的图案形状良好的抗蚀剂材料，以及提供含有前述抗蚀剂材料的抗蚀剂组成物、图案形成方法、及为前述抗蚀剂材料的原料的单体。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，其特征为：含有含自聚合物主链间隔酯键而键结的有取代或无取代的经碘化的1价芳香族羧酸的锍盐或錪盐的重复单元a。
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公开(公告)号：CN114989381B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202210197586.X
申请日：2022-03-02
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及聚硅氧聚氨基甲酸酯、伸缩性膜、及其形成方法。本发明的课题为提供作为具有优异的伸缩性及强度且膜表面的拒水性亦优异的伸缩性膜的材料的聚硅氧聚氨基甲酸酯、伸缩性膜及伸缩性膜的形成方法。解决该课题的手段为一种聚硅氧聚氨基甲酸酯，其特征为至少在末端具有马来酰亚胺基。
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公开(公告)号：CN118146606A
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202311647024.1
申请日：2023-12-04
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及生物体组成物、生物体电极及生物体电极的制造方法。本发明提供为薄膜且高透明、生物体信号的感度高、生物体适合性优异、轻量、且能够以低成本制造、即使长时间被水弄湿、长期间贴于皮肤，生物体信号的感度仍不会大幅下降，无皮肤痒、红斑、起疹而是舒服的生物体电极组成物、生物体电极及生物体电极的制造方法。一种生物体电极组成物，其特征为含有(A)π共轭系聚合物；(B)导电性聚合物复合体，含有掺杂物聚合物，该掺杂物聚合物含有具有羟基及/或羧基的重复单元a1、以及具有磺酸、氟磺酰亚胺、及N‑羰基氟磺酰胺的重复单元a2，且重均分子量为1,000～500,000的范围；及(C)交联剂。
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公开(公告)号：CN117986229A
公开(公告)日：2024-05-07
申请号：CN202311428632.3
申请日：2023-10-31
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07D333/76 , C07D335/16 , C07D279/20 , C07D279/22 , C07D339/08 , C07D409/12 , C07C69/96 , C07C69/753 , C07C69/76 , C07C69/63 , C07C271/28 , G03F7/20 , G03F7/30 , G03F7/004
Abstract: 本发明涉及锍盐、抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明提供为正型、负型皆是高感度且LWR、CDU有所改善的抗蚀剂材料、及使用此抗蚀剂材料的图案形成方法。下式(1)表示的锍盐、及包含该锍盐的抗蚀剂材料。#imgabs0#
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