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公开(公告)号：CN118112887A
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN202311617357.X
申请日：2023-11-29
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光刻中，抗图案崩塌且极限分辨性优异，又感度、LWR亦经改善的抗蚀剂组成物；以及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明的解决手段为一种抗蚀剂组成物，包含：(A)含有包含具有酸不稳定基团的重复单元的聚合物的基础聚合物、(B)有机溶剂、及(C)下式(1)表示的鎓盐。zq+xq‑(1)式中，Zq+为锍阳离子、錪阳离子或铵阳离子。Xq‑为阴离子。但，将Xq‑作为共轭碱的酸(XqH)，其沸点未满165℃且分子量是150以下。
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公开(公告)号：CN118818895A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202410458885.3
申请日：2024-04-17
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题是提供优于已知的正型抗蚀剂材料的高感度、高分辨度，且边缘粗糙度、尺寸变异小，且曝光后的图案形状良好的抗蚀剂材料，以及使用了前述抗蚀剂材料的抗蚀剂组成物、及图案形成方法。该课题的解决手段是一种抗蚀剂材料，含有：在聚合物主链与羧酸盐之间含有至少1个以上的碘原子的重复单元a，及键结于聚合物主链的磺酸的锍盐或錪盐的重复单元b。
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公开(公告)号：CN116774519A
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202310253950.4
申请日：2023-03-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的目的为提供具有更优于已知的正型抗蚀剂材料的感度及分辨率、溶解对比度，边缘粗糙度、尺寸偏差小，且曝光后的图案形状良好的抗蚀剂材料、及图案形成方法。本发明的解决手段为一种抗蚀剂材料，其特征为含有：(Ia)含有包含羟基或羧基的重复单元(A)的聚合物、(II)具有下式(1)表示的结构的交联剂、(III)具有下式(2)表示的结构的热酸产生剂、(IV)有机溶剂、及(V)会因为活性光线或放射线的照射而分解并产生酸的成分。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN118812364A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202410467762.6
申请日：2024-04-18
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C69/92 , G03F7/004 , C07C69/90 , C07C381/12 , C07C25/18 , C07D333/76
Abstract: 本发明涉及单体、抗蚀剂材料、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题是提供优于已知的正型抗蚀剂材料的高感度、高分辨度，且边缘粗糙度、尺寸变异小，且曝光后的图案形状良好的抗蚀剂材料，以及为前述抗蚀剂材料的原料的单体、含有前述抗蚀剂材料的抗蚀剂组成物、及图案形成方法。该课题的解决手段是一种单体，其特征为：以下述通式(a)‑1M或(a)‑2M表示。#imgabs0#
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116774520A
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202310253954.2
申请日：2023-03-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的目的为提供边缘粗糙度、尺寸偏差小，分辨性优异，曝光后的图案形状良好，且保存稳定性亦良好的抗蚀剂材料、及图案形成方法。本发明的解决手段为一种抗蚀剂材料，其特征为含有：(Ia)含有包含羟基或羧基的重复单元(A)的聚合物、(II)具有下式(1)表示的结构的交联剂、(III)具有下式(2)表示的结构的淬灭剂、(IV)有机溶剂、及(V)会因为活性光线或放射线的照射而分解并产生酸的成分。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN116515035A
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN202310062007.5
申请日：2023-01-20
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08F220/30 , C08F220/18 , C08F220/22 , C08F212/14 , C08F220/38 , G03F7/039 , G03F7/004
Abstract: 本发明提供于高能射线下为高感度、高分辨率、高对比度且能形成图案宽的变异(LWR)及图案的面内均匀性(CDU)小的图案的聚合物、抗蚀剂组成物及图案形成方法。一种聚合物，是因曝光而产生酸，且因此酸的作用而改变对于显影液的溶解性的聚合物，其特征为含有下式(A‑1)表示的重复单元、及下式(B‑1)～(B‑4)中的任一者以上表示的重复单元。式中，M‑为非亲核性相对离子，A+为鎓阳离子，n1为1或2的整数，n2为0～2的整数，n3为0～5的整数，n4为0～2的整数，c为0～3的整数。
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公开(公告)号：CN119828413A
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN202411413611.9
申请日：2024-10-11
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 大友雄太郎
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供边缘粗糙度、尺寸偏差小、分辨度优良、且耐热性良好的抗蚀剂材料、及图案形成方法。本发明的解决手段是一种抗蚀剂材料，含有：包含含有下式(a1)或(a2)表示的反应性基团的重复单元(A)及具有酸分解性基团的重复单元(B)的基础聚合物(P)、具有下式(1)表示的结构的交联剂、热酸产生剂、下式(2)表示的光分解性淬灭剂、及有机溶剂。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN118812766A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202410467831.3
申请日：2024-04-18
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C08F220/18 , C07C69/54 , C07C69/76 , C07C69/84 , C07C69/90 , C07C69/92 , C07C381/12 , C07C25/18 , C07C309/73 , C07D333/76 , C08F212/14 , C08F220/22 , G03F7/004 , G03F7/039 , C08F220/38
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料、抗蚀剂组成物、图案形成方法、及单体。本发明的课题为提供超过已知的正型抗蚀剂材料的高感度、高分辨度，且边缘粗糙度、尺寸变异小，曝光后的图案形状良好的抗蚀剂材料，以及提供含有前述抗蚀剂材料的抗蚀剂组成物、图案形成方法、及为前述抗蚀剂材料的原料的单体。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，其特征为：含有含自聚合物主链间隔酯键而键结的有取代或无取代的经碘化的1价芳香族羧酸的锍盐或錪盐的重复单元a。
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公开(公告)号：CN117539126A
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202310985181.7
申请日：2023-08-07
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供感度良好、边缘粗糙度、尺寸变异小、分辨性优良，进而保存稳定性良好的含有具有錪阳离子的感光性化合物的抗蚀剂组成物、及图案形成方法。一种抗蚀剂组成物，包含(I)下式(A)表示的酸化合物、(II)特定錪盐型光酸产生剂及/或(III)特定錪盐型光分解性淬灭剂、及(IV)对于显影液的溶解速度因酸作用而改变的基础聚合物，或包含(I)下式(A)表示的酸化合物、及(IV')含有特定錪盐型酸产生单元且对于显影液的溶解速度因酸作用而改变的基础聚合物。 式中，R1为氟原子、羟基、或也可以含有杂原子的碳数1～20的烃基。Rf1及Rf2各自独立地为氟原子或三氟甲基。
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