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公开(公告)号：CN110844876B
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN201911136443.2
申请日：2019-11-19
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种石墨烯辅助制备大面积金属纳米颗粒阵列的工艺方法，属于微纳加工领域。本发明在传统工艺的基础上，首先采用表面周期性处理工艺，在衬底101表面制备出一个个纳米柱106，其目的是将金属原子102的注入区域分隔开，转移石墨烯105并退火，退火过程中金属原子102团聚成金属纳米颗粒103。石墨烯105起到了完美的阻挡层作用，阻止金属原子102的蒸发。因此，退火温度可以远高于传统工艺中的退火温度。此外，表面周期性处理使得金属纳米颗粒呈现规则排列，这样能够获得结构排列可调的金属纳米颗粒阵列。同时，制备出的石墨烯被金属纳米颗粒保护，阻隔其与空气的接触，有效保证了金属纳米颗粒的长期性质稳定。
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公开(公告)号：CN110596798B
公开(公告)日：2021-07-09
申请号：CN201910915788.1
申请日：2019-09-25
Applicant: 北京工业大学
IPC: G02B3/00
Abstract: 本发明公开了一种基于苯并环丁烯和氧化硅球的微透镜制备方法，利用SiO2和BCB来作为微透镜的制备材料不仅可以制备出不同球冠大小微透镜还可以制备出不同弧度的微透镜。该微透镜包括衬底、BCB和SiO2微球，用匀胶机将混有SiO2微球的BCB旋涂在衬底上，经加热固化和等离子刻蚀(RIE)在衬底上制备出由BCB和SiO2微球构成的微透镜结构。利用SiO2和BCB来作为微透镜的制备材料不仅可以制备出不同球冠大小微透镜还可以制备出不同弧度的微透镜。
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公开(公告)号：CN110616408A
公开(公告)日：2019-12-27
申请号：CN201910879303.8
申请日：2019-09-18
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 本发明公开了基于二维材料的多层金属纳米结构的制备方法，属于新型纳米结构加工领域。其制备过程主要分为三步：第一步:将超薄AAO模板转移到亲水处理后的衬底上。第二步:利用溅射的方法将金属均匀沉积到AAO模板孔洞中。第三步:用胶带粘掉衬底上的AAO模板并在上面转移一层h-BN，在h-BN上再次转移一层超薄AAO模板。第四步:将衬底放入溅射设备中再次沉积一层金属，并去除掉AAO模板，重复第三、四步工艺进行下一层纳米颗粒沉积。本发明工艺简单、成本较低；工艺重复性强，工艺参数好控制。可以大面积制备具有周期性的多层金属纳米结构阵列。
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公开(公告)号：CN107012443B
公开(公告)日：2019-07-12
申请号：CN201710246595.2
申请日：2017-04-16
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种绝缘衬底图形化直接生长石墨烯的工艺方法，属于石墨烯材料制备领域。绝缘衬底直接生长石墨烯和在此基础上进行的石墨烯图形化生长。通过在绝缘衬底上首先镀上一层铜作为催化剂，然后在铜的催化下石墨烯会生长在镀铜的表面，再保持高温退火使铜挥发，铜挥发后，石墨烯会落在绝缘衬底表面，达到绝缘衬底直接生长石墨烯的目的。之后，在直接生长的基础上，通过光刻工艺使镀的铜具有一定的图形，与之相对应的，在铜上生长出的石墨烯也具有了相同的图形，达到绝缘衬底图形化直接生长石墨烯的目的。本发明通过直接生长的工艺，避免了石墨烯转移工艺中石墨烯的损坏，成本较低，适合大规模批量生产石墨烯。
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公开(公告)号：CN108111145A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：CN201810137925.9
申请日：2018-02-10
Applicant: 北京工业大学
IPC: H03H11/24
Abstract: 本发明涉及一种衰减器，属于信号传输技术领域，尤其涉及一种采用相位相消的方式实现信号衰减的可变衰减器。该衰减器包括差分输入端RFIN1、差分输入端RFIN2、输入缓冲器1、输入缓冲器2，pHEMT管M1，pHEMT管M2，负载电阻RL和射频输出端RFOUT。衰减器在信号传输系统中可以控制传输功率的大小，或作为去耦原件，还可以用于改善阻抗匹配等。本发明设计的衰减器，主要应用于射频微波电路中控制信号的功率。本发明采用相位相消的方式实现信号衰减，具有衰减范围大(43dB以上)，衰减幅度可连续调节，且芯片面积小的优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107611779A
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201710953605.6
申请日：2017-10-13
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 本发明公开了一种VCSEL耦合阵列与表面光学移相器片上集成的光束扫描芯片，属于半导体激光器技术和光束扫描技术的交叉技术领域。本发明通过采用质子注入、光子晶体或腔诱导反波导等技术，实现VCSEL阵列单元间的耦合，阵列各单元发射出功率一致的相干光。利用VCSEL阵列平面结构的特点，通过光刻、溅射、PECVD、ICP、蒸镀等工艺，在VCSEL耦合阵列表面集成透射式光学移相器阵列，从而获得体积小、结构紧凑、集成度高的光束扫描芯片。它解决了传统的光学相控阵光束扫描装置中因激光光源与移相器阵列在空间上分离而导致的体积大、可靠性低、安装复杂等问题，应用前景广阔。
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公开(公告)号：CN105870780A
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201610235021.0
申请日：2016-04-14
Applicant: 北京工业大学
CPC classification number: H01S5/405 , H01S5/34313
Abstract: 本发明公开了一种能够实现光束二维操控的同相耦合VCSEL阵列，传统的机械控制方法限制了VCSEL阵列光束偏转的速度。本发明采用氢离子多次注入方式，并结合淀积表面纳米Au电流扩展层形成新型电极，其顶部P型金属电极设置在出光孔外围周向位置，表面纳米Au电流扩展层均匀布置在P型接触层上的出光孔表面，出光孔与出光孔之间无表面纳米Au电流扩展层，从而形成电隔离区域，使注入到阵列单元的电流不会互相影响，通过调节注入到各单元内的电流，使阵列各个出光单元的相位连续可调，实现阵列单元间高的同相耦合度和较大的二维光束角度调节，实现光束二维方向的连续调节，即使在角度偏转的过程中，也能保持较大的同相耦合效率。
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公开(公告)号：CN105836733A
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201610144523.2
申请日：2016-03-14
Applicant: 北京工业大学
IPC: C01B31/04
CPC classification number: C01P2002/82
Abstract: 一种改善非金属衬底上直接生长的石墨烯质量的方法，属于半导体材料生长领域。首先利用化学气相沉积法在非金属衬底上生长一层石墨烯薄膜，再在石墨烯薄膜上溅射一层薄金属层，将生长有薄金属层的衬底再次进行石墨烯薄膜的CVD生长，生长完成后去除表面石墨烯薄膜与金属层。本发明改善了非金属衬底上直接生长的石墨烯的质量，经过再次催化生长后，石墨烯薄膜的质量和性能均得到了显著提升。
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公开(公告)号：CN105552714A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201610028798.X
申请日：2016-01-15
Applicant: 北京工业大学
CPC classification number: H01S5/125 , H01S5/1231 , H01S5/1237
Abstract: 一种带有DBR光栅结构的852nm窄线宽边发射激光器及其制备方法，属于半导体光电子技术领域。因为边发射激光器谐振腔长度的原因，其不容易直接实现单纵模输出，所以本发明要改进边发射激光器激射激光的单纵模窄线宽特性。通过电子束直写曝光的技术，区域性选择将DBR光栅融入到边发射激光器结构中，并且对含有铝组分的光栅使用氮化硅薄层进行保护。从而激光器本身激射的激光光。通过DBR光栅结构可以实现边发射激光器单纵模窄线宽激射，使得激光光束质量大幅提升，同时能够稳定输出。由此可以达到对铯原子钟良好的控制。
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公开(公告)号：CN103489982B
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201310447624.3
申请日：2013-09-25
Applicant: 北京工业大学
IPC: H01L33/40
Abstract: 一种基于光子晶体-单层石墨烯结构的LED，属于LED技术领域，从上到下依次：二氧化硅保护层、单原子层石墨烯、接触层（可有可无）、LED芯片p-GaN层、LED芯片多量子井发光层、LED芯片n-GaN层、蓝宝石衬底，其中LED芯片p-GaN层为光子晶体结构，保护层覆盖了除了正电极和负电极以外的所有部分。本发明采用将光子晶体和单层石墨烯相结合的结构能够达到极大提高出光效率同时没有使用ITO的目的。
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