激光曝光方法、光致抗蚀剂层加工方法和用于制造图案成形品的方法

    公开(公告)号:CN102016721A

    公开(公告)日:2011-04-13

    申请号:CN200980113981.8

    申请日:2009-03-23

    Inventor: 宇佐美由久

    CPC classification number: G03F7/704 G03F9/7026

    Abstract: 提供了一种用于进行曝光的激光曝光方法,其中使支撑多个物体(工件5)的支撑台(2)、以及在执行基于反射光的聚焦伺服控制的同时照射物体的激光束照射装置(3)彼此相对移动。所述方法包括:控制开始步骤,即,当激光束已经到达物体上的聚焦开始位置(FS)时,开始聚焦伺服控制;控制停止步骤,即,当激光束已经到达物体上的聚焦停止位置(FE)时,停止聚焦伺服控制;以及保持步骤,即,将光学部件(物镜35)的位置保持在预定的位置,保持时间到从物体上的聚焦停止位置(FE)开始的激光束到达下一个物体上的聚焦开始位置(FS)为止。

    用于制造其上以凹坑图案记录信息的介质的方法

    公开(公告)号:CN101785057A

    公开(公告)日:2010-07-21

    申请号:CN200880102843.5

    申请日:2008-05-16

    CPC classification number: G11B7/261 B41M5/24 Y10T428/21

    Abstract: 本发明提供一种在无机物质制成的基板上直接且容易地形成凸凹(凹坑图案)的方法。用于制造其上以凹坑图案记录信息的介质的方法包括以下步骤:在由无机材料制成的基板(11)上形成记录材料层(21),所述记录材料层能够进行热模式热变形;通过向所述记录材料层(21)照射会聚光,形成多个孔(15);以及在所述基板中形成与所述多个孔(15)对应的多个凹坑(16),其中所述多个凹坑(16)是通过使用其中形成所述多个孔的所述记录材料层(21)作为掩模蚀刻而形成的。

    光信息记录介质及信息记录方法

    公开(公告)号:CN1619672A

    公开(公告)日:2005-05-25

    申请号:CN200410085993.3

    申请日:2004-10-27

    Inventor: 宇佐美由久

    CPC classification number: G11B7/0037 G11B7/00736 G11B23/40 G11B23/44

    Abstract: 一种光信息记录介质,是在基板的一面侧具有记录符号信息的符号信息记录层,另一面侧具有记录可视信息、比上述符号信息记录层记录密度更低的可视信息记录层的光信息记录介质,其特征在于将能判断是否许可在该可视信息记录层上记录的文字串或标记,赋予具有上述可视信息记录层的面上。本发明还提供一种在基板的一面侧具有符号信息记录层,在另一面侧具有可视信息记录层的光信息记录介质中,能够仅在所定条件下才许可在可视信息记录层上记录的光信息记录介质以及在该光信息记录介质上的信息记录方法。

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