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公开(公告)号：CN100348773C
公开(公告)日：2007-11-14
申请号：CN01812178.0
申请日：2001-05-22
申请人： 伊佐瓦克有限责任公司
发明人： 乌拉迪齐默尔·夏伊里帕乌 , 米卡拉伊·洛伊丘卡 , 阿里克桑德尔·哈赫洛夫 , 谢尔盖·马雷舍夫
CPC分类号： H01J9/46 , C23C14/22 , C23C14/50 , C23C14/56 , H01J2209/015
摘要： 本发明公开了一种真空模块及其变体，用于在基片上真空沉积多层薄膜涂料。用于向基片例如CRT和平面显示器涂敷涂料的模块系统用来在具有不同尺寸的基片上沉积不同的薄膜。用于向基片涂敷涂料的真空模块包括：带有开口的真空腔，该开口用于布置基片；密封件和用于涂敷涂料的处理装置；阀门，该阀门安装在平行于所述开口的平面内，以便将处理装置和开口分隔开。一处理装置传送机构平行于基片表面往复运动。一模块系统包括几个模块，这些模块具有一共同的抽真空系统和一共同的抽真空控制系统，一共同的用于自动装卸基片的处理装置控制系统。几个模块具有一个共同的操纵器。
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公开(公告)号：CN1617947A
公开(公告)日：2005-05-18
申请号：CN01812178.0
申请日：2001-05-22
申请人： 伊佐瓦克有限责任公司
发明人： 乌拉迪齐默尔·夏伊里帕乌 , 米卡拉伊·洛伊丘卡 , 阿里克桑德尔·哈赫洛夫 , 谢尔盖·马雷舍夫
CPC分类号： H01J9/46 , C23C14/22 , C23C14/50 , C23C14/56 , H01J2209/015
摘要： 本发明公开了一种真空模块及其变体，用于在基片上真空沉积多层薄膜涂料。用于向基片例如CRT和平面显示器涂敷涂料的模块系统用来在具有不同尺寸的基片上沉积不同的薄膜。用于向基片涂敷涂料的真空模块包括：带有开口的真空腔，该开口用于布置基片；密封件和用于涂敷涂料的处理装置；阀门，该阀门安装在安装在平行于所述开口的平面内，以便将处理装置和开口分隔开。一处理装置传送机构平行于基片表面往复运动。一模块系统包括几个模块，这些模块具有一共同的抽真空系统和一共同的抽真空控制系统，一共同的用于自动装卸基片的处理装置控制系统。几个模块具有一个共同的操纵器。
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公开(公告)号：CN206986278U
公开(公告)日：2018-02-09
申请号：CN201720910666.X
申请日：2017-07-25
申请人： 伊佐瓦克有限责任公司
IPC分类号： C23C14/35
摘要： 本实用新型涉及等离子体技术并且旨在将金属、半导体、电介质及其化合物的薄膜的离子-等离子体沉积到固体表面上。技术效果：缩短调节时间，提高调节精度并且简化圆筒型磁控溅射系统的设计。圆筒型磁控溅射系统包括溅射单元，其具有支撑管和安装在支撑管上的磁系统的磁系统。用于将磁控溅射系统紧固到腔室的单元包括旋转驱动轴和具有固定螺钉的固定轴，磁系统的引导部装备有固定轴与支撑管之间的可拆卸连接部。固定轴的一端包括齿膛线而磁系统的引导部的、固定轴与支撑管之间的可拆卸连接部用具有开槽表面的开槽离合器形成为齿轮。开槽离合器设置有夹具和调节标尺，用于测量支撑管的旋转角度和随后将磁系统固定在标准保持位置。
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