制造印制电路板或电路的光刻直接曝光法中的曝光控制

    公开(公告)号:CN116097176A

    公开(公告)日:2023-05-09

    申请号:CN202180053951.3

    申请日:2021-09-15

    Abstract: 本发明涉及一种用于在采用针对光敏涂层中的二维结构的光刻直接曝光法时进行曝光控制的装置以及一种将配准数据转换为直接曝光数据的方法。本发明用以达成在采用针对光敏层中的二维结构的直接曝光法时实现允许独立于目标标记的定义位置对目标标记进行配准的有所改进的曝光控制的目的的解决方案在于,多个用于在所述衬底(2)的预设宽度内形成无间隙的线性扫描区域(23)的近心摄像机以横向于所述衬底(2)的一维运动线性对准的方式布置在配准单元(1)中,其中相邻近心摄像机的像角沿所述线性扫描区域(23)具有重叠区域,可以在所述重叠区域中检测所述相邻摄像机的衬底(2)的冗余图像记录,并且所述计算单元(5)具有在补充性地使用通过对所述衬底表面(21)的距离的三角测量所测定的目标标记的高度位置的情况下根据所述相邻近心摄像机的冗余图像记录计算所述目标标记的位置的构件。

    用于高分辨率电子图案化的无缝线直接成像

    公开(公告)号:CN108351510A

    公开(公告)日:2018-07-31

    申请号:CN201680064283.3

    申请日:2016-11-02

    Abstract: 一种制造对象的方法包括接收CAD文档,所述CAD文档包括用于直接写成于表面上的电路设计数据,所述CAD文档包括欲在所述表面上制作的大量对象的CAD数据;将直接写成机器自动配置成基于所述CAD数据以多次扫描将直接写成数据直接写成在所述表面上,每次扫描均具有比所述表面的宽度小的扫描宽度,所述自动配置步骤包括将欲在所述多次扫描中的每一个中以并排方式写成的所述大量对象的所述直接写成数据排布成处于所述扫描宽度内,由此免除在相邻扫描之间的直接写成数据的缝合;以及操作所述直接写成机器以在所述表面上形成所述大量对象。

    波束形成光学系统、和直接成像系统

    公开(公告)号:CN106886097A

    公开(公告)日:2017-06-23

    申请号:CN201611093983.3

    申请日:2012-08-16

    Abstract: 一种直接成像系统包括:照明单元,包括多个光源,所述多个光源被配置为发射多个波束;光学系统,用于形成要以位置或角度对准的多个波束;声光调制器,被定位为接收以位置或角度之一对准的多个波束,并且当声波在声方向中传播时,相继地对所述多个波束的不同部分进行衍射;以及扫描元件,适于以扫描速度、利用该声光调制器所调制的多个波束来扫描曝光表面,其中将该扫描速度选择为将所述多个波束的不同部分不相干地联合为单一曝光焦斑。

    借助于真空固定物体的设备

    公开(公告)号:CN108885390B

    公开(公告)日:2021-01-26

    申请号:CN201780022829.3

    申请日:2017-03-30

    Abstract: 本发明涉及借助于真空固定物体的设备。本发明的目的是使得能够以精细的增量改变真空台的有效表面积,从而能够可靠地捕获底部区域大小不同的物体。通过借助于真空固定物体的设备实现该目的,在于除了第一真空室(11)之外,在台(1)上布置有第二真空室(12)和第三真空室(13),第三真空室(13)将第一真空室(11)和第二真空室(12)延伸到在x方向上的整个延伸长度,其中第二真空室(12)包括由在x方向上延伸的多个平行的行形成沟槽(15)组成的结构,行形成沟槽(15)通过第一连接通道(22)在y方向上彼此连接,且能够借助于行切换设备(2)相对于第一真空室(11)顺次地释放或关闭,第三真空室(13)包括由在y方向上延伸的多个平行的列形成沟槽(16)组成的结构,列形成沟槽(16)经由第二连接通道(42)在x方向上彼此连接,且能够借助于列切换设备(4)相对于第一真空室(11)顺次释放或关闭,且能够借助于行切换设备(2)以同时分段的方式并根据与第二真空室(12)相对应的行形成沟槽(15)的数目和位置在y方向上顺次释放或关闭第三真空室(13)。

    借由辐射将图案施加在卷绕的连续基材上的装置

    公开(公告)号:CN114586474B

    公开(公告)日:2024-02-27

    申请号:CN202080072252.9

    申请日:2020-10-12

    Abstract: 定。本发明有关于一种借由辐射将图案施加在卷绕的连续基材(3)上的装置。本发明的目的,即提供一种将图案施加在卷绕的连续基材(3)上的新型方案,该方案在连续进行的卷对卷运动中实现图案施加,而不会发生材料滑动且材料变形程度最小,其解决方案为:在加工鼓(2)与解卷卷筒上下跳动卷筒(43),用于沿该加工鼓(2)的至少一半周长的接触区域(36)张紧地导引该连续基材(3),以便无滑动地驱动该连续基材(3);所述上下跳动卷筒(43)适于以反向于该接触区域(36)的动作的恒定的力作用在该加工鼓(2)上对前进的及返回的基材幅面(31;32)进行张紧的导引,以及,定义的反作用力与作用于该上下跳动卷筒(43)的该恒定的力作用之间的平衡可借由(41)之间以及与卷绕卷筒(44)之间设有各别的(56)对比文件JP 2006098719 A,2006.04.13JP 2007102200 A,2007.04.19JP 2015188915 A,2015.11.02US 2003053833 A1,2003.03.20US 2008011225 A1,2008.01.17US 2009268186 A1,2009.10.29US 2010304309 A1,2010.12.02US 4445044 A,1984.04.24US 6607157 B1,2003.08.19WO 2013094286 A1,2013.06.27JP 2003334987 A,2003.11.25JP 2018185519 A,2018.11.22

    用于在曝光衬底的两个表面上的二维结构时操作敏感衬底的翻转装置

    公开(公告)号:CN114488701B

    公开(公告)日:2023-09-01

    申请号:CN202111230868.7

    申请日:2021-10-22

    Abstract: 本发明涉及一种用于在曝光衬底的两个表面上的二维结构时操作敏感衬底的翻转装置。为了在以提高流量的方式在水平衬底导引装置中操作板状或薄膜状衬底时整合翻转过程,并确保衬底表面受到最低程度的机械损伤,本发明提出以下解决方案:翻转装置(1)具有至少两个平行的且沿所述旋转轴(14)的径向错开布置的枢转臂(11),所述枢转臂具有吸嘴(12),以便能够占据所述枢转臂(11)在所述输送轨道(3)的拾取区域(31)中处于所述输送平面上方以及在所述安放区域(32)中处于所述输送平面下方的平行的高度位置,并且所述吸嘴(12)借助可正交于所述输送平面地伸出和缩回的线性致动器(13)可动地安装在所述枢转臂(11)上。

    用于以高生产率曝光板状工件的设备

    公开(公告)号:CN113287066A

    公开(公告)日:2021-08-20

    申请号:CN201980088518.6

    申请日:2019-12-11

    Abstract: 本发明所解决的问题在于提供一种用于加工平板工件(6)的新颖选择,其中,仅利用一个加工单元(4)可实现特别高的生产率和改进的精度。根据本发明解决该问题在于可移动工作台系统(2)包括在共用轨道布置(23)上的两个相同的工作台(21、22),共用轨道布置(23)具有在检测单元(3)和加工单元(4)下方的线性轨道区域,并且因此工作台(21、22)可以完全在检测单元(3)和加工单元(4)下方沿着共用轨道布置(23)在相同的工作台移动方向交替地直线移动,并且工作台(21、22)可以由计算机单元(5)独立地控制。

    借助于真空固定物体的设备

    公开(公告)号:CN108885390A

    公开(公告)日:2018-11-23

    申请号:CN201780022829.3

    申请日:2017-03-30

    Abstract: 本发明涉及借助于真空固定物体的设备。本发明的目的是使得能够以精细的增量改变真空台的有效表面积,从而能够可靠地捕获底部区域大小不同的物体。通过借助于真空固定物体的设备实现该目的,在于除了第一真空室(11)之外,在台(1)上布置有第二真空室(12)和第三真空室(13),第三真空室(13)将第一真空室(11)和第二真空室(12)延伸到在x方向上的整个延伸长度,其中第二真空室(12)包括由在x方向上延伸的多个平行的行形成沟槽(15)组成的结构,行形成沟槽(15)通过第一连接通道(22)在y方向上彼此连接,且能够借助于行切换设备(2)相对于第一真空室(11)顺次地释放或关闭,第三真空室(13)包括由在y方向上延伸的多个平行的列形成沟槽(16)组成的结构,列形成沟槽(16)经由第二连接通道(42)在x方向上彼此连接,且能够借助于列切换设备(4)相对于第一真空室(11)顺次释放或关闭,且能够借助于行切换设备(2)以同时分段的方式并根据与第二真空室(12)相对应的行形成沟槽(15)的数目和位置在y方向上顺次释放或关闭第三真空室(13)。

    通过光刻胶生产三维结构
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113589653A

    公开(公告)日:2021-11-02

    申请号:CN202110478242.1

    申请日:2021-04-30

    Abstract: 本发明涉及一种用于通过光刻胶生产三维结构,具体地用于产生处于微米到毫米范围内的台阶式结构的方法。寻找一种实现微机械和高性能电子结构的允许台阶式结构的基本上自由成型和高产出量生产的微结构的新的可能性的目的根据本发明通过以下得以实现:用第一光刻胶涂覆(3)铜包覆的衬底(1)至少一次,以产生限定高度的至少一个结构台阶,并且用第二光刻胶涂覆(3)所述第一光刻胶至少一次,以产生限定高度的至少一个另外的结构台阶,其中所述第一光刻胶和所述第二光刻胶具有不同光敏性和透射特性,通过用不同波长和辐射剂量进行曝光(4)并且在显影(5)之后,所述不同光敏性和透射特性使至少所述第一光刻胶和所述第二光刻胶的结构形成性区域(35;36)得以产生。所述结构形成性区域(35;36)彼此至少部分地重叠并且形成台阶式三维结构。

    用于以高生产率曝光板状工件的设备

    公开(公告)号:CN113287066B

    公开(公告)日:2025-02-25

    申请号:CN201980088518.6

    申请日:2019-12-11

    Abstract: 本发明所解决的问题在于提供一种用于加工平板工件(6)的新颖选择,其中,仅利用一个加工单元(4)可实现特别高的生产率和改进的精度。根据本发明解决该问题在于可移动工作台系统(2)包括在共用轨道布置(23)上的两个相同的工作台(21、22),共用轨道布置(23)具有在检测单元(3)和加工单元(4)下方的线性轨道区域,并且因此工作台(21、22)可以完全在检测单元(3)和加工单元(4)下方沿着共用轨道布置(23)在相同的工作台移动方向交替地直线移动,并且工作台(21、22)可以由计算机单元(5)独立地控制。

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