公开(公告)号：CN119673752A

公开(公告)日：2025-03-21

申请号：CN202411654933.2

申请日：2024-11-19

Applicant: 万华化学集团电子材料有限公司 ,  万华化学集团股份有限公司

Inventor： 张琪 ,  王莎 ,  王壹帆 ,  王凯 ,  周霖 ,  潘凤利 ,  李博 ,  冯帆 ,  段一菲 ,  胡晓丹

IPC: H01L21/02 ,  B08B3/02 ,  B08B3/08 ,  B08B3/14 ,  B08B1/12 ,  B08B1/34 ,  B08B11/00

Abstract: 本发明提供了一种大尺寸硅片最终抛光后清洗工艺，该工艺过程包含表面保护、预处理、刷洗、旋转喷淋和干燥五个加工过程，其步骤如下：1)表面保护，经过抛光加工的硅片首先使用清洗液1进行处理，改善硅片表面亲水性；2)预处理，利用清洗液2对硅片表面进行喷淋处理；3)刷洗，利用清洗液3配合刷子对硅片进行刷洗，去除硅片表面附着的颗粒；4)旋转喷淋，利用清洗液4配合硅片旋转对硅片进行清洗，并用臭氧水和纯水冲洗；5)干燥，利用甩干配合氮气吹扫的方式对硅片进行干燥。利用本发明的清洗工艺，最终得到的抛光片具有较高的表面洁净度，且清洗成本较低，环境污染小。

公开(公告)号：CN119596640A

公开(公告)日：2025-03-11

申请号：CN202411689587.1

申请日：2024-11-25

Applicant: 万华化学集团股份有限公司

Inventor： 张萌鑫 ,  韩翠婷 ,  么传旭 ,  陈彦平 ,  陈冶 ,  舒国玉 ,  王莎 ,  臧圣彪 ,  王海梅

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039

Abstract: 本发明涉及一种高断裂伸长率的正性光敏聚酰亚胺组合物及其应用，所述光敏聚酰亚胺组合物包括聚酰胺酸树脂、重氮萘醌磺酸酯、热交联剂、表面活性剂、柔韧性助剂和溶剂。本发明的正性光敏聚酰亚胺组合物使用的柔韧性助剂一方面在不影响光敏聚酰亚胺薄膜的拉伸强度前提下可以显著提高其断裂伸长率，增加其柔韧耐弯折的力学性能，另一方面改善光敏聚酰亚胺组合物在施胶后溶剂从薄膜内部挥发逸出的均一性，提升光敏聚酰亚胺固化后的平坦度；此外还有一定的降低光敏聚酰亚胺固化温度的效果。

公开(公告)号：CN119799211A

公开(公告)日：2025-04-11

申请号：CN202510001537.8

申请日：2025-01-02

Applicant: 万华化学集团股份有限公司

Inventor： 王莎 ,  臧圣彪 ,  李燕杰 ,  王海梅

IPC: C09J133/00 ,  C09J11/06 ,  G02B5/30

Abstract: 一种偏光片用压敏胶及其制备方法和应用，该压敏胶，其配方中包含以下质量百分含量的组分：丙烯酸树脂90～99.5％；固化剂0.01～1％；催化剂0.001～1％；硅烷偶联剂0.02～0.8％；抗静电剂0.05～3％。该压敏胶在高温下具有抗收缩变形能力。将其用于制备偏光片，固化过程中通过控制各参数之间的关系，使压敏胶高温下的收缩值c在5％以内，能够减少由于高温收缩产生的气泡现象。