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公开(公告)号：CN113811633A
公开(公告)日：2021-12-17
申请号：CN202080035149.7
申请日：2020-07-30
Applicant: 三井金属矿业株式会社
Abstract: 本发明提供在溅射处理时可抑制背板的构成材料混入到成膜的薄膜中的分割溅射靶。[解决手段]所述分割溅射靶具备：基体；相邻的靶构件彼此空开间隙地被配置于上述基体的表面上的多个靶构件；设置于上述基体的表面与上述多个靶构件之间的接合材；和保护构件，其按照下述方式被设置于上述基体的表面上：至少覆盖彼此相邻的靶构件的间隙，以使上述基体表面不会从上述间隙被溅射，其中，上述保护构件具有：沿第1方向延伸的第1部分；沿与上述第1方向交叉的方向延伸的第2部分；和连接上述第1部分及上述第2部分的第3部分。
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公开(公告)号：CN110770191A
公开(公告)日：2020-02-07
申请号：CN201880041330.1
申请日：2018-08-29
Applicant: 三井金属矿业株式会社
IPC: C04B35/453 , C23C14/34 , H01L21/203
Abstract: 实施方式的一个方案的氧化物烧结体是以满足以下的式(1)～(3)的比率含有铟、镓和锌的氧化物烧结体，其由单相的晶体相构成，晶体相的平均粒径为15.0μm以下。0.01≤In/(In+Ga+Zn)＜0.20(1)；0.10≤Ga/(In+Ga+Zn)≤0.49(2)；0.50≤Zn/(In+Ga+Zn)≤0.89(3)。
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公开(公告)号：CN118159686A
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202380014136.5
申请日：2023-01-16
Applicant: 三井金属矿业株式会社
IPC: C23C14/34 , C04B35/01 , C04B35/453
Abstract: 本发明的溅射靶为将多个溅射靶材利用接合材料接合于基材而形成的溅射靶，所述溅射靶材由包含铟(In)元素、锌(Zn)元素及添加元素(X)的氧化物制成，添加元素(X)包含选自钽(Ta)及铌(Nb)中的至少1种元素，各元素的原子比满足规定的关系式，所述溅射靶具有配置在形成于所述多个溅射靶材间的间隙中的基材保护构件。
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公开(公告)号：CN105917022A
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201580004891.0
申请日：2015-05-20
Applicant: 三井金属矿业株式会社
IPC: C23C14/34 , B24B5/22 , C04B35/00 , C04B35/453 , C04B41/91 , H01L21/28 , H01L21/285
CPC classification number: B24B5/22 , C04B35/00 , C04B35/453 , C04B41/91 , C23C14/34 , H01L21/28 , H01L21/285
Abstract: 本发明涉及的溅射靶用靶材的制造方法包括：在全长为500mm以上的筒状陶瓷的中空部中，将三个以上的支承爪插入至该筒状陶瓷的全长的10％以上的深度的工序；使三个以上的支承爪分别与筒状陶瓷的内周面抵接，来支承筒状陶瓷的工序；以及使由三个以上的支承爪支承的筒状陶瓷沿筒状陶瓷的周向旋转，来加工筒状陶瓷的外周面的工序。三个以上的支承爪由硬质橡胶包覆。
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公开(公告)号：CN114630921B
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202080076435.8
申请日：2020-08-06
Applicant: 三井金属矿业株式会社
IPC: C23C14/34
Abstract: 本发明涉及由层叠结构构成的间隙配置部件，提供不易因加热而发生层间剥离的新型的间隙配置部件。本发明的间隙配置部件的特征在于，其是在溅射靶的基材(简称为“基材”)的表面侧配置多个靶部件时，沿着相邻的靶部件之间的间隙、介于上述靶部件与基材之间的间隙配置部件，其中，上述间隙配置部件形成在厚度方向上层叠三层以上而成的多层结构，在靶部件侧的层(也称为“表面层”)与基材侧的层(也称为“背面层”)之间具有中间层，构成上述中间层的材料的线膨胀系数在构成上述表面层的材料的线膨胀系数与构成上述背面层的材料的线膨胀系数之间的范围内。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107208258A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201580074869.3
申请日：2015-12-21
Applicant: 三井金属矿业株式会社
Abstract: 本发明课题在于抑制圆筒形陶瓷的外周面损伤或破裂的产生。为了解决该课题，一种具体实施方式的加工辅助具(31、131)具备旋转体(34、134)。旋转体(34、134)随着圆筒形陶瓷(10)的旋转而旋转。旋转体(34、134)的旋转轴方向的长度为15mm以上，并且旋转体(34、134)的至少外周部(39、139)的材质，为洛氏硬度80以上125以下的树脂、或是橡胶硬度80以上95以下的橡胶。
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公开(公告)号：CN105308002A
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201580000974.2
申请日：2015-01-30
Applicant: 三井金属矿业株式会社
CPC classification number: C23C14/3414 , C04B35/01 , C04B35/62695 , C04B2235/3286 , C04B2235/3293 , C04B2235/5409 , C04B2235/604 , C04B2235/6562 , C04B2235/6565 , C04B2235/6585 , C04B2235/77 , C04B2235/786 , C04B2235/85 , C23C14/086
Abstract: 本发明涉及一种ITO烧结体以及由该ITO烧结体组成的ITO溅射靶材，其中，所述ITO烧结体为，Sn的含量以SnO2量换算为质量百分比2.5～10.0％，并具有In2O3母相与存在于该In2O3母相的晶粒边界处的In4Sn3O12相，并且相对密度为98.0％以上，所述In2O3母相的平均粒径为17μm以下，该ITO烧结体的截面上的所述In4Sn3O12相的面积率为0.4％以上。本发明的ITO烧结体在加工工序中不容易产生裂纹或变形等。本发明的ITO溅射靶材在与基材接合的接合工序中不容易产生裂纹或变形等。因此，本发明的ITO烧结体以及ITO溅射靶材能够提升制造成品率。
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公开(公告)号：CN114901857B
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202080090588.8
申请日：2020-09-01
Applicant: 三井金属矿业株式会社
Inventor： 寺村享祐
Abstract: 为了在具备介由间隙相邻的靶构件的厚度相互不同的构成的溅射靶中，能够防止基材的构成材料混入到薄膜中。提出了一种溅射靶，其具备：多个靶构件、具有阶梯差的基材、和设置于靶构件与基材之间的保护构件，其中，配置于具有阶梯差的基材的阶梯差部分处的靶构件的厚度相互不同，厚度相互不同的靶构件之中的厚度较小的靶构件的端部具有比基材的阶梯差部突出的部分(将该突出的部分称为“突出部”)。
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公开(公告)号：CN114901857A
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN202080090588.8
申请日：2020-09-01
Applicant: 三井金属矿业株式会社
Inventor： 寺村享祐
Abstract: 为了在具备介由间隙相邻的靶构件的厚度相互不同的构成的溅射靶中，能够防止基材的构成材料混入到薄膜中。提出了一种溅射靶，其具备：多个靶构件、具有阶梯差的基材、和设置于靶构件与基材之间的保护构件，其中，配置于具有阶梯差的基材的阶梯差部分处的靶构件的厚度相互不同，厚度相互不同的靶构件之中的厚度较小的靶构件的端部具有比基材的阶梯差部突出的部分(将该突出的部分称为“突出部”)。
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公开(公告)号：CN114630921A
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN202080076435.8
申请日：2020-08-06
Applicant: 三井金属矿业株式会社
IPC: C23C14/34
Abstract: 本发明涉及由层叠结构构成的间隙配置部件，提供不易因加热而发生层间剥离的新型的间隙配置部件。本发明的间隙配置部件的特征在于，其是在溅射靶的基材(简称为“基材”)的表面侧配置多个靶部件时，沿着相邻的靶部件之间的间隙、介于上述靶部件与基材之间的间隙配置部件，其中，上述间隙配置部件形成在厚度方向上层叠三层以上而成的多层结构，在靶部件侧的层(也称为“表面层”)与基材侧的层(也称为“背面层”)之间具有中间层，构成上述中间层的材料的线膨胀系数在构成上述表面层的材料的线膨胀系数与构成上述背面层的材料的线膨胀系数之间的范围内。
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