掩模框架组件、沉积装置及有机发光显示装置的制造方法

    公开(公告)号:CN106158697B

    公开(公告)日:2020-07-28

    申请号:CN201510194081.8

    申请日:2015-04-22

    发明人: 郑茶姬

    IPC分类号: H01L21/67 H01L51/56

    摘要: 本发明涉及掩模框架组件、沉积装置及有机发光显示装置的制造方法。本发明的一实施例的掩模框架组件包括:框架;和多个掩模,用框架支撑多个掩模的两端部,各掩模包括:主体部,用框架支撑主体部的外围区域;和图案部,沿各掩模的长度方向彼此相隔地配置且包括使沉积物质通过的多个图案孔和形成在各图案孔之间的肋,主体部包括阶梯部,该阶梯部沿图案部的两侧面中的至少一侧面延伸形成且彼此相隔地配置,并且凹陷形成于主体部的第一表面和第二表面中的至少一表面上,阶梯部通过以肋的重心为基准对主体部的第一表面和第二表面中的至少一表面进行蚀刻而形成,从重心至阶梯部的第三表面为止的厚度和从重心至阶梯部的第四表面为止的厚度基本上相等。

    显示面板和用于制造该显示面板的方法

    公开(公告)号:CN117642011A

    公开(公告)日:2024-03-01

    申请号:CN202311064091.0

    申请日:2023-08-22

    发明人: 郑茶姬 李德重

    摘要: 提供了一种显示面板和用于制造该显示面板的方法。所述显示面板包括在第一方向上彼此相邻的第一单元像素和第二单元像素。第一单元像素包括:第一光接收器件;第1‑1发光器件至第1‑4发光器件,在第一斜线方向和第二斜线方向上设置;第1‑5发光器件和第1‑6发光器件,在第一方向上设置;以及第1‑7发光器件和第1‑8发光器件,自第一光接收器件在第二方向上设置。第二单元像素包括:第二光接收器件;第2‑1发光器件至第2‑4发光器件,在第一斜线方向和第二斜线方向上设置;第2‑5发光器件和第2‑6发光器件,在第二方向上设置;以及第2‑7发光器件和第2‑8发光器件,自第二光接收器件在第一方向上设置。

    显示装置
    4.
    发明公开
    显示装置 审中-公开

    公开(公告)号:CN116471889A

    公开(公告)日:2023-07-21

    申请号:CN202310071680.5

    申请日:2023-01-13

    IPC分类号: H10K59/35 H10K59/38 H10K59/60

    摘要: 本发明提供显示装置。显示装置被区分为沿第一方向彼此相邻的第一单位像素和第二单位像素,第一单位像素和第二单位像素中的每一个包括:第一组,布置于第一行;以及第二组,布置于沿与第一方向垂直的第二方向与第一行相隔的第二行,第一组包括:第一发光区域,发出第一光;以及第二发光区域,沿第一方向与第一发光区域相隔第一间距而布置,并且发出第二光,第二组包括:受光区域;以及第三发光区域和第四发光区域,将受光区域置于彼此之间且沿第一方向相隔第二间距而布置,并且分别发出第三光,其中,第一单位像素的第四发光区域和第二单位像素的第三发光区域沿第一方向相隔25μm以上且100μm以下而布置,因此能够简化形成发光区域和受光区域的工艺。

    显示装置
    5.
    发明公开
    显示装置 审中-公开

    公开(公告)号:CN112002729A

    公开(公告)日:2020-11-27

    申请号:CN202010455062.7

    申请日:2020-05-26

    发明人: 黄圭焕 郑茶姬

    IPC分类号: H01L27/32

    摘要: 提供了一种显示装置。所述显示装置包括:基底;第一像素单元,设置在基底之上并且包括发射不同颜色的光的至少两个像素区域;第二像素单元,邻近第一像素单元并且包括发射不同颜色的光的至少两个像素区域;第一对电极,设置在与第一像素单元对应的区域中;以及第二对电极,设置在与第二像素单元对应的区域中,其中,第一像素单元包括彼此邻近的第一像素区域和第二像素区域,第二像素单元包括彼此邻近的第三像素区域和第四像素区域,并且第一像素区域与第二像素区域之间的第一距离比第三像素区域与第一像素区域之间的第二距离小。

    掩模框架组件、沉积装置及有机发光显示装置的制造方法

    公开(公告)号:CN106158697A

    公开(公告)日:2016-11-23

    申请号:CN201510194081.8

    申请日:2015-04-22

    发明人: 郑茶姬

    IPC分类号: H01L21/67 H01L51/56

    摘要: 本发明涉及掩模框架组件、沉积装置及有机发光显示装置的制造方法。本发明的一实施例的掩模框架组件包括:框架;和多个掩模,用框架支撑多个掩模的两端部,各掩模包括:主体部,用框架支撑主体部的外围区域;和图案部,沿各掩模的长度方向彼此相隔地配置且包括使沉积物质通过的多个图案孔和形成在各图案孔之间的肋,主体部包括阶梯部,该阶梯部沿图案部的两侧面中的至少一侧面延伸形成且彼此相隔地配置,并且凹陷形成于主体部的第一表面和第二表面中的至少一表面上,阶梯部通过以肋的重心为基准对主体部的第一表面和第二表面中的至少一表面进行蚀刻而形成,从重心至阶梯部的第三表面为止的厚度和从重心至阶梯部的第四表面为止的厚度基本上相等。

    掩模组件
    9.
    发明公开
    掩模组件 审中-实审

    公开(公告)号:CN113718196A

    公开(公告)日:2021-11-30

    申请号:CN202110569390.4

    申请日:2021-05-25

    摘要: 提供一种掩模组件。根据一实施例的掩模组件包括:掩模框架,包括框架开口部;以及分割掩模,结合于掩模框架,包括与框架开口部重叠的多个沉积图案部,并且沿第一方向延伸,其中,多个沉积图案部中的每一个包括:第一开口区域,包括具有第一宽度的第一开口部;以及第二开口区域,包括具有比第一宽度小的第二宽度的第二开口部,其中,分割掩模在第一开口区域具有第一厚度并在第二开口区域具有比第一厚度小的第二厚度,第二厚度大于第一厚度乘以第二宽度与第一宽度的比率的值。