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公开(公告)号：CN109097774B
公开(公告)日：2022-07-05
申请号：CN201810631619.0
申请日：2018-06-19
摘要： 提供蚀刻剂组合物、以及使用其制造金属图案和薄膜晶体管基板的方法。所述蚀刻剂组合物包括过硫酸盐、氟化物、基于四个氮的环状化合物、基于一个氮的环状化合物、含硫(S)原子的基于三个氮的环状化合物、和水，和所述蚀刻剂组合物可通过蚀刻包括铜和钛的金属膜而用于制造金属图案，或者可用于制造薄膜晶体管基板。
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公开(公告)号：CN108018558B
公开(公告)日：2022-01-07
申请号：CN201711043223.6
申请日：2017-10-31
摘要： 本发明的一实施例提供一种蚀刻液组合物以及有机发光显示装置的制造方法，所述蚀刻液组合物相对于总重量包括：磷酸，50至70重量％；硝酸，0.5至5重量％；氯化物，0.1至1重量％；磺酸化合物，0.5至5重量％；以及水，20至40重量％。
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公开(公告)号：CN109097774A
公开(公告)日：2018-12-28
申请号：CN201810631619.0
申请日：2018-06-19
摘要： 提供蚀刻剂组合物、以及使用其制造金属图案和薄膜晶体管基板的方法。所述蚀刻剂组合物包括过硫酸盐、氟化物、基于四个氮的环状化合物、基于一个氮的环状化合物、含硫(S)原子的基于三个氮的环状化合物、和水，和所述蚀刻剂组合物可通过蚀刻包括铜和钛的金属膜而用于制造金属图案，或者可用于制造薄膜晶体管基板。
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公开(公告)号：CN105734570A
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201510994298.7
申请日：2015-12-25
IPC分类号： C23F1/18 , H01L21/768
摘要： 本文公开了蚀刻剂组合物，其包含：10重量％至20重量％的过硫酸盐；0.1重量％至10重量％的磷酸(H3PO4)或亚磷酸(H3PO3)；0.1重量％至2重量％的基于氮的环状化合物；0.1重量％至5重量％的磺酸化合物；0.1重量％至2重量％的铜腐蚀抑制剂；0.1重量％至2重量％的氟化合物；和使所有成份的总重量为100重量％的余量水。本文还公开了使用该蚀刻剂组合物制造金属接线的方法。
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公开(公告)号：CN109423648A
公开(公告)日：2019-03-05
申请号：CN201811019029.9
申请日：2018-09-03
IPC分类号： C23F1/18 , C23F1/26 , C23F1/02 , H01L21/306
摘要： 提供了蚀刻剂组合物，包含10wt％至20wt％的过氧化氢、0.1wt％至2wt％的基于唑的化合物、0.1wt％至10wt％的无机酸化合物、0.1wt％至5wt％的水面稳定剂、0.01wt％至0.1wt％的氟化物、0.1wt％至10wt％的基于硫酸盐的化合物以及以使得所述蚀刻剂组合物的总重量为100wt％的量包含的水。根据本发明构思的实施方案的蚀刻剂组合物可以用于蚀刻含铜和钼-钛合金的金属膜以形成金属图案，或者用于制造薄膜晶体管衬底。
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公开(公告)号：CN108018558A
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：CN201711043223.6
申请日：2017-10-31
CPC分类号： C23F1/20 , C09K13/04 , C09K13/06 , H01L51/5206 , H01L51/56
摘要： 本发明的一实施例提供一种蚀刻液组合物以及有机发光显示装置的制造方法，所述蚀刻液组合物相对于总重量包括：磷酸，50至70重量％；硝酸，0.5至5重量％；氯化物，0.1至1重量％；磺酸化合物，0.5至5重量％；以及水，20至40重量％。
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公开(公告)号：CN109423648B
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN201811019029.9
申请日：2018-09-03
IPC分类号： C23F1/18 , C23F1/26 , C23F1/02 , H01L21/306
摘要： 提供了蚀刻剂组合物，包含10wt％至20wt％的过氧化氢、0.1wt％至2wt％的基于唑的化合物、0.1wt％至10wt％的无机酸化合物、0.1wt％至5wt％的水面稳定剂、0.01wt％至0.1wt％的氟化物、0.1wt％至10wt％的基于硫酸盐的化合物以及以使得所述蚀刻剂组合物的总重量为100wt％的量包含的水。根据本发明构思的实施方案的蚀刻剂组合物可以用于蚀刻含铜和钼‑钛合金的金属膜以形成金属图案，或者用于制造薄膜晶体管衬底。
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公开(公告)号：CN111136575B
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN201911058079.2
申请日：2019-11-01
申请人： 三星显示有限公司
摘要： 提供了一种基底支撑装置和使用其抛光基底的方法。所述基底支撑装置可以包括设置在框架中的多孔吸盘、设置在多孔吸盘上的吸附垫以及设置在多孔吸盘与吸附垫之间的粘合剂层。吸附垫可以包括弹性层和与弹性层结合的多孔层。粘合剂层、弹性层和多孔层中的每个可以包括分别在厚度方向上延伸的贯穿部分。基于Asker C硬度标度，吸附垫可以具有100或更小的硬度值。
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公开(公告)号：CN111136575A
公开(公告)日：2020-05-12
申请号：CN201911058079.2
申请日：2019-11-01
申请人： 三星显示有限公司
摘要： 提供了一种基底支撑装置和使用其抛光基底的方法。所述基底支撑装置可以包括设置在框架中的多孔吸盘、设置在多孔吸盘上的吸附垫以及设置在多孔吸盘与吸附垫之间的粘合剂层。吸附垫可以包括弹性层和与弹性层结合的多孔层。粘合剂层、弹性层和多孔层中的每个可以包括分别在厚度方向上延伸的贯穿部分。基于Asker C硬度标度，吸附垫可以具有100或更小的硬度值。
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