公开(公告)号：CN117350937A

公开(公告)日：2024-01-05

申请号：CN202310763496.7

申请日：2023-06-27

申请人： 三星电子株式会社

发明人： 姜旼秀 ,  金壮勋 ,  郑宇陈

IPC分类号： G06T7/00 ,  G06T7/13 ,  G06T5/40

摘要： 一种图像处理系统，包括：输入接口，其被配置为接收第一方向图像和第二方向图像，第一方向图像对应于半导体装置的在第一方向上的视图，第二方向图像对应于半导体装置的在产生第一方向图像的第一高度处与第一方向交叉的第二方向上的视图；处理器，其被配置为执行基于第一方向图像检测边缘的边缘检测操作，并且对第一方向图像执行图像二值化操作；以及学习装置，其被配置为通过机器学习比较基于图像二值化操作获得的第一线宽与基于第二方向图像获得的第二线宽，并且学习使第一线宽和第二线宽之间的相关性最大化的图像二值化操作的条件。还提供了一种图像处理方法。

公开(公告)号：CN117812910A

公开(公告)日：2024-04-02

申请号：CN202311243233.X

申请日：2023-09-25

申请人： 三星电子株式会社

发明人： 金壮勋 ,  尹详皓 ,  黄灿

IPC分类号： H10B12/00

摘要： 一种制造半导体器件的方法，通过在基板的不同区域上分别形成以不同间隔设置的多个线图案并对多个线图案应用双重图案化工艺，即使没有在不同区域中的任何一个上额外执行曝光工艺，也可以实现期望的掩模图案。这种方法可以提高半导体器件的产品可靠性和制造经济可行性。

公开(公告)号：CN117991582A

公开(公告)日：2024-05-07

申请号：CN202311458657.8

申请日：2023-11-03

申请人： 三星电子株式会社

发明人： 宋玟承 ,  金壮勋 ,  尹详皓 ,  黄灿

IPC分类号： G03F1/70 ,  G03F1/22

摘要： 一种制造极紫外掩模的方法，包括：准备初步布局；通过使用经由使用初步布局而形成的多个初步间隔物图案来形成多个初步目标图案；评估所述多个初步目标图案之中的异常目标图案的存在或不存在；当所述多个初步目标图案包括异常目标图案时，通过修改初步布局来准备配置为形成多个间隔物图案的布局；以及用所述布局制造极紫外掩模以通过使用所述多个间隔物图案形成多个目标图案，其中，所述多个初步间隔物图案在一个方向上延伸。