插入绝缘层的方法及制造半导体器件的方法

    公开(公告)号:CN105914129B

    公开(公告)日:2020-12-11

    申请号:CN201610098970.9

    申请日:2016-02-23

    IPC分类号: H01L21/02 H01L21/04

    摘要: 一种插入绝缘层的方法包括:在金属层上生长石墨烯层;通过在第一压力和第一温度下加热第一材料而在金属层和石墨烯层之间插入第一材料;以及通过在不同于第一压力的第二压力和不同于第一温度的第二温度下加热第二材料而在金属层和石墨烯层之间插入第二材料。因此,第一材料和第二材料彼此化学地键合以形成绝缘层,该绝缘层可以在金属层和石墨烯层之间。

    插入绝缘层的方法及制造半导体器件的方法

    公开(公告)号:CN105914129A

    公开(公告)日:2016-08-31

    申请号:CN201610098970.9

    申请日:2016-02-23

    IPC分类号: H01L21/02 H01L21/04

    摘要: 一种插入绝缘层的方法包括:在金属层上生长石墨烯层;通过在第一压力和第一温度下加热第一材料而在金属层和石墨烯层之间插入第一材料;以及通过在不同于第一压力的第二压力和不同于第一温度的第二温度下加热第二材料而在金属层和石墨烯层之间插入第二材料。因此,第一材料和第二材料彼此化学地键合以形成绝缘层,该绝缘层可以在金属层和石墨烯层之间。

    石墨烯层及其形成方法以及器件及制造该器件的方法

    公开(公告)号:CN105575769A

    公开(公告)日:2016-05-11

    申请号:CN201510717694.5

    申请日:2015-10-29

    发明人: 金孝媛 李载昊

    摘要: 提供了石墨烯层、形成该石墨烯层的方法、包括该石墨烯层的器件以及制造该器件的方法。形成石墨烯层的方法可以包括在第一温度下使用第一源气体形成第一石墨烯以及在第二温度下使用第二源气体形成第二石墨烯。第一石墨烯和第二石墨烯中的其中之一可以是P型石墨烯,第一石墨烯和第二石墨烯中的另一个可以是N型石墨烯。第一石墨烯和第二石墨烯共同形成P-N结。