形成掺杂区的方法、太阳能电池及其制造方法

    公开(公告)号:CN102760791A

    公开(公告)日:2012-10-31

    申请号:CN201210101847.X

    申请日:2012-04-09

    CPC classification number: H01L31/0682 Y02E10/547

    Abstract: 本发明公开了一种在太阳能电池中形成掺杂区的方法、一种太阳能电池及其制造方法。在太阳能电池中形成掺杂区的方法包括:制备基底的第一表面和第二表面;在第一表面的一部分中形成掺杂有第一掺杂剂的第一掺杂区;在第一表面上形成氧化硅层,氧化硅层包括第一氧化硅层和第二氧化硅层,第一氧化硅层位于第一掺杂区上且具有第一厚度,第二氧化硅层位于第一表面的未被第一掺杂剂掺杂的部分上并且具有比第一厚度小的第二厚度;从第一表面的外部向第一氧化硅层和第二氧化硅层中注入第二掺杂剂;通过对第一氧化硅层、第二氧化硅层和基底执行热处理形成与第一掺杂区相邻的第二掺杂区。

    形成掺杂区的方法、太阳能电池及其制造方法

    公开(公告)号:CN102760791B

    公开(公告)日:2016-06-08

    申请号:CN201210101847.X

    申请日:2012-04-09

    CPC classification number: H01L31/0682 Y02E10/547

    Abstract: 本发明公开了一种在太阳能电池中形成掺杂区的方法、一种太阳能电池及其制造方法。在太阳能电池中形成掺杂区的方法包括:制备基底的第一表面和第二表面;在第一表面的一部分中形成掺杂有第一掺杂剂的第一掺杂区;在第一表面上形成氧化硅层,氧化硅层包括第一氧化硅层和第二氧化硅层,第一氧化硅层位于第一掺杂区上且具有第一厚度,第二氧化硅层位于第一表面的未被第一掺杂剂掺杂的部分上并且具有比第一厚度小的第二厚度;从第一表面的外部向第一氧化硅层和第二氧化硅层中注入第二掺杂剂;通过对第一氧化硅层、第二氧化硅层和基底执行热处理形成与第一掺杂区相邻的第二掺杂区。

    太阳能电池及其制造方法

    公开(公告)号:CN103296136A

    公开(公告)日:2013-09-11

    申请号:CN201310004515.4

    申请日:2013-01-07

    Abstract: 本发明公开了一种太阳能电池及其制造方法。制造太阳能电池的方法包括:在半导体基底上形成具有第一导电类型的掺杂部分;在半导体基底上生长氧化物层;在氧化物层中形成多个凹进部分;在半导体基底上进一步生长氧化物层;在半导体基底的与凹进部分对应的区域上形成具有第二导电类型的掺杂部分;形成电结合到具有第一导电类型的掺杂部分的第一导电电极;以及在半导体基底上形成电结合到具有第二导电类型的掺杂部分的第二导电电极,其中,具有第一导电类型的掺杂部分与具有第二导电类型的掺杂部分之间的间隙对应于通过进一步生长氧化物层形成的氧化物层的宽度。

    光伏装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103035779A

    公开(公告)日:2013-04-10

    申请号:CN201210273503.7

    申请日:2012-08-02

    CPC classification number: Y02E10/50 Y02P70/521

    Abstract: 提供了一种光伏装置及其制造方法。这里,在半导体基底的表面上形成基极部分和发射体部分。在基极部分和发射体部分上形成绝缘层。绝缘层具有多个通孔,以部分地暴露基极部分和发射体部分。第一电极被形成为通过至少一个通孔接触发射体部分的区域,第二电极被形成为通过至少另一个通孔接触基极部分的区域。然后,在第二电极的汇流电极部分处设置切割线,并沿着切割线在基极部分处将半导体基底分为至少两个光伏装置。

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