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公开(公告)号：CN1824825A
公开(公告)日：2006-08-30
申请号：CN200610000428.1
申请日：2006-01-05
申请人： 三星SDI株式会社
IPC分类号： C23C14/04 , C23C16/04 , H01L21/203 , H01L21/205
CPC分类号： C23C14/042 , H01L51/0011 , Y10T29/49867
摘要： 公开的是一种在罩板片上形成图案的方法，该罩板片包括要附着到罩板框的附着部分，以及在其中形成图案的图案区域。该方法包括：将罩板片置于比该罩板片厚的辅助片上；将辅助片固定到罩板框；将拉伸力施加到罩板片和辅助片；并在罩板片的图案区域上形成图案。这样，当均匀分布的外力被施加到罩板片上时，就会在罩板片上形成预定的图案，因此可以防止罩板片的弯曲或偏离平面，从而形成精确的罩板图案。
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公开(公告)号：CN1740378A
公开(公告)日：2006-03-01
申请号：CN200510093332.X
申请日：2005-08-25
申请人： 三星SDI株式会社
摘要： 本发明提供一种将基片直立为约垂直的状态下蒸镀有机物而形成有机薄膜的有机物蒸镀装置，以此不仅可以适用于大型基片，而且可以形成厚度均匀的有机薄膜。本发明所提供的有机物蒸镀装置，包含：室，用于形成壳体并使基片相对地面保持在70°至110°角度；有机物存入部，由用于接收需要蒸镀所述基片上有机物的至少一个有机物存入处组成；有机物喷嘴部，用于喷射需要蒸镀到所述基片上的有机物；连接管道，用于连接所述有机物喷嘴部和有机物存入部；移送装置，用于在所述有机物存入部、有机物喷嘴部和连接管道之中至少可以将所述有机物喷嘴部按垂直方向移动。
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公开(公告)号：CN1800435A
公开(公告)日：2006-07-12
申请号：CN200610000430.9
申请日：2006-01-05
申请人： 三星SDI株式会社
CPC分类号： G03F9/7038 , G03F7/70791 , G03F9/7088
摘要： 一种用于对准基板和罩板的装置以及使用该装置的方法，其中该装置包括：在基板和罩板的未使用部分中的对准标记，用于在基板与罩板对准时确定对准标记重叠的传感单元，以及用于根据由传感单元所测量和确定的数据而控制对准过程重复进行的控制单元。传感单元可以包括：位于拍摄范围之内以确定对准标记的任何对准误差的照相机。根据本发明的另一实施例，测量基板和罩板间的对准误差来确定该对准误差是否可以接受。当该对准误差不可接受时，重复进行对准基板和罩板的操作，直至对准误差可以接受为止。
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公开(公告)号：CN1789484A
公开(公告)日：2006-06-21
申请号：CN200510108161.3
申请日：2005-10-09
申请人： 三星SDI株式会社
摘要： 本发明涉及串列形式的薄膜蒸镀系统，提供一种通过固定并支持基片而实现垂直蒸镀、并移送中使微细粒子的影响最小而可以充分确保掩模板平面度的校正系统、垂直型盘移送装置和具有该装置的蒸镀装置。本发明的解决手段为包含：垂直固定基片(10)的基片盘(100)；为了与所述基片盘(100)相校正而垂直固定掩模板(30)的掩模盘(300)；通过联接部联接所述基片盘(100)和掩模盘(300)的盘支座(500)。
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公开(公告)号：CN100373541C
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200610000330.6
申请日：2006-01-04
申请人： 三星SDI株式会社
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/20 , H01L21/683 , C23C14/04 , C23C16/04
摘要： 本发明提供一种夹盘组件，包括：荫罩，形成有预定的图案；荫罩框架，支持所述荫罩并具有热辐射和冷却功能；基底，与荫罩对齐并且来自沉积源的沉积材料被沉积在其上；夹盘，将所述基底附在荫罩上，该夹盘包括冷却剂循环管。考虑荫罩的温度优化基底的温度，从而由于热变形导致的对齐误差被最小化。即，防止荫罩本身的温度上升，从而防止由于热膨胀导致的荫罩的变形，提高了基底图案位置的精确度。
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公开(公告)号：CN1952206A
公开(公告)日：2007-04-25
申请号：CN200610140238.X
申请日：2006-10-20
申请人： 三星SDI株式会社
CPC分类号： C23C14/24 , C23C14/12 , C23C14/243 , C23C14/541
摘要： 本发明提供了一种用于沉积薄膜的设备和方法，该设备包括：处理室，具有膜形成部分和沉积防止部分，沉积防止部分在膜形成部分的周边；蒸发源，与处理室流动相通，用于容纳沉积材料；吸热板，形成在处理室的沉积防止部分中，其中，吸热板设置成围绕位于处理室的膜形成部分中的基底。
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公开(公告)号：CN1805119A
公开(公告)日：2006-07-19
申请号：CN200610000330.6
申请日：2006-01-04
申请人： 三星SDI株式会社
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/20 , H01L21/683 , C23C14/04 , C23C16/04
摘要： 本发明提供一种夹盘组件，包括：阴罩，形成有预定的图案；阴罩框架，支持所述阴罩并具有热辐射和冷却功能；基底，与阴罩对齐并且来自沉积源的沉积材料被沉积在其上；夹盘，将所述基底附在阴罩上，该夹盘包括冷却剂循环管。考虑阴罩的温度优化基底的温度，从而由于热变形导致的对齐误差被最小化。即，防止阴罩本身的温度上升，从而防止由于热膨胀导致的阴罩的变形，提高了基底图案位置的精确度。
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公开(公告)号：CN1800970A
公开(公告)日：2006-07-12
申请号：CN200510092324.3
申请日：2005-08-26
申请人： 三星SDI株式会社
IPC分类号： G03F1/00 , G03F7/00 , H01L21/027
摘要： 本发明提供一种遮蔽掩模图案的形成方法，其在施加有拉力的状态下首先焊接在掩模框上，利用激光形成蒸镀图案，由此容易制作大面积的掩模，并且加工步骤及设备简单，能够缩短加工时间。本发明的遮蔽掩模图案的形成方法包括使遮蔽掩模(10)附着在掩模框(20)上的步骤、在所述已附着的遮蔽掩模(10)上形成图案的步骤，另外，使所述遮蔽掩模(10)附着在所述掩模框(20)上的步骤包括使所述遮蔽掩模(10)与所述掩模框(20)邻接的步骤、向所述遮蔽掩模(10)施加外力的步骤、在所述掩模框(20)上接合施加有外力的所述遮蔽掩模(10)的步骤。
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公开(公告)号：CN1800443A
公开(公告)日：2006-07-12
申请号：CN200510117051.3
申请日：2005-10-31
申请人： 三星SDI株式会社
CPC分类号： H01L21/68728 , H01L21/68735 , H01L21/68778 , Y10S414/136 , Y10S414/141 , Y10T29/53265
摘要： 本发明提供一种基片固定盘，为了在真空工程用垂直基片固定盘的平板面上固定和支持所述基片，包含至少一部分以上基片固定单元，并且，通过固定和支持垂直布置的基片，可以进行高精度的校正和更加稳定的蒸镀工艺。基片固定盘(60)及利用该基片固定盘(60)的基片校正系统及其方法，包含被蒸镀蒸镀物的基片(10)、用于容纳所述基片(10)的框架(70)、用于容纳所述框架(70)而构成的盘(60)、用于在所述框架(70)上固定和支持所述基片(10)而构成的至少一个以上基片固定单元(110)。
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公开(公告)号：CN1800436A
公开(公告)日：2006-07-12
申请号：CN200610000431.3
申请日：2006-01-05
申请人： 三星SDI株式会社
摘要： 一种用于对准托盘和托盘固定器的装置，包括：形成的带有连接孔的垂直定位的托盘，以及具有连接臂以与这些连接孔连接并且防止托盘和托盘固定器弯曲的托盘固定器。该托盘包括能够容纳基板的基板框，并且该托盘固定器与驱动轴连接，以将垂直位置的托盘传送到用于汽相淀积的罩板。多个导引轴的一端可靠接触托盘固定器的后侧，以防止该托盘固定器弯曲。该托盘可以具有磁连接部件，并且该托盘固定器可以具有对应于这些连接部件的支撑部件。这些支撑部件能够在由相应凹槽或突起决定的位置与连接部件磁连接，以对准托盘和托盘固定器。
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