公开(公告)号：CN106458828A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201580028245.8

申请日：2015-06-04

Applicant: 三菱丽阳株式会社

Inventor： 后藤晃宏 ,  加门良启

IPC: C07C51/54 ,  C07C53/00 ,  C07C57/02 ,  C07B61/00

Abstract: 本发明提供一种在无溶剂且室温左右的温度的情况下也以高收率由各种羧酸得到对应的羧酸酐和羧酸酯的制造方法。一种下述式(II)表示的羧酸酐的制造方法，使下述式(I)表示的化合物与羧酸在具有含有氧原子的离子性配体的第2族金属化合物的存在下反应。一种羧酸酯的制造方法，使通过上述方法制造的羧酸酐与醇反应。式(I)中，R1表示碳原子数1～20的烃基。式(II)中，R2表示碳原子数1～20的烃基。

公开(公告)号：CN1737000A

公开(公告)日：2006-02-22

申请号：CN200510090805.0

申请日：2002-10-22

Applicant: 三菱丽阳株式会社

Inventor： 安齐龙一 ,  加门良启 ,  藤原匡之 ,  桑野英昭 ,  大竹敦 ,  百濑阳

IPC: C07D317/34 ,  C07D317/72 ,  C07D319/06 ,  C07D319/08 ,  C07D325/00 ,  C08G63/00 ,  G03F7/00

CPC classification number: C07D317/72 ,  C07D317/18 ,  C07D317/34 ,  C07D317/42 ,  C08F20/30 ,  C08F24/00 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/143

Abstract: 本发明的目的在于提供一种新型单聚物及其制造方法，该单聚物具有适合与其它单聚物共聚合的聚合特性，并可获得优良的光透性及热稳定性；灵敏度、分辨率不损失及耐干腐蚀抗腐蚀剂性能、与有机溶剂的溶解性优良、线性边缘粗糙度小；并提供一种形成方法，该方法适合远紫外光准分子激光器光刻及电子线光刻等的抗蚀剂组成物，以及用该抗蚀剂组成物的图谱(样品)。

公开(公告)号：CN1737000B

公开(公告)日：2013-04-24

申请号：CN200510090805.0

申请日：2002-10-22

Applicant: 三菱丽阳株式会社

Inventor： 安齐龙一 ,  加门良启 ,  藤原匡之 ,  桑野英昭 ,  大竹敦 ,  百濑阳

IPC: C07D317/34 ,  C07D317/72 ,  C07D319/06 ,  C07D319/08 ,  C07D325/00 ,  C08G63/00 ,  G03F7/00

CPC classification number: C07D317/72 ,  C07D317/18 ,  C07D317/34 ,  C07D317/42 ,  C08F20/30 ,  C08F24/00 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/143

Abstract: 本发明的目的在于提供一种新型单聚物及其制造方法，该单聚物具有适合与其它单聚物共聚合的聚合特性，并可获得优良的光透性及热稳定性；灵敏度、分辨率不损失及耐干腐蚀抗腐蚀剂性能、与有机溶剂的溶解性优良、线性边缘粗糙度小；并提供一种形成方法，该方法适合远紫外光准分子激光器光刻及电子线光刻等的抗蚀剂组成物，以及用该抗蚀剂组成物的图谱(样品)。

公开(公告)号：CN100453539C

公开(公告)日：2009-01-21

申请号：CN02146580.0

申请日：2002-10-22

Applicant: 三菱丽阳株式会社

Inventor： 安齐龙一 ,  加门良启 ,  藤原匡之 ,  桑野英昭 ,  大竹敦 ,  百濑阳

IPC: C07D317/34 ,  C07D317/72 ,  C07D319/06 ,  C07D319/08 ,  C07D325/00 ,  C09D199/00 ,  C09D5/08

CPC classification number: C07D317/72 ,  C07D317/18 ,  C07D317/34 ,  C07D317/42 ,  C08F20/30 ,  C08F24/00 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/143

Abstract: 本发明的目的在于提供一种新型单聚物及其制造方法，该单聚物具有适合与其它单聚物共聚合的聚合特性，并可获得优良的光透性及热稳定性；灵敏度、分辨率不损失及耐干腐蚀抗腐蚀剂性能、与有机溶剂的溶解性优良、线性边缘粗糙度小；并提供一种形成方法，该方法适合远紫外光准分子激光器石印及电子线石印等的抗蚀剂组合物，以及用该抗蚀剂组合物的图谱(样品)。

公开(公告)号：CN1413992A

公开(公告)日：2003-04-30

申请号：CN02146580.0

申请日：2002-10-22

Applicant: 三菱丽阳株式会社

Inventor： 安齐龙一 ,  加门良启 ,  藤原匡之 ,  桑野英昭 ,  大竹敦 ,  百濑阳

IPC: C07D317/34 ,  C07D317/72 ,  C07D319/06 ,  C07D319/08 ,  C07D325/00 ,  C09D199/00 ,  C09D5/08

CPC classification number: C07D317/72 ,  C07D317/18 ,  C07D317/34 ,  C07D317/42 ,  C08F20/30 ,  C08F24/00 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/143

Abstract: 本发明的目的在于提供一种新型单聚物及其制造方法，该单聚物具有适合与其它单聚物共聚合的聚合特性，并可获得优良的光透性及热稳定性；灵敏度、分辨率不损失及耐干腐蚀抗腐蚀剂性能、与有机溶剂的溶解性优良、线性边缘粗糙度小；并提供一种形成方法，该方法适合远紫外光准分子激光器石印及电子线石印等的抗蚀剂组成物，以及用该抗蚀剂组成物的图谱(样品)。