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公开(公告)号：CN104254443A
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN201380021918.8
申请日：2013-04-24
Applicant: 三菱丽阳株式会社
CPC classification number: C09D133/12 , B05D3/067 , C08J7/047 , C08J7/18 , C08J2369/00 , C09D175/04
Abstract: 一种层积体，其在基材上具有固化性组合物形成的固化层，所述固化性组合物含有(A)热和/或紫外线固化性树脂以及(B)具有可与(A)键合的官能团的无机微粒使用红外分光光度计通过单次反射ATR法测定得到在波数1730cm-1附近的吸收峰PC＝O与1100cm-1附近的吸收峰PSi-O的吸光度比PC＝O/PSi-O在0.15～0.35的范围。
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公开(公告)号：CN103562211A
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN201280025277.9
申请日：2012-05-22
Applicant: 三菱丽阳株式会社
IPC: C07F7/08 , C08G77/08 , C09D7/12 , C09D183/00
CPC classification number: C09D183/04 , C07F7/0874 , C08G77/045 , C08G77/08
Abstract: 本发明的目的是提供环状体量少、且高分子量的硅氧烷低聚物的制造方法。本发明的一个方式是一种硅氧烷低聚物的制造方法，其特征在于，使用规定式表示的2-羟基羧酸化合物作为催化剂，水解并缩合烷氧基硅烷。通过本发明的制造方法，可以合成具有环状体结构的硅氧烷的含量少，且分子量高的硅氧烷低聚物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1737000A
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：CN200510090805.0
申请日：2002-10-22
Applicant: 三菱丽阳株式会社
IPC: C07D317/34 , C07D317/72 , C07D319/06 , C07D319/08 , C07D325/00 , C08G63/00 , G03F7/00
CPC classification number: C07D317/72 , C07D317/18 , C07D317/34 , C07D317/42 , C08F20/30 , C08F24/00 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/143
Abstract: 本发明的目的在于提供一种新型单聚物及其制造方法，该单聚物具有适合与其它单聚物共聚合的聚合特性，并可获得优良的光透性及热稳定性；灵敏度、分辨率不损失及耐干腐蚀抗腐蚀剂性能、与有机溶剂的溶解性优良、线性边缘粗糙度小；并提供一种形成方法，该方法适合远紫外光准分子激光器光刻及电子线光刻等的抗蚀剂组成物，以及用该抗蚀剂组成物的图谱(样品)。
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公开(公告)号：CN104254443B
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：CN201380021918.8
申请日：2013-04-24
Applicant: 三菱丽阳株式会社
CPC classification number: C09D133/12 , B05D3/067 , C08J7/047 , C08J7/18 , C08J2369/00 , C09D175/04
Abstract: 一种层积体，其在基材上具有固化性组合物形成的固化层，所述固化性组合物含有(A)热和/或紫外线固化性树脂以及(B)具有可与(A)键合的官能团的无机微粒使用红外分光光度计通过单次反射ATR法测定得到在波数1730cm-1附近的吸收峰PC＝O与1100cm-1附近的吸收峰PSi-O的吸光度比PC＝O/PSi-O在0.15～0.35的范围。
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公开(公告)号：CN1737000B
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN200510090805.0
申请日：2002-10-22
Applicant: 三菱丽阳株式会社
IPC: C07D317/34 , C07D317/72 , C07D319/06 , C07D319/08 , C07D325/00 , C08G63/00 , G03F7/00
CPC classification number: C07D317/72 , C07D317/18 , C07D317/34 , C07D317/42 , C08F20/30 , C08F24/00 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/143
Abstract: 本发明的目的在于提供一种新型单聚物及其制造方法，该单聚物具有适合与其它单聚物共聚合的聚合特性，并可获得优良的光透性及热稳定性；灵敏度、分辨率不损失及耐干腐蚀抗腐蚀剂性能、与有机溶剂的溶解性优良、线性边缘粗糙度小；并提供一种形成方法，该方法适合远紫外光准分子激光器光刻及电子线光刻等的抗蚀剂组成物，以及用该抗蚀剂组成物的图谱(样品)。
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公开(公告)号：CN100453539C
公开(公告)日：2009-01-21
申请号：CN02146580.0
申请日：2002-10-22
Applicant: 三菱丽阳株式会社
IPC: C07D317/34 , C07D317/72 , C07D319/06 , C07D319/08 , C07D325/00 , C09D199/00 , C09D5/08
CPC classification number: C07D317/72 , C07D317/18 , C07D317/34 , C07D317/42 , C08F20/30 , C08F24/00 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/143
Abstract: 本发明的目的在于提供一种新型单聚物及其制造方法，该单聚物具有适合与其它单聚物共聚合的聚合特性，并可获得优良的光透性及热稳定性；灵敏度、分辨率不损失及耐干腐蚀抗腐蚀剂性能、与有机溶剂的溶解性优良、线性边缘粗糙度小；并提供一种形成方法，该方法适合远紫外光准分子激光器石印及电子线石印等的抗蚀剂组合物，以及用该抗蚀剂组合物的图谱(样品)。
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公开(公告)号：CN1413992A
公开(公告)日：2003-04-30
申请号：CN02146580.0
申请日：2002-10-22
Applicant: 三菱丽阳株式会社
IPC: C07D317/34 , C07D317/72 , C07D319/06 , C07D319/08 , C07D325/00 , C09D199/00 , C09D5/08
CPC classification number: C07D317/72 , C07D317/18 , C07D317/34 , C07D317/42 , C08F20/30 , C08F24/00 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/143
Abstract: 本发明的目的在于提供一种新型单聚物及其制造方法，该单聚物具有适合与其它单聚物共聚合的聚合特性，并可获得优良的光透性及热稳定性；灵敏度、分辨率不损失及耐干腐蚀抗腐蚀剂性能、与有机溶剂的溶解性优良、线性边缘粗糙度小；并提供一种形成方法，该方法适合远紫外光准分子激光器石印及电子线石印等的抗蚀剂组成物，以及用该抗蚀剂组成物的图谱(样品)。
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