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公开(公告)号：CN102471387B
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：CN201080031198.X
申请日：2010-07-07
Applicant: 三菱丽阳株式会社
IPC: C08F2/00 , C08F220/10 , G03F7/26
CPC classification number: C08F24/00 , C08F2/00 , C08F297/026 , C08F2500/06 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/085
Abstract: 本发明提供一种聚合物的制造方法，所述聚合物可改善共聚物中构成单元的含有比率的分散性、以及分子量的分散性，能提高在溶剂中的溶解性、以及在抗蚀剂组合物中使用时的灵敏度。所述制造方法具有聚合工序，其中，一边向反应器内滴入单体以及聚合引发剂，一边聚合2种以上单体而得到聚合物，在聚合工序的初期供给第1溶液，所述第1溶液按照第1组成含有单体。在开始供给第1溶液之后或者开始供给的同时，开始滴入第2溶液，所述第2溶液按照第2组成含有单体。第2组成与计划得到的聚合物的目标组成相同，第1组成是考虑到目标组成和聚合中使用的各单体的反应性预先求出的组成。另外，在聚合工程的初期加大聚合引发剂的滴入速度。
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公开(公告)号：CN103619889A
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：CN201280026483.1
申请日：2012-05-30
Applicant: 三菱丽阳株式会社
IPC: C08F2/38 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: C08F2/38 , C08F4/04 , C08F20/18 , C08F220/18 , C08F2438/03 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 本发明将向反应器内至少供应单体和链转移剂、且反应器内的液体温度达到预先设定的聚合温度的时刻作为开始时刻T0，将开始进行令聚合反应停止的操作的时刻作为结束时刻T1。在从T0至即将到达[(T1-T0)/2]之前期间以及在从[(T1-T0)/2]至T1期间，向反应器内供应聚合引发剂。将从T0至T1供应的聚合引发剂的总质量设为IA，从[(T1-T0)/2]至T1供应的聚合引发剂的总质量设为IB。IA是聚合引发剂的总量中的50～100质量%，通过满足0.50＜IB/IA＜1.00的制造方法，能以高聚合率制造在聚合物末端残存的链转移剂残基减少、分子量的偏差改善的聚合物。
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公开(公告)号：CN103154042B
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：CN201180050339.7
申请日：2011-10-14
Applicant: 三菱丽阳株式会社
IPC: C08F2/04 , G01N24/08 , G01R33/32 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/004 , C08F2/00 , C08F120/28 , C08F220/18 , C08F220/20 , C08F220/28 , C08F2220/283 , C08F2400/02 , G01N24/085 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20
Abstract: 在目标变量分析部(11)根据单体单元的共聚合反应性比算出已知共聚物样本的组成中单体单元的三元组分数从而求得目标变量，在波形处理部(12)进行NMR测定以及信号等的处理，在解释变量分析部(13)根据该已知样本的NMR测定中化学位移量以及信号强度得出解释变量，在模型建立部(14)根据偏最小二乘回归求得目标变量和解释变量的回归模型的回归式，求得回归模型的因子，在样本解析部(15)用所述回归模型，根据未知样本共聚物的NMR测定中的化学位移量和信号强度，用算出该未知样本中三元组分数的方法算出。通过使用这样得到的三元组分数的合计是共聚物中20摩尔％以下的光刻技术用共聚物，能够制备溶解性以及灵敏度优异的抗蚀剂组合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103154042A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201180050339.7
申请日：2011-10-14
Applicant: 三菱丽阳株式会社
IPC: C08F2/04 , G01N24/08 , G01R33/32 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/004 , C08F2/00 , C08F120/28 , C08F220/18 , C08F220/20 , C08F220/28 , C08F2220/283 , C08F2400/02 , G01N24/085 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20
Abstract: 在目标变量分析部(11)根据单体单元的共聚合反应性比算出已知共聚物样本的组成中单体单元的三元组分数从而求得目标变量，在波形处理部(12)进行NMR测定以及信号等的处理，在解释变量分析部(13)根据该已知样本的NMR测定中化学位移量以及信号强度得出解释变量，在模型建立部(14)根据偏最小二乘回归求得目标变量和解释变量的回归模型的回归式，求得回归模型的因子，在样本解析部(15)用所述回归模型，根据未知样本共聚物的NMR测定中的化学位移量和信号强度，用算出该未知样本中三元组分数的方法算出。通过使用这样得到的三元组分数的合计是共聚物中20摩尔％以下的光刻技术用共聚物，能够制备溶解性以及灵敏度优异的抗蚀剂组合物。
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公开(公告)号：CN102471387A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080031198.X
申请日：2010-07-07
Applicant: 三菱丽阳株式会社
IPC: C08F2/00 , C08F220/10 , G03F7/26
CPC classification number: C08F24/00 , C08F2/00 , C08F297/026 , C08F2500/06 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/085
Abstract: 本发明提供一种聚合物的制造方法，所述聚合物可改善共聚物中构成单元的含有比率的分散性、以及分子量的分散性，能提高在溶剂中的溶解性、以及在抗蚀剂组合物中使用时的灵敏度。所述制造方法具有聚合工序，其中，一边向反应器内滴入单体以及聚合引发剂，一边聚合2种以上单体而得到聚合物，在聚合工序的初期供给第1溶液，所述第1溶液按照第1组成含有单体。在开始供给第1溶液之后或者开始供给的同时，开始滴入第2溶液，所述第2溶液按照第2组成含有单体。第2组成与计划得到的聚合物的目标组成相同，第1组成是考虑到目标组成和聚合中使用的各单体的反应性预先求出的组成。另外，在聚合工程的初期加大聚合引发剂的滴入速度。
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公开(公告)号：CN104159937B
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201380012848.X
申请日：2013-03-05
Applicant: 三菱丽阳株式会社
IPC: C08F220/12 , C08F2/00 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: C08F24/00 , C08F220/18 , C08F220/20 , C09D4/00 , G03F7/004 , G03F7/0397 , G03F7/20
Abstract: 一种光刻用共聚物，具有含有酸离去基团的单体单元和不含酸离去基团的单体单元，将在通过GPC得到的洗脱曲线中显示出共聚物涉及的色谱峰的洗脱液，按照洗脱顺序，分成体积均等的5个组分，其中，将最先洗脱的第1个至第4个的各组分中所含有的共聚物中的含有酸离去基团的单体单元的比率设为N(v1)～N(v4)摩尔％、5个组分合计所含有的共聚物中的含有酸离去基团的单体单元的比率设为Nave摩尔％时，N(v1)/Nave为1.01～1.09，N(v2)/Nave、N(v3)/Nave及N(v4)/Nave均为0.95～1.05。
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公开(公告)号：CN103619889B
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：CN201280026483.1
申请日：2012-05-30
Applicant: 三菱丽阳株式会社
IPC: C08F2/38 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: C08F2/38 , C08F4/04 , C08F20/18 , C08F220/18 , C08F2438/03 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 本发明将向反应器内至少供应单体和链转移剂、且反应器内的液体温度达到预先设定的聚合温度的时刻作为开始时刻T0，将开始进行令聚合反应停止的操作的时刻作为结束时刻T1。在从T0至即将到达[(T1-T0)/2]之前期间以及在从[(T1-T0)/2]至T1期间，向反应器内供应聚合引发剂。将从T0至T1供应的聚合引发剂的总质量设为IA，从[(T1-T0)/2]至T1供应的聚合引发剂的总质量设为IB。IA是聚合引发剂的总量中的50～100质量%，通过满足0.50＜IB/IA＜1.00的制造方法，能以高聚合率制造在聚合物末端残存的链转移剂残基减少、分子量的偏差改善的聚合物。
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公开(公告)号：CN104159937A
公开(公告)日：2014-11-19
申请号：CN201380012848.X
申请日：2013-03-05
Applicant: 三菱丽阳株式会社
IPC: C08F220/12 , C08F2/00 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: C08F24/00 , C08F220/18 , C08F220/20 , C09D4/00 , G03F7/004 , G03F7/0397 , G03F7/20
Abstract: 一种光刻用共聚物，具有含有酸离去基团的单体单元和不含酸离去基团的单体单元，将在通过GPC得到的洗脱曲线中显示出共聚物涉及的色谱峰的洗脱液，按照洗脱顺序，分成体积均等的5个组分，其中，将最先洗脱的第1个至第4个的各组分中所含有的共聚物中的含有酸离去基团的单体单元的比率设为N(v1)～N(v4)摩尔％、5个组分合计所含有的共聚物中的含有酸离去基团的单体单元的比率设为Nave摩尔％时，N(v1)/Nave为1.01～1.09，N(v2)/Nave、N(v3)/Nave及N(v4)/Nave均为0.95～1.05。
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