公开(公告)号：CN110325501A

公开(公告)日：2019-10-11

申请号：CN201880012865.6

申请日：2018-02-21

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 三树泰 ,  牧野岛高史 ,  越后雅敏

IPC: C07C39/15 ,  C07C39/17 ,  G03F7/023 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  G03F7/039

Abstract: 本申请提供：对形成溶剂溶解性优异、能用于湿式工艺、耐热性和耐蚀刻性优异的光刻用膜有用的化合物、树脂和组合物。另外，提供：使用该组合物的图案形成方法。进而，提供：该化合物和树脂的纯化方法。使用含有具有特定结构的化合物和/或具有源自该化合物的结构单元的树脂的组合物。

公开(公告)号：CN103917364A

公开(公告)日：2014-07-09

申请号：CN201280054747.4

申请日：2012-11-08

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 末永修也 ,  三树泰

IPC: B32B9/00 ,  B32B18/00 ,  B32B27/34 ,  B32B37/00 ,  B32B38/00

CPC classification number: B32B33/00 ,  B05D3/0254 ,  B05D2505/50 ,  B32B27/00 ,  B32B2037/243 ,  B32B2307/306 ,  B32B2307/412 ,  B32B2307/7242 ,  B32B2379/08 ,  C08J7/045 ,  C08J7/047 ,  C08J2379/08 ,  C08J2483/16 ,  C23C18/1208 ,  C23C18/1212

Abstract: 本发明提供具有良好的阻气性且不需要大型设备、大量的工序，能够简便并且低成本地制造，即便在250℃以上进行热处理也具有良好的物性的透明耐热阻气性薄膜的制造方法。所述透明耐热阻气性薄膜的制造方法包括在由具有特定结构的重复单元的聚酰亚胺形成的透明聚酰亚胺薄膜的至少一侧的面上涂布包含聚硅氮烷的溶液之后，在180℃以上的温度下进行焙烧从而层叠硅氧化物层的工序。

公开(公告)号：CN111373326A

公开(公告)日：2020-07-03

申请号：CN201880074961.3

申请日：2018-11-16

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 牧野岛高史 ,  越后雅敏 ,  三树泰

IPC: G03F7/11 ,  C08G10/02 ,  C08G10/04 ,  G03F7/027 ,  G03F7/031 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

Abstract: 本发明的光刻用膜形成用组合物包含选自由如下树脂组成的组中的至少1种：具有取代或无取代的苯环的芳香族烃与甲醛的缩合反应物即芳香族烃甲醛树脂、和将前述芳香族烃甲醛树脂改性而成的改性芳香族烃甲醛树脂。

公开(公告)号：CN110856451A

公开(公告)日：2020-02-28

申请号：CN201880042266.9

申请日：2018-06-25

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 三树泰 ,  越后雅敏

IPC: G03F7/004 ,  C07D251/24 ,  C09D7/63 ,  C09D201/00 ,  G03F7/023 ,  G03F7/027 ,  G03F7/032 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

Abstract: 提供能够适用湿式工艺，用于形成耐热性、抗蚀图案形状、蚀刻耐性、对高低基板的埋入特性和膜的平坦性优异的光刻用膜，耐热性、透明性和折射率优异的光学部件等的含有下述式(1)所示的三嗪系化合物的膜形成材料。