公开(公告)号：CN119317879A

公开(公告)日：2025-01-14

申请号：CN202380048234.0

申请日：2023-07-03

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 冈田拓巳 ,  星野良辅 ,  佐藤英之 ,  片桐诚之 ,  铃木周 ,  越后雅敏

IPC: G03F7/42 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

Abstract: 利用本发明，提供一种含有包含下述通式（b－1）所示的化合物（B1）的溶剂（B）的稀释剂组合物〔下述式（b－1）中，R0为碳原子数1～10的烷基、碳原子数6～10的芳基或碳原子数1～10的酰基，R1为氢原子或碳原子数1～10的烷基〕。#imgabs0#

公开(公告)号：CN115968391B

公开(公告)日：2024-04-26

申请号：CN202180048505.3

申请日：2021-07-08

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 山本拓央 ,  松浦耕大 ,  堀内淳矢 ,  岩崎敦子 ,  牧野岛高史 ,  越后雅敏

IPC: C09D165/00 ,  H01L21/027 ,  G03F7/26 ,  G03F7/20 ,  G03F7/16 ,  G03F7/11 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/023 ,  G03F7/004 ,  C08L61/34 ,  C08G61/02

Abstract: 一种膜形成用组合物，其包含多环多酚树脂，所述多环多酚树脂具有源自选自由式(1‑0)、(1A)、及(1B)所示的芳香族羟基化合物组成的组中的至少1种单体的重复单元，所述重复单元彼此通过芳香环彼此的直接键合而连接。#imgabs0#

公开(公告)号：CN110637256B

公开(公告)日：2024-01-09

申请号：CN201880032121.0

申请日：2018-05-14

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 冈田佳奈 ,  堀内淳矢 ,  牧野岛高史 ,  越后雅敏

IPC: G03F7/11 ,  C08F22/40 ,  C08L101/02 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

Abstract: 本发明提供光刻用膜形成材料，其包含具有下述式(0)的基团的化合物。

公开(公告)号：CN116710500A

公开(公告)日：2023-09-05

申请号：CN202280010691.6

申请日：2022-01-11

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 松浦耕大 ,  堀内淳矢 ,  冈田悠 ,  大松祯 ,  越后雅敏

IPC: C08G61/02

Abstract: 一种聚合物，其具有源自下述式(0)所示单体的结构单元，所述聚合物具有前述结构单元彼此通过前述式(0)所示的单体的芳香环彼此的直接键合而连接的部位。(式(0)中，R为1价的基团，m为1～5的整数，其中，至少1个R为羟基、任选具有取代基的碳数1～40的烷氧基、或任选具有取代基的碳数0～40的氨基。)

公开(公告)号：CN108137478B

公开(公告)日：2021-09-28

申请号：CN201680052524.2

申请日：2016-09-08

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 樋田匠 ,  清水洋子 ,  牧野嶋高史 ,  佐藤隆 ,  越后雅敏

IPC: C07C69/96 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11 ,  C07C39/15 ,  C07C39/367

Abstract: 使用下述式(1)所示的化合物和/或包含该化合物作为构成成分的树脂。(式(1)中，R1为碳数1～60的2n价基团或单键，R2～R5各自独立地为碳数1～10的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数1～30的烷氧基、卤素原子、硫醇基、羟基或羟基的氢原子被酸解离性基团取代而成的基团，其中，选自R2～R5的至少1个为羟基的氢原子被酸解离性基团取代而成的基团，m2和m3各自独立地为0～8的整数，m4和m5各自独立地为0～9的整数，其中，m2、m3、m4以及m5不同时为0，n为1～4的整数，p2～p5各自独立地为0～2的整数。)

公开(公告)号：CN113227028A

公开(公告)日：2021-08-06

申请号：CN201980086268.2

申请日：2019-12-23

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 大松祯 ,  松本正裕 ,  由利道裕 ,  片冈健太郎 ,  佐藤隆 ,  越后雅敏

IPC: C07C33/46 ,  C07C69/653 ,  C08F20/22 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  C07C67/14

Abstract: 本发明的目的在于，提供可形成具有高分辨率且高灵敏度的膜的组合物等。前述目的可以通过以下的化合物来达成。一种含碘(甲基)丙烯酸酯化合物，其由通式(1)表示。(式(1)中，R1表示氢原子、甲基、或卤素，R2各自独立地表示氢原子、碳数1～20的直链状的有机基团、碳数3～20的支链状的有机基团、或碳数3～20的环状的有机基团，A表示碳数1～30的有机基团，n1表示0或1，n2表示1～20的整数。)

公开(公告)号：CN107924123B

公开(公告)日：2021-08-06

申请号：CN201680049043.6

申请日：2016-08-23

Applicant: 学校法人关西大学 ,  三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 工藤宏人 ,  越后雅敏 ,  樋田匠 ,  佐藤隆

IPC: G03F7/004 ,  C07C395/00 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种包含含有碲的化合物或含有碲的树脂的光刻用材料以及其的制造方法、光刻用组合物、图案形成方法、以及、化合物、树脂、以及它们的纯化方法。

公开(公告)号：CN113039177A

公开(公告)日：2021-06-25

申请号：CN201980075418.X

申请日：2019-11-21

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 山根正大 ,  山田弘一 ,  堀内淳矢 ,  牧野岛高史 ,  越后雅敏

IPC: C07D207/452 ,  C08G73/12 ,  C08F2/48 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

Abstract: 本发明提供一种光刻用膜形成材料，其包含：具有式(0A)的基团和式(0B)的基团的化合物(式(0B)中，R各自独立地选自由氢原子和碳数1～4的烷基组成的组。其中，至少一个R为碳数1～4的烷基。)。

公开(公告)号：CN107428646B

公开(公告)日：2021-03-02

申请号：CN201680018256.2

申请日：2016-03-17

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 樋田匠 ,  越后雅敏 ,  牧野嶋高史

IPC: C07C39/367 ,  C07C37/72 ,  C07C41/38 ,  C07C43/23 ,  C08G8/20 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种下述式(1)所示的化合物。(式(1)中，R1表示碳数1～30的2n价基团，R2～R5各自独立地表示碳数1～10的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数1～30的烷氧基、卤素原子、巯基或羟基。其中，选自R1～R5中的至少一个表示包含碘原子的基团，R4中的至少一个和/或R5中的至少一个表示选自由羟基和巯基组成的组中的1种以上。m2和m3各自独立地表示0～8的整数，m4和m5各自独立地表示0～9的整数。其中，m4和m5不同时表示0。n表示1～4的整数，p2～p5各自独立地表示0～2的整数。)

公开(公告)号：CN112424283A

公开(公告)日：2021-02-26

申请号：CN201980047194.1

申请日：2019-07-31

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 冈田悠 ,  泷川具明 ,  牧野岛高史 ,  越后雅敏

IPC: C08L61/04 ,  C07C39/14 ,  C07D311/78 ,  C08G8/00 ,  C08G8/28 ,  G02B1/04

Abstract: 一种组合物，其含有多酚化合物(B)和溶剂，前述多酚化合物(B)为选自下述式(1)所示的化合物和具有下述式(2)所示结构的树脂中的至少一种。(前述式中，对于RY、RT、X、m、N、r、L如说明书中所记载。)